DRAM產(chǎn)業(yè)走向低納米技術(shù) 成本縮減將放速

　　最近幾個(gè)季度DRAM產(chǎn)業(yè)在推低光刻節(jié)點(diǎn)方面比較積極，但在今年剩余時(shí)間內(nèi)力度將逐漸減弱。今年第一季度DRAM產(chǎn)業(yè)的加權(quán)平均節(jié)點(diǎn)從2010年第四季度的5.3%上升到5.6%，表明推動(dòng)DRAM技術(shù)遷移的力度在增大。。在此期間，成本降幅從7.8%增大至14.2%，晶圓成本下降情況與光刻工藝的變化相符。據(jù)IHS iSuppli公司的研究，隨著DRAM市場(chǎng)過渡到效率更高的低納米技術(shù)，該產(chǎn)業(yè)的成本削減及節(jié)省步伐從2012年開始將放緩。

　　IHS iSuppli公司的研究顯示，從第二季度開始，預(yù)計(jì)DRAM產(chǎn)業(yè)對(duì)于光刻工藝遷移的態(tài)度將不再那么積極，成本下降速度也將變慢。第二季度lithography reduction將下降到5.2%，第三季度下降到4.8%，第四季度降到3.7%。相應(yīng)地，成本削減幅度也將在第二季度下降到12%，第三和第四季度分別降至9和4%。

　　確實(shí)，DRAM產(chǎn)業(yè)正在經(jīng)歷幾種轉(zhuǎn)變，例如許多供應(yīng)商進(jìn)行戰(zhàn)略性調(diào)整，擺脫商品類DRAM;建立新的制造與代工聯(lián)盟;繼續(xù)向40納米及更先進(jìn)的工藝遷移。IHS公司認(rèn)為，所有這些因素都將對(duì)供需關(guān)系產(chǎn)生影響，進(jìn)而影響利潤(rùn)率和供應(yīng)商的利潤(rùn)。

　　IHS iSuppli公司的研究顯示，雖然DRAM成本下降可以來自光刻技術(shù)變化以外的其它因素，但那些額外考慮現(xiàn)在完全可以排除。其中一個(gè)因素是以擴(kuò)大規(guī)模效益為目的的產(chǎn)能增長(zhǎng)，該因素將受到限制，因?yàn)閺S商將繼續(xù)對(duì)專門用于產(chǎn)能擴(kuò)張的資本支出保持謹(jǐn)慎。另一個(gè)因素是運(yùn)營(yíng)效率，由于以前及目前的疲軟局面促使廠商的運(yùn)營(yíng)保持相對(duì)緊縮，該因素預(yù)計(jì)不會(huì)對(duì)未來的成本節(jié)省有太大影響。

　　令人意外的是，由于上一個(gè)繁榮周期利潤(rùn)率大幅上升，第一季度DRAM產(chǎn)業(yè)保持盈利狀態(tài)。上一個(gè)繁榮周期始于2009年第二季度，持續(xù)到一年以后結(jié)束。盡管DRAM平均銷售價(jià)格持續(xù)下降，但目前的周期符合歷史形態(tài)，隨著需求的起伏變化，芯片價(jià)格與DRAM廠商的利潤(rùn)也隨之波動(dòng)。

　　尤其是，預(yù)期中的成本下降將來自技術(shù)變化，DRAM芯片將越來越多地采用新型光刻設(shè)備和技術(shù)制造。從2010年第四季度到今年第一季度，推動(dòng)光刻工藝變化的主要廠商是Inotera和Rexchip，前者的平均光刻節(jié)點(diǎn)橫跨至50納米，而后者則前進(jìn)到了40納米。