歐盟資助未來(lái)制程開發(fā)專案

了突破半導(dǎo)體性能與集積度的極限，歐盟委員會(huì)決定對(duì)歐洲共同專案“NANOCMOS”提供資金援助。該專案將致力於材料、制程、元件及布線等領(lǐng)域的技術(shù)突破。

據(jù)日經(jīng)BP社消息，目前叁加該專案的企業(yè)除歐洲三大半導(dǎo)體公司 - 德國(guó)英飛??科技（Infineon Technologies）、荷蘭飛利浦電子、意法半導(dǎo)體之外，還有法國(guó)原子能部電子技術(shù)資訊研究所（CEA Leti）、比利時(shí)IMEC、德國(guó)弗勞恩霍夫協(xié)會(huì)（FhG）旗下的三個(gè)研究所、法國(guó)國(guó)立科學(xué)研究中心（CNRS）旗下的八個(gè)研究所、德國(guó)獨(dú)開姆尼斯工科大學(xué)的研究所。此外，法國(guó)Ion Beam Services、德國(guó)ISILTEC、比利時(shí)Magwel公司也叁加了這一專案。負(fù)責(zé)專案管理業(yè)務(wù)的是法國(guó)ACIES Europe。

NANOCMOS專案第一階段將耗時(shí)27個(gè)月，并將在2005年對(duì)在邏輯LSI技術(shù)節(jié)點(diǎn)上采用45nm（相當(dāng)於hp65）制程的可行性進(jìn)行論證。除歐盟委員會(huì)贊助2400萬(wàn)歐元之外，各專案成員也將進(jìn)行研究投資以實(shí)現(xiàn)專案目標(biāo)。

第二階段於2006年開始，將對(duì)實(shí)現(xiàn)32nm及22nm制程的可行性進(jìn)行驗(yàn)證。專案成員計(jì)劃向歐洲的研究組織--MEDEA+提議從2006年開始在300mm晶圓生設(shè)備中采用45nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)并進(jìn)行評(píng)估。從目前來(lái)看，可能會(huì)選擇摩托羅拉、飛利浦、意法半導(dǎo)體三公司共同投資的法國(guó)Crolles第二工廠。

本文由 CTIMES 同意轉(zhuǎn)載，原文鏈接:http://www.ctimes.com.tw/DispCols/cn/45nm/TI/Infineon/Philips/04031217458L.shtmll