一種微型寬帶光隔離器的設(shè)計(jì)
2 微型帶寬光隔離器的設(shè)計(jì)
2.1 微型帶寬光隔離器的主要性能指標(biāo)有:
(1)插入損耗
(2)反向隔離度
(3)隔離度帶寬
光隔離器具有一定的隔離度帶寬,常以30dB來(lái)衡量,所以也叫做30dB隔離度帶寬。
(4)偏移距離△L
光經(jīng)過(guò)雙折射晶體后從非偏振光變成o、e兩束線偏振光,其中e光向下偏移,與o光成一定距離△L。要讓此種光隔離器獲得較好的隔離度,△L的大小至關(guān)重要,而△L又和雙折射薄片的厚度L有關(guān)。圖3為雙折射晶體分布圖。本文引用地址:http://www.butianyuan.cn/article/158067.htm
(5)回波損耗
(6)偏振相關(guān)損耗PDL
2.2 微型帶寬光隔離器的設(shè)計(jì):
這里主要是分析設(shè)計(jì)微型寬帶光隔離器的三個(gè)方面。
(1)反向隔離度的設(shè)計(jì)
反向隔離度與工作波長(zhǎng)及法拉第旋光片的波長(zhǎng)有著密切關(guān)系。在中心波長(zhǎng)(1.55μm)處可以獲得很好的反向隔離度,但當(dāng)工作波長(zhǎng)轉(zhuǎn)移到近1.51μm或1.59μm后,反向隔離度就降低了約50dB,效果不是很理想。為此,可以在法拉第旋光片后加入一個(gè)1/4波片或全波片來(lái)補(bǔ)償這種隔離器的旋光色散特性。改良后,當(dāng)波長(zhǎng)移到1.51μm和1.59μm處,反向隔離度也只是減小了20 d B。
(2)△L的設(shè)計(jì)
(3)隔離度帶寬的設(shè)計(jì)
在法拉第旋光片后加入一個(gè)1/4波片或全波片,不僅減小了反向隔離度并可以使50dB光隔離器的隔離度范圍變成大約80nm以上,故稱(chēng)為微型寬帶光隔離器。
3 展望未來(lái)
在我國(guó),光隔離器在七十年代就被列為重點(diǎn)開(kāi)發(fā)項(xiàng)目,到了八十年代后,其發(fā)展步伐越來(lái)越快。光隔離器的產(chǎn)品性能越來(lái)越好,體積越來(lái)越小。隨著單膜光纖通信的發(fā)展,光隔離器的發(fā)展正朝著高性能,集成化,微型化,多功能,低價(jià)格的方向一步步發(fā)展。未來(lái)的光隔離器可能是一種微型化的高性能集成器件。所以利用納米制造技術(shù)制造體積更小的光隔離器將成為一個(gè)趨勢(shì)。納米制造是一種更為高效的制造技術(shù)。這種技術(shù)利用半導(dǎo)體晶片制造工藝在亞微米尺寸上制作元器件。納米制造技術(shù)使尺寸低于光波長(zhǎng)的微型結(jié)構(gòu)得以實(shí)現(xiàn),它可以在不同材料(如玻璃、熔融石英、III―IV族材料、石榴石)、不同規(guī)格(如圓形、矩形)的基底上制作出各種形狀(如軌道形、柱形、棱錐形、圓錐形)的器件。通過(guò)適當(dāng)?shù)剡x擇材料、基底、形狀、規(guī)格便可以在納米結(jié)構(gòu)上實(shí)現(xiàn)光隔離器的功能。納米制造的光隔離器的核心部件就是直接在石榴石基底上集成納米偏振結(jié)構(gòu)。這項(xiàng)技術(shù)的應(yīng)用給光隔離器帶來(lái)了三大優(yōu)勢(shì):體積小、穩(wěn)定性高、成本低。
4 結(jié)論
光隔離器是廣泛應(yīng)用于光纖通信中的光無(wú)源器件。隨著光通信技術(shù)向高速、大容量方向發(fā)展,光路中反射已經(jīng)成為一個(gè)必須解決的問(wèn)題,由此出現(xiàn)了一種只允許光線沿光路正向傳輸?shù)姆腔ヒ仔詿o(wú)源器件一光隔離器。光隔離器是光通信技術(shù)中廣泛應(yīng)用的重要無(wú)源器件之一,目前國(guó)內(nèi)外市場(chǎng)處于一種供不應(yīng)求的局面。光隔離器經(jīng)過(guò)十幾年的發(fā)展,已產(chǎn)生了―系列的器件,如陣列(2in1 or 3inl)光隔離器小型光隔離器,還有一些隔離器與WDM、Tap、GFF等濾波器件混合的器件等,這些器件都已在光訊科技研制成功,并批量生產(chǎn)。按隔離器的形狀可分為在線型和自由空間型兩大類(lèi),按偏振相關(guān)和偏振無(wú)關(guān)來(lái)分在線型和自由空問(wèn)型兩種都有,一般來(lái)說(shuō)自由空間型、偏振相關(guān)型隔離器應(yīng)用較多,主要應(yīng)用在有源器件的封裝。
評(píng)論