Mentor工具被納入臺積電16納米FinFET制程技術參考流程

　　Mentor Graphics公司(納斯達克代碼：MENT)日前宣布它已完成其用于臺積電16納米FinFET制程的數(shù)字成套工具。臺積電16納米參考流程包含一些新功能，用于Olympus-SoC™布局與布線系統(tǒng)的16納米設計，以及Calibre^®物理驗證和可制造性設計(DFM)平臺。臺積電和Mentor完成了V0.5設計規(guī)則手冊(DRM)及SPICE 16納米FinFET認證，并將繼續(xù)進行V1.0的認證。

　　“我們與Mentor Graphics緊密協(xié)作，以確定IC實施流程中要實現(xiàn)16納米FinFET技術優(yōu)勢所需的新功能，”臺積電公司設計基礎架構營銷事業(yè)部高級主管Suk Lee說。“Mentor在之前制程節(jié)點提供了穩(wěn)定的設計支持環(huán)境，包括對多圖案的支持、低功耗設計、光刻檢查、可測試性設計，而新的功能正是建立于之前環(huán)境的基礎之上。”

　　Mentor^® Olympus-SoC布局與布線系統(tǒng)經過增強，可滿足臺積電16納米設計支持與認證要求。支持FinFET設計的創(chuàng)新方法學有：有圖案密度平面規(guī)劃(實現(xiàn)早期金屬填充密度檢查)、MiM電容器插入(IR降改進)及對高電阻層布線/優(yōu)化(實現(xiàn)更好品質的結果)。此外，Calibre InRoute™產品還讓Olympus-SoC的客戶能在設計中于本機調用Calibre DRC/DFM/DP簽核引擎，從而更高效快速地實現(xiàn)制造閉合。

　　16納米技術，特別是FinFET晶體管，引發(fā)了對更精確器件和互連寄生參數(shù)提取的需要。為確?？蛻?6納米設計的成功，臺積電與Mentor合作，通過工具認證對Calibre xACT™產品進行加強，以提供高精確性、高性能的寄生參數(shù)提取。

　　Calibre YieldEnhancer產品在其SmartFill部件中提供了一些新功能，從而簡化FinFET的填充規(guī)則并支持填充ECO流程，這樣就能在滿足高級填充簽核要求的同時，更快更容易地閉合一項設計。

　　Calibre RealTime集成平臺增加了一項支持：根據(jù)SPICE模擬生成的凈電壓進行16納米電壓依賴規(guī)則的自動檢查，同時在Synopsys的Laker^®定制設計環(huán)境中編輯版圖。凈電壓在版圖創(chuàng)建和編輯過程中，被自動施加于版圖，從而實現(xiàn)精確的檢查。Calibre RealTime和Synopsys Laker產品利用OpenAccess開放接口以實現(xiàn)快速流暢的用戶體驗，以在最少的時間內產生最佳的定制版圖。

　　“每一個IC制程節(jié)點都帶來新的挑戰(zhàn)——自從20世紀60年代戈登摩爾提出著名的摩爾定律以來就一直是這樣，”Mentor Graphics公司副總裁兼Design-to-Silicon總經理Joseph Sawicki說。“但是當我們逼近CMOS尺寸的極限時，每一新節(jié)點都需要更多的創(chuàng)新和與整個生態(tài)系統(tǒng)更緊密的協(xié)作，才能保持我們行業(yè)健康的發(fā)展步伐。Mentor和臺積電再一次迎難而上，及時給行業(yè)帶來了需要的技術。”