新聞中心

EEPW首頁 > 電源與新能源 > 設(shè)計(jì)應(yīng)用 > 低電壓大電流VRM拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)和均流技術(shù)研究

低電壓大電流VRM拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)和均流技術(shù)研究

作者: 時(shí)間:2012-08-29 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

(a)

(b)

圖4 RC開關(guān)網(wǎng)絡(luò)

圖5簡(jiǎn)單的檢測(cè)技術(shù)

文獻(xiàn)[1]中有

(1)

在(1)式中被檢測(cè)到的平均電感僅受 的影響。R和C的精確度,電感值和MOSFET導(dǎo)通電阻對(duì)均流效果都沒有影響。

2.2 控制技術(shù)

從上面提出的控制電流的方法,我們可以得到一種不同于傳統(tǒng)的均流方法的另一種比較簡(jiǎn)單的均流控制技術(shù)。如圖6所示充分利用平均 信號(hào),每一個(gè)的電流就得到了控制。在圖6中的控制功能塊包括均流控制環(huán)和環(huán)。所有并行的共同使用一個(gè)環(huán)。每一個(gè)有它自己的控制電流的RC開關(guān)網(wǎng)絡(luò)和自己的均流控制環(huán)。

在圖6中,感應(yīng)到的平均電流的信息由電容電壓信號(hào)控制。文獻(xiàn)[1]中有

(2)

(3)

表示每一個(gè)模塊的平均電流。首先我們假設(shè)了 相等。它表示著電感的磁芯設(shè)計(jì)和分布設(shè)計(jì)在這兩個(gè)模塊中都是對(duì)稱的。實(shí)際上,在制作時(shí)這種對(duì)稱是很容易控制的。為了能夠達(dá)到電流在兩個(gè)模塊之間分布的一致性, 必須等于 。從式(1)得,如果 相等,并且 相等,那么 就相等所以現(xiàn)在我們很清楚均流控制環(huán)控制的目的就是控制 并且使得兩者相等。圖6為控制兩個(gè)RC開關(guān)網(wǎng)絡(luò)并且使得 相等的一種簡(jiǎn)單的方法。在圖6中均流控制環(huán)使用了一個(gè)積分調(diào)節(jié)器,所以沒有穩(wěn)態(tài)誤差。兩個(gè)RC開關(guān)網(wǎng)絡(luò)的輸出電壓 應(yīng)該和參考電壓相等。使用圖6所示的控制方法 總是相等,根據(jù)(2)和(3)式,則有

圖6新型的均流技術(shù)

基爾霍夫電流相關(guān)文章:基爾霍夫電流定律




評(píng)論


相關(guān)推薦

技術(shù)專區(qū)

關(guān)閉