兩大巨頭你追我趕 處理器65nm時(shí)代提前來臨
半導(dǎo)體工藝技術(shù)日新月異。記得當(dāng)年P(guān)3的末期,P3 Tualatin憑借著130nm的技術(shù),讓原本已經(jīng)P3的性能再一次的爆發(fā)。不過好景不長,隨著P4的上市,P3 Tualatin漸漸淡出市場。初期的Willamette核心P4性能表現(xiàn)并不優(yōu)秀,甚至在一些方面還不如P3 Tualatin系列處理器,直到基于130nm的技術(shù)的Northwood P4出現(xiàn),這才真正的發(fā)揮出P4的性能,到了后期90nm技術(shù)的 Prescott P4出現(xiàn),將P4的極限頻率再次再次提高一個(gè)層次。
然而由于NetBurst架構(gòu)設(shè)計(jì)過于強(qiáng)調(diào)頻率,所以到后期出現(xiàn)了功耗過大的問題。為了改變P4所留下的不良印象,基于65nm技術(shù)產(chǎn)品Core 2 Duo應(yīng)運(yùn)而生了。Core 2 Duo的到來標(biāo)志著一個(gè)新的時(shí)代的到來,于此同時(shí),為了追上主流的步伐,AMD也提前在今年的第四季度推出65nm技術(shù)的處理器??梢哉f在2006年,我們已經(jīng)提前進(jìn)入65nm時(shí)代。
預(yù)期的事情總是美好的,但事實(shí)卻會遇到一些突發(fā)總結(jié):
從英特爾和AMD所公布的路線圖來看,在65nm工藝制成方面,英特爾已經(jīng)遙遙領(lǐng)先AMD一年的時(shí)間,正當(dāng)英特爾已經(jīng)開始熱賣65nm的今天,AMD突然出現(xiàn)65nm工藝的技術(shù)障礙,這不免讓人擔(dān)心,兩者之間的差距是否只有一年時(shí)間爾已。
Intel與AMD制程時(shí)間對照表
制程 AMD Intel
180nm工藝 1999年第四季度 1999年第三季度
130nm工藝 2002年第二季度 2001年第三季度
90nm工藝 2004年第三季度 2004年第一季度
65nm工藝 2007年第一季度 2006年第一季度
自180nm以來,英特爾與AMD的制程工藝時(shí)間日益增大,這客觀的反映了做為芯片老大的英特爾在技術(shù)上占有巨大的優(yōu)勢,站在行業(yè)發(fā)展的前端,主導(dǎo)著處理器行業(yè)的發(fā)展。同時(shí)也暴露出了AMD在技術(shù)上的不足,由于自身實(shí)力的不足,導(dǎo)致了無論在產(chǎn)能上還是在技術(shù)上,都大大落后于英特爾。
在0.13um與90nm時(shí)代,人們曾一度懷疑摩爾定律是否已過時(shí),因?yàn)楫?dāng)時(shí)面臨的技術(shù)難題太多了。不過現(xiàn)在看來,這一疑慮似乎是多余的,英特爾的表現(xiàn)便證明了這一點(diǎn)。目前英特爾官方網(wǎng)站上為用戶提供了大量CPU制造技術(shù)資料,但從AMD網(wǎng)站上很難看到這些。尤其是隨著英特爾45nm SRAM測試芯片的完成,讓我想到了正在邁入65nm工藝大門的AMD。
今年7月,英特爾新一代的Core 2 Duo處理器正式上市,標(biāo)志著英特爾已經(jīng)全面轉(zhuǎn)向65nm制程產(chǎn)品,并且產(chǎn)能在不斷的增加,而AMD方便即便最快也要到明年第一季度,65nm的制程產(chǎn)品才會真正的出現(xiàn)在市面上,時(shí)間上相差半年。
做為英特爾劃時(shí)代的新一代產(chǎn)品,Core 2 Duo一直以來備受矚目。在功耗及性能上都有著較大的優(yōu)勢,各項(xiàng)性能都優(yōu)于目前市面上的處理器。桌面版的Conroe處理器較之前的雙核處理器在性能上提升40%,而功耗則降低40%,一舉撇除了“高頻低能”的稱號,即便是目前AMD所號稱的高性能處理器所無法比擬的性能及功耗優(yōu)勢,力壓風(fēng)光已久的AMD K8處理器。
而移動平臺的Merom處理器性能可比此前的產(chǎn)品提高20%,而耗電量相同;面向服務(wù)器的Woodcrest在性能提高80%的同時(shí),耗電量可減少35%”(Rattner)。隨著Core 2 Duo處理器的迅速普及,AMD原先優(yōu)勢盡失,再加上原本已有的產(chǎn)能問題,使得產(chǎn)品的性價(jià)比大打折扣。
英特爾在65nm技術(shù)上的成功,扭轉(zhuǎn)了以往失利的局面。在英特爾眾多產(chǎn)品的壓制下,使得AMD不得不加速65nm的進(jìn)度,以求能在短期追上英特爾65nm的普及步伐。但事實(shí)卻并未能如AMD所愿,正所謂“欲速則不達(dá)”。此次AMD再次遇到技術(shù)上的難題,從側(cè)面反映出了AMD在技術(shù)上的劣勢。
功耗問題曾一度成為AMD打擊英特爾的利器,讓人感到有趣的是,此次AMD也正是在這個(gè)問題上被卡住了,技術(shù)上的不足使得AMD尚未量產(chǎn)的65nm工藝的芯片,在額定電壓下無法獲得應(yīng)有的主頻,只能通過提高電壓來解決,但高電壓會帶來更大的功耗,這樣一來會導(dǎo)致AMD在65nm產(chǎn)品上再次失利。縱觀這幾年,AMD跳票連連,如果這一問題沒有的好很好的解決,如果此次65nm產(chǎn)品延遲發(fā)布,屆時(shí)將會再次讓眾多玩家失望。
今年下半年,英特爾將會大力推廣65nm產(chǎn)品,隨著45nm工藝成熟,到了明年將會基于45nm工藝產(chǎn)品出現(xiàn)在市面上,如果現(xiàn)在AMD不奮力直追英特爾的65nm的普及步伐,那么當(dāng)英特爾45nm時(shí)代的到來,AMD與英特爾之間的差距將會更加之大。事情,比如AMD就是如此。據(jù)來自INQ報(bào)道的最新報(bào)道稱,目前AMD在的65nm工藝的芯片方面“遇到問題”。AMD尚未量產(chǎn)的65nm工藝的芯片,在額定電壓下無法獲得應(yīng)有的主頻,因此目前樣品只能將電壓從額定的1.1V提升到1.4V。
表面看來,這個(gè)問題似乎沒有什么大礙,但一些稍微懂得微處理器原理的人士都可以知道其中的要害,功耗和電壓成二次冪關(guān)系,進(jìn)行簡單的計(jì)算一下,(1.4 x 1.4)/(1.1 x 1.1)=1.62,從這條簡單的算式,其運(yùn)算結(jié)果不免讓我們感到意外,簡單的說,目前在65nm工藝的芯片的產(chǎn)品中,AMD需要提高60%以上功耗才能獲得需要的主頻。這將讓AMD難以再將“性能功耗比”作為自己的優(yōu)勢。
據(jù)之前AMD官方所發(fā)布的信息,AMD的65nm產(chǎn)品將在今年第四季度推出,并將在2007年下半年全線推出一系列的65nm產(chǎn)品。當(dāng)然,距離65nm芯片最終亮相還有3個(gè)月時(shí)間,相信AMD能夠及時(shí)找到解決方案,推出正常功耗的65nm處理器產(chǎn)品。如若不能夠及時(shí)找到解決方案,那么可能不得不延遲發(fā)布,那樣AMD將再次失利。縱觀近年來,AMD因技術(shù)問題而最終導(dǎo)致產(chǎn)品跳票的事情連連,讓不少用戶倍感失望。此次又爆出65nm工藝的問題,不免讓人擔(dān)心是否跳票的。
其實(shí),早在今年年初,英特爾便率先推出了基于65nm工藝的產(chǎn)品。而7月27日,具有劃時(shí)代意義的Core 2 Duo正式上何謂65nm工藝?
相信不少人都經(jīng)常聽到諸如90nm、65nm、45nm等等制程工藝,那么這些數(shù)字的背后代表著什么呢?其實(shí),我們經(jīng)常說的90nm、65nm、45nm等等這些,都是指處理器核心當(dāng)中每一個(gè)晶體管的大小。(nm英文全稱nanometer,中文為納米,又稱奈米)
晶體管是構(gòu)成處理器的重要部件。CPU工藝,簡單來說,是在硅材料上制成晶體管,再覆蓋上二氧化硅絕緣(SiO2)層,然后在絕緣層上布上制作金屬導(dǎo)線(以往使用鋁材料,不過現(xiàn)在主流是銅材料),使各獨(dú)立的“管子”連在一起成為能工作的單元。
晶體管大小的意義:
簡單說來,晶體管越小,那么同一面積的硅晶芯片能容納的晶體管也越多,性能由此得到提升。目前,晶體管的集成數(shù)量是衡量一個(gè)芯片性能的重要標(biāo)志,所以在芯片業(yè)界,制造商們不引入新的技術(shù),制造出更高集成度的CPU芯片。
隨著晶體管數(shù)量越多,CPU芯片的尺寸變得越來越大,無論對制造成本、散熱還是提高運(yùn)行速度都相當(dāng)不利,所以提升制造工藝便成了制造商們的共識。從另外一個(gè)角度說,采用先進(jìn)的制造技術(shù)往往能讓芯片擁有更出色的表現(xiàn),使之在同行的競爭中取勝對手。
在過去幾十年間,英特爾始終牢牢把握著這一項(xiàng)優(yōu)勢,幾乎每年都投入大量資金用于設(shè)備的升級以及工廠的建造,所以無論是在0.25um、0.18um、0.13um還是90nm、65nm工藝,英特爾都遙遙領(lǐng)先對手。
新工藝的優(yōu)勢:
通常,為了獲得更高的性能,廠商都會想盡辦法來提高芯片的集成度。事實(shí)也證明了,隨著時(shí)代的發(fā)展,同樣面積的芯片內(nèi)容納的晶體管數(shù)變得越來越多。而這一切都為了進(jìn)一步提升產(chǎn)品性能。
另一方面可以提升頻率降低功耗。半導(dǎo)體芯片,若用先進(jìn)工藝制造往往可以帶來功耗的明顯降低,而低功耗同時(shí)又意味著芯片的工作頻率可以繼續(xù)向上提升一個(gè)等級。AMD的Athlon XP就是因?yàn)楣に嚨囊辉偕?,工作頻率得到不斷的提升,使其市場生命力長達(dá)5年之久,創(chuàng)下單個(gè)CPU架構(gòu)的新紀(jì)錄。
英特爾方面聲稱,300毫米晶圓及65納米制程可有效降低單片制造成本,并可將產(chǎn)能大幅提升240%,而且300毫米晶圓制造技術(shù)也更加環(huán)保,除耗電量降低40%,有機(jī)化合物排放減少48%,純凈水使用量也減少約42%。
正是因?yàn)楣に嚨奶嵘?,能夠從成本到性能等等諸多方面帶來優(yōu)勢,所以目前眾多芯片廠商都致力于工藝上的突破,英特爾與AMD這一對死對頭的表現(xiàn)就很好的證明了這一點(diǎn)。
英特爾制程計(jì)劃:
P1262是我們熟悉的采用90nm制造的Pentium 4處理器,第一批產(chǎn)品在2003年末出廠,典型代表是Pentium 4 Prescott。P1262延續(xù)了上一代Pentium 4的NetBrust(網(wǎng)絡(luò)爆發(fā))架構(gòu),在頻率方面瘋狂飆升,而且90nm工藝內(nèi)有一些問題沒有很好地解決。P1262計(jì)劃預(yù)期達(dá)到的頻率是4.0GHz,實(shí)際最后一款產(chǎn)品止步于3.8 GHz。
P1264是我們正在經(jīng)歷的時(shí)代,周期同樣是2年。我們熟悉的產(chǎn)品是Core微架構(gòu)的Conroe處理器,采用65nm工藝制造,功耗控制表現(xiàn)優(yōu)秀,性能強(qiáng)大。
P1266是未來45nm工藝制造的處理器,它將從2007年持續(xù)到2009年,產(chǎn)品的名稱和型號未知。然后由32nm工藝的P1268接替P1266。
英特爾65nm工藝新技術(shù)特性:
改進(jìn)型應(yīng)變硅技術(shù)
所謂應(yīng)變硅,指的是一種僅有1.2nm厚度的超薄氧化物層,利用應(yīng)變硅代替原來的高純硅制造晶體管內(nèi)部的通道,可以讓晶體管內(nèi)的原子距離拉長,單位長度原子數(shù)目變少,當(dāng)電子通過這些區(qū)域時(shí)所遇到的阻力就會減少,由此達(dá)到提高晶體管性能的目的。
改進(jìn)型應(yīng)變硅技術(shù),這種獨(dú)特的技術(shù)拉伸了硅原子的晶格結(jié)構(gòu),允許電子更快流動,同時(shí)更進(jìn)一步減小了阻抗。
應(yīng)變硅技術(shù)的著眼點(diǎn)并非降低功耗,而是加速晶體管內(nèi)部電流的通過速度,讓晶體管獲得更出色的效能。在65nm工藝中,英特爾決定采用更先進(jìn)的第二代高性能應(yīng)變硅,該技術(shù)可以讓晶體管的激勵(lì)電流進(jìn)一步提升到30%,優(yōu)于90nm工藝中的第一代應(yīng)變硅。
Low K互連層技術(shù)8層銅互連
隨著電路板蝕刻精度越來越高,芯片上集成的電路越來越多,信號干擾也就越來越強(qiáng),IBM開發(fā)、發(fā)展一種新的多晶硅材料,于是Low K技術(shù)出現(xiàn)了。這里的“K”就是介電常數(shù),Low K就是低介電常數(shù)材料。Low K材料幫助解決了芯片中的信號干擾問題。使用低介電常數(shù)的材料來制作處理器導(dǎo)線間的絕緣體??梢院芎玫亟档途€路間的串?dāng)_,從而降低處理器的功耗,提高處理器的高頻穩(wěn)定性。
每一個(gè)芯片可以容納的個(gè)不同的邏輯電路層數(shù),叫做互連層數(shù)。層數(shù)越多,芯片占據(jù)的面積就越小,成本越低,但同時(shí)也要面對更多的技術(shù)問題。在這65nm工藝中,英特爾用上了“帶有Low k絕緣層的8層銅互連”。更多的互連層可以在生產(chǎn)高集成度晶體管的CPU時(shí)提供更高的靈活性。
晶體管睡眠技術(shù)
晶體管睡眠技術(shù)允許一些不會被調(diào)用的晶體管暫時(shí)處于休眠狀態(tài),當(dāng)再次被調(diào)用時(shí),它們可以立刻恢復(fù)動力,這一功能節(jié)省了大量電能。
CPU的緩存單元從來都是發(fā)熱大戶,尤其是二級緩存占據(jù)晶體管總量的一半不止、對功耗的“貢獻(xiàn)”也極為可觀。為了降低大容量緩存帶來的高熱量,英特爾為其65nm SRAM芯片中引入了全新的“睡眠晶體管”功能,當(dāng)SRAM內(nèi)的某些區(qū)域處于閑置狀態(tài)時(shí),睡眠晶體管就會自動切斷該區(qū)域的電流供應(yīng),從而令芯片的總功耗大大降低。
耗盡型襯底晶體管(depleted substrate transistor,DST)
隨著晶體管的縮小,門泄漏快速上升問題,SOI(Silicon on Insulator,絕緣層上覆硅)技術(shù)便應(yīng)運(yùn)而生了。
在2000年“GHz時(shí)代”來臨時(shí),曾一度采用SOI技術(shù),因?yàn)檫@種技術(shù)耗電量低,電容量小,并將使用SOI作為完成未來“THz晶體管”的主要工具,但由于成本太高,在第二年放棄了。不過對手AMD在IBM的幫助下成功地在Athlon 64產(chǎn)品中使用了SOI技術(shù),這時(shí)的SOI使得晶體管的成本雖提高近10%,但AMD的晶體管數(shù)目不及英特爾,這種成本提升在它的身上體現(xiàn)得沒有英特爾明顯。
而現(xiàn)在耗盡型襯底晶體管(depleted substrate transistor,DST)的技術(shù),實(shí)際上是SOI技術(shù)的變形,相比SOI技術(shù)其做了一些改動來消除它的主要缺點(diǎn).
65nm的現(xiàn)狀
市場狀況:
早在2005年,英特爾便第一次生產(chǎn)出了65nm工藝成品CPU,隨著今年的7月Core 2 Duo處理器的上市,英特爾產(chǎn)品可以說已經(jīng)基本過渡到了65nm工藝,實(shí)現(xiàn)了90nm與65nm的“制造接替”。目前消費(fèi)者已經(jīng)可以相當(dāng)方便的購買到基于65nm工藝的英特爾處理器。向來與英特爾勢不兩立的AMD,目前65nm工藝產(chǎn)品仍在研發(fā)當(dāng)中,尚未有成品上市,距較早前的消息稱,AMD將在今年第四季度推出65nm制程工藝的新一代處理器。可以說,目前65nm市場仍是英特爾的天下。
生產(chǎn)線、產(chǎn)能:
英特爾:
英特爾對65nm工藝技術(shù)的部署相當(dāng)快速,目前已擁有三個(gè)65nm工廠,在制造方面達(dá)到了一個(gè)重要的里程碑。在制造能力上取得跨越,這意味著英特爾目前生產(chǎn)的PC和服務(wù)器微處理器中,一半以上都是采用這種業(yè)界領(lǐng)先的制程技術(shù)生產(chǎn)出來的。
今年6月份,英特爾公司位于位于愛爾蘭Leixlip的“Fab 24-2”正式開張,這是英特爾第三間65nm工廠。另外兩座65nm工廠均位于美國本土,分別是俄勒岡州Hillsboro的“D1D”和亞利桑那州Chandler的“Fab 12”,前者同時(shí)也是Intel的研發(fā)基地,后者則是近期才升級到65nm。其實(shí)早在今年3月份之前,“Fab 24-2”就已經(jīng)開始利用65nm工藝生產(chǎn)300mm晶圓。
目前英特爾擁有的六大芯片工廠(從事12英寸晶圓制造),12英寸晶圓芯片工廠的數(shù)量愿意超出了任何一個(gè)競爭對手,其主要的對手AMD僅在去年10月份才剛剛新建了第一個(gè)12英寸晶圓芯片工廠,而與此同時(shí)英特爾已經(jīng)開設(shè)計(jì)劃建造另外三個(gè)芯片工廠,每個(gè)工廠的造價(jià)預(yù)計(jì)在30億美元到40億美元之間?;谶@些工廠生產(chǎn)出來的更大面積晶圓,英特爾可以制造出更多的芯片,從而節(jié)省成本、時(shí)間和資源。
英特爾在保持65nm技術(shù)領(lǐng)先的同時(shí),也開始積極向45nm制程沖刺。位于亞歷桑那州Chandler的另一座全新12吋晶圓廠“Fab 32”也已開始興建,造價(jià)為30億美元,預(yù)計(jì)將從2007下半年開始以45納米制程技術(shù)生產(chǎn)微處理器。此外,位于以色列南部城市Kiryat Gat,總投資額達(dá)40億美元的英特爾新廠“Fab 28”,目前已經(jīng)動工,這將是將是英特爾第二個(gè)使用45納米制造工藝的芯片生產(chǎn)廠。同時(shí),英特爾還將投資15億美元為另外一個(gè)在以色列的工廠“FAB 18”進(jìn)行升級改造。
英特爾計(jì)劃用兩年左右的時(shí)間轉(zhuǎn)入45nm工藝,相應(yīng)的產(chǎn)品是Core架構(gòu)的Penryn和新架構(gòu)的Nehalem;2010年進(jìn)軍32nm工藝,具體產(chǎn)品為過渡型的Nehalem C和六年內(nèi)的第三代架構(gòu)Gesher。
目前英特爾出貨的處理器中50%以上都采用65nm工藝,隨著生產(chǎn)線轉(zhuǎn)向65nm工藝,近期英特爾也宣布了部分采用90nm的處理器即將停產(chǎn),可見,在今年年底90nm產(chǎn)品將會被徹底取代。
AMD:
跟英特爾相比,AMD一直差距很大。自AMD在成立以來,產(chǎn)能為題一直是其最大的困擾。到了上世紀(jì)90年代,AMD開始形成相對固定的建廠模式,就是以5年左右為一個(gè)周期去建造一個(gè)新廠。所以AMD與英特爾的產(chǎn)能懸殊相當(dāng)大。
目前AMD主要的晶圓工廠是Fab 30和Fab 36,兩個(gè)工廠都位于德國德累斯頓。
Fab 30在1996年10月動工,到了98年5月竣工,2000年實(shí)現(xiàn)了量產(chǎn)。Fab 30主要生產(chǎn)基于200mm晶圓的芯片。該工廠原設(shè)計(jì)產(chǎn)能為每月2萬片晶圓,但迫于需求,目前該工廠以150%的超負(fù)荷生產(chǎn)。目前Fab30生產(chǎn)K8處理器,2004年完成90nm SOI工藝;2005年第二季度開始投產(chǎn)雙核處理器。引人矚目的Opterons和Athlon 64 X2處理器正是由Fab 30負(fù)責(zé)。
Fab 36從2003年11月開始建設(shè),2004年12月1日開始具備生產(chǎn)能力。從2006年上半年開始,AMD的Fab36開始向客戶交付產(chǎn)品。Fab36是AMD第一座具備300mm晶圓生產(chǎn)能力的工廠。2007年,AMD將投資25億美元在Fab36的建設(shè)上。AMD計(jì)劃在Fab36投產(chǎn)65nm。
此外,據(jù)消息稱,AMD將在德國建設(shè)第三間晶圓工廠,以緩解產(chǎn)能不足的難題。另外,AMD 公司已經(jīng)與紐約州政府簽訂了一項(xiàng)非約束性協(xié)議,它將投資32億美元在Saratoga Springs興建一座芯片制造工廠。新的芯片制造工廠的建筑面積為120 萬平方英尺,占地200英畝,位于Luther Forest 科技園。新芯片制造工廠將采用0.032 微米工藝,但AMD 必須在2008年中期推出0.045 微米工藝。
除了Fab 30和Fab 36兩大晶圓工廠工廠外,AMD還在中國蘇州、馬來西亞檳城、泰國曼谷及新加坡等等地方建設(shè)有芯片封裝測試工廠。
英特爾、AMD路線圖
英特爾:
根據(jù)這份藍(lán)圖,Core 2 Duo處理器在明年第一季度將占據(jù)英特爾全部CPU出貨量的35%。
根據(jù)藍(lán)圖顯示,7月27日之后,雙核心Core處理器將全面取代單核心處理器,Core 2 Duo處理器將成為英特爾桌面旗艦產(chǎn)品,Woodcrest將幫助Intel在2007年奪回企業(yè)服務(wù)器處理器市場。這也表明了,Core 2 Duo發(fā)布之后,英特爾將會更大力的推廣65nm制程的處理器。
最新藍(lán)圖也證實(shí)Kentsfield的存在,它是英特爾第一款四核心桌面處理器,它將作為一款“Extreme”處理器,在明年第一季度發(fā)布,英特爾還沒有為它制定正式名稱。AMD也將在明年發(fā)布四核心桌面處理器K8L。
AMD:
日前AMD發(fā)布了最新的CPU路線圖,AMD將在今年引入65nm工藝,并首度透露下一代K8L微架構(gòu)處理器將于2008年面市。
2007年第一季度,Brisbane核心的Athlon 64 X2系列處理器推出,該核心處理器將首次采用基于65nm工藝制程,推出的型號有,Athlon 64 X2 3800+、4200+ 和4600+;07年第二季度,AMD推出65nm工藝的Athlon 64 X2 5000/5200+處理器;Athlon 64 X2 5400處理器將于第三季度推出,這些處理器的TDP功率都是65W。
AMD將會在07年第二季度面向低端市場推出基于65nm的Sempron 4000+,3800+,3600+,3500+和3400+,而65nm的Sempron 4200+將會在第三季度推出,到時(shí)將會有90nm和65nm的Sempron共存的局面。
高端方面,2007年第三季度 AMD將會推出Athlon 64 FX-66,主頻將會達(dá)到3.2GHz,其他規(guī)格不變,比較遺憾的是其并未使用65nm的制造工藝。
通過路線圖可看出,AMD其將會有多款新產(chǎn)品推出,并會引入65nm的工藝制程。不過AMD在采用65納米制造工藝初期,可能將先用來量產(chǎn)入門級產(chǎn)品,以保證產(chǎn)品質(zhì)量。至于價(jià)格昂貴的高端產(chǎn)品,可能還將繼續(xù)沿用舊有的90納米制造工藝。
總結(jié):
從英特爾和AMD所公布的路線圖來看,在65nm工藝制成方面,英特爾已經(jīng)遙遙領(lǐng)先AMD一年的時(shí)間,正當(dāng)英特爾已經(jīng)開始熱賣65nm的今天,AMD突然出現(xiàn)65nm工藝的技術(shù)障礙,這不免讓人擔(dān)心,兩者之間的差距是否只有一年時(shí)間爾已。
Intel與AMD制程時(shí)間對照表
制程 AMD Intel
180nm工藝 1999年第四季度 1999年第三季度
130nm工藝 2002年第二季度 2001年第三季度
90nm工藝 2004年第三季度 2004年第一季度
65nm工藝 2007年第一季度 2006年第一季度
自180nm以來,英特爾與AMD的制程工藝時(shí)間日益增大,這客觀的反映了做為芯片老大的英特爾在技術(shù)上占有巨大的優(yōu)勢,站在行業(yè)發(fā)展的前端,主導(dǎo)著處理器行業(yè)的發(fā)展。同時(shí)也暴露出了AMD在技術(shù)上的不足,由于自身實(shí)力的不足,導(dǎo)致了無論在產(chǎn)能上還是在技術(shù)上,都大大落后于英特爾。
在0.13um與90nm時(shí)代,人們曾一度懷疑摩爾定律是否已過時(shí),因?yàn)楫?dāng)時(shí)面臨的技術(shù)難題太多了。不過現(xiàn)在看來,這一疑慮似乎是多余的,英特爾的表現(xiàn)便證明了這一點(diǎn)。目前英特爾官方網(wǎng)站上為用戶提供了大量CPU制造技術(shù)資料,但從AMD網(wǎng)站上很難看到這些。尤其是隨著英特爾45nm SRAM測試芯片的完成,讓我想到了正在邁入65nm工藝大門的AMD。
今年7月,英特爾新一代的Core 2 Duo處理器正式上市,標(biāo)志著英特爾已經(jīng)全面轉(zhuǎn)向65nm制程產(chǎn)品,并且產(chǎn)能在不斷的增加,而AMD方便即便最快也要到明年第一季度,65nm的制程產(chǎn)品才會真正的出現(xiàn)在市面上,時(shí)間上相差半年。
做為英特爾劃時(shí)代的新一代產(chǎn)品,Core 2 Duo一直以來備受矚目。在功耗及性能上都有著較大的優(yōu)勢,各項(xiàng)性能都優(yōu)于目前市面上的處理器。桌面版的Conroe處理器較之前的雙核處理器在性能上提升40%,而功耗則降低40%,一舉撇除了“高頻低能”的稱號,即便是目前AMD所號稱的高性能處理器所無法比擬的性能及功耗優(yōu)勢,力壓風(fēng)光已久的AMD K8處理器。
而移動平臺的Merom處理器性能可比此前的產(chǎn)品提高20%,而耗電量相同;面向服務(wù)器的Woodcrest在性能提高80%的同時(shí),耗電量可減少35%”(Rattner)。隨著Core 2 Duo處理器的迅速普及,AMD原先優(yōu)勢盡失,再加上原本已有的產(chǎn)能問題,使得產(chǎn)品的性價(jià)比大打折扣。。
英特爾在65nm技術(shù)上的成功,扭轉(zhuǎn)了以往失利的局面。在英特爾眾多產(chǎn)品的壓制下,使得AMD不得不加速65nm的進(jìn)度,以求能在短期追上英特爾65nm的普及步伐。但事實(shí)卻并未能如AMD所愿,正所謂“欲速則不達(dá)”。此次AMD再次遇到技術(shù)上的難題,從側(cè)面反映出了AMD在技術(shù)上的劣勢。
功耗問題曾一度成為AMD打擊英特爾的利器,讓人感到有趣的是,此次AMD也正是在這個(gè)問題上被卡住了,技術(shù)上的不足使得AMD尚未量產(chǎn)的65nm工藝的芯片,在額定電壓下無法獲得應(yīng)有的主頻,只能通過提高電壓來解決,但高電壓會帶來更大的功耗,這樣一來會導(dǎo)致AMD在65nm產(chǎn)品上再次失利。縱觀這幾年,AMD跳票連連,如果這一問題沒有的好很好的解決,如果此次65nm產(chǎn)品延遲發(fā)布,屆時(shí)將會再次讓眾多玩家失望。
今年下半年,英特爾將會大力推廣65nm產(chǎn)品,隨著45nm工藝成熟,到了明年將會基于45nm工藝產(chǎn)品出現(xiàn)在市面上,如果現(xiàn)在AMD不奮力直追英特爾的65nm的普及步伐,那么當(dāng)英特爾45nm時(shí)代的到來,AMD與英特爾之間的差距將會更加之大。
評論