諾發(fā)推出介電材料處理UVTP系統(tǒng)

SOLA解決在300mm晶圓上的多種薄膜應(yīng)用；
多平臺順序處理結(jié)構(gòu)可以幫助半導(dǎo)體制造商提高成品率和降低制造成本

諾發(fā)系統(tǒng)有限公司近日推出了SOLA™—業(yè)界首套針對先進(jìn)介電薄膜的淀積后處理的紫外熱處理（UVTP）系統(tǒng)。SOLA為300mm晶圓的大批量生產(chǎn)而設(shè)計，可以滿足下一代消費(fèi)電子產(chǎn)品必需的新材料和制造技術(shù)的需求。

SOLA是實(shí)現(xiàn)許多先進(jìn)薄膜應(yīng)用的關(guān)鍵設(shè)備，其中包括晶體管水平高應(yīng)力氮化硅薄膜（HSN）和互連層致密性或多孔性低 –k介電材料。通過將紫外光與熱處理相結(jié)合，SOLA使薄膜材料的淀積后處理可在較低溫度下進(jìn)行，這是與其它新材料例如硅化鎳進(jìn)行整合時所需的必要工藝。將經(jīng)過等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積（PECVD）的晶圓送入SOLA后，晶圓就被暴露在均勻的紫外燈下以改變薄膜性質(zhì)。同時，晶圓被加熱至均勻溫度，通常為450 C或更低。對于HSN薄膜，SOLA的紫外輻射可以促進(jìn)鍵的重排和體積收縮，從而得到更高的應(yīng)力以增強(qiáng)器件性能。對于多孔低-k薄膜，紫外輻射有利于POROGEN的消除和介電薄膜機(jī)械強(qiáng)度的加強(qiáng)，從而有助于后續(xù)工藝處理。

SOLA獨(dú)特的紫外燈組合包括直線型雙燈管和光學(xué)反射系統(tǒng)。經(jīng)過最佳安排，SOLA可以為300mm晶圓提供均勻的紫外光輻射。這樣的安排可以將會導(dǎo)致不必要的晶片受熱和處理結(jié)果不均勻等后果的紅外（IR）線控制在最小程度。SOLA還具有多平臺順序處理（MSST）專利技術(shù)，該技術(shù)可以提供高處理能力和業(yè)界領(lǐng)先的處理不均勻程度（小于2%）。

SOLA還是市場上首套可獨(dú)立控制各處理平臺的紫外光強(qiáng)度、溫度和處理時間的UVTP系統(tǒng)。諾發(fā)公司高級副總裁兼PECVD和電鍍填充事業(yè)部總經(jīng)理Tim Archer說：“我們可以調(diào)節(jié)SOLA提供的輻射能量，以滿足各種薄膜材料處理的需要。盡管目前的應(yīng)用領(lǐng)域集中于多孔低-k薄膜和HSN薄膜，但我們預(yù)期可能會有其它薄膜材料也可以得益于SOLA的工藝靈活性?！?

同時，高生產(chǎn)率SOLA平臺還組合了獨(dú)特的凈化硬件，它可以將晶圓處理過程中的清理要求降到最低程度。在每次清理之前，SOLA可以處理100多片含POROGEN的晶圓,其凈化功效比行業(yè)平均水平高20倍。

諾發(fā)公司負(fù)責(zé)銷售、市場營銷和客戶滿意度的執(zhí)行副總裁Tom Caulfield博士說：“我們已經(jīng)向歐洲、北美和亞洲的客戶提供了SOLA系統(tǒng)。領(lǐng)先的集成器件制造商和代工廠告訴我們SOLA為前段（FEOL）和后段（BEOL）薄膜應(yīng)用提供了優(yōu)異的UVTP處理后性能?！?