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概倫電子在上海舉辦2011年技術(shù)研討會(huì)

—— -用于提升IC設(shè)計(jì)競爭力的良率導(dǎo)向設(shè)計(jì)技術(shù)
作者: 時(shí)間:2011-11-10 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

  電子科技有限公司(ProPlus Electronics Co., Ltd.)近日在上海浦東假日酒店舉辦了主題為“用于提升設(shè)計(jì)競爭力的良率導(dǎo)向設(shè)計(jì)技術(shù)”研討會(huì),來自集成電路制造企業(yè)、設(shè)計(jì)公司、高校與研究機(jī)構(gòu)等近一百五十位嘉賓出席了研討會(huì),共同分享了來自電子、中芯國際和IBM專家?guī)淼牧缶蕦n}演講。

本文引用地址:http://www.butianyuan.cn/article/125725.htm

  電子董事長兼總裁劉志宏博士在主題演講“電路仿真技術(shù)的挑戰(zhàn)和用于提升設(shè)計(jì)競爭力的良率導(dǎo)向設(shè)計(jì)技術(shù)”中,主要闡述了工藝漂移()對電路性能和最終產(chǎn)品良率(Yield)的影響越來越顯著,如何通過SPICE模型精確地評估工藝漂移,并通過快速準(zhǔn)確的統(tǒng)計(jì)仿真手段評估其對芯片性能和良率的影響,即在芯片設(shè)計(jì)階段就能針對不同應(yīng)用的需求進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計(jì),以提高流片成功率進(jìn)而提升最終產(chǎn)品的競爭力。

  

 

  概倫電子董事長兼總裁劉志宏博士

  

 

  研討會(huì)現(xiàn)場

  中芯國際副總裁李序武博士應(yīng)邀做了題為“工藝漂移及其影響”的專題演講,從集成電路制造和半導(dǎo)體工藝、結(jié)構(gòu)衍變及其工作原理的角度闡述了在先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)下制造和設(shè)計(jì)面臨的挑戰(zhàn),并強(qiáng)調(diào)了精確的模型和快速有效的EDA工具的重要性。來自IBM的拉杰夫·尤西博士應(yīng)邀從集成電路設(shè)計(jì)的角度向嘉賓闡釋了工藝漂移對SRAM等電路設(shè)計(jì)的影響,并展示了其先進(jìn)的統(tǒng)計(jì)分析技術(shù)在IBM的應(yīng)用。

  概倫電子執(zhí)行副總裁馬志堅(jiān)博士為來賓介紹了先進(jìn)工藝下SPICE模型的挑戰(zhàn),并從模型的驗(yàn)證、再校準(zhǔn)及其在電路設(shè)計(jì)中的應(yīng)用等角度進(jìn)行了深入的剖析。概倫電子副總裁楊廉峰博士在研討會(huì)中重點(diǎn)介紹了概倫電子良率導(dǎo)向設(shè)計(jì)解決方案,內(nèi)容涵蓋了器件統(tǒng)計(jì)模型的建立和驗(yàn)證、電路的快速統(tǒng)計(jì)仿真、良率分析和設(shè)計(jì)優(yōu)化等。作為概倫電子良率導(dǎo)向設(shè)計(jì)解決方案的核心產(chǎn)品BSIMProPlusTM、 NanoSpiceTM 和NanoYieldTM ,為建模工程師和電路設(shè)計(jì)師們快速有效的建立及驗(yàn)證模型和進(jìn)行SPICE并行統(tǒng)計(jì)仿真提供了業(yè)界領(lǐng)先的精度、速度和容量,有助于大幅提升高端產(chǎn)品的性能和良率,縮短上市時(shí)間。授權(quán)自IBM的統(tǒng)計(jì)分析技術(shù)可以幫助工藝開發(fā)工程師和電路設(shè)計(jì)師有效地評估工藝漂移對SRAM等高可靠性電路設(shè)計(jì)的影響,從而為工藝和設(shè)計(jì)的改進(jìn)提供參考并最終提升產(chǎn)品的良率。

  研討會(huì)設(shè)置了產(chǎn)品演示和問答環(huán)節(jié),對來賓提問及熱點(diǎn)話題進(jìn)行了討論。本次研討會(huì)從集成電路制造、集成電路設(shè)計(jì)和EDA工具開發(fā)等不同的角度探討了提升IC設(shè)計(jì)競爭力的良率導(dǎo)向設(shè)計(jì)技術(shù)的重要性,涉及的熱點(diǎn)聯(lián)動(dòng)IC設(shè)計(jì)和制造領(lǐng)域,引起了來賓的強(qiáng)烈反響和共鳴。概倫電子表示,將繼續(xù)以支持和推動(dòng)中國IC設(shè)計(jì)與制造企業(yè)的發(fā)展進(jìn)程為己任,提供創(chuàng)新的電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化(EDA)解決方案。



關(guān)鍵詞: 概倫 IC Process Variation

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