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相控陣?yán)走_(dá)性能的基石:寬禁帶半導(dǎo)體

作者: 時(shí)間:2016-04-29 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

  現(xiàn)代電子產(chǎn)品的基礎(chǔ)是半導(dǎo)體器件,因此半導(dǎo)體器件的性能就決定了整個(gè)電子產(chǎn)品的性能,所謂半導(dǎo)體就是導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體和絕緣體之間的物理器件。最開始時(shí),人們對這些物質(zhì)并不感興趣,后來才發(fā)現(xiàn)半導(dǎo)體的獨(dú)特性能,有導(dǎo)體和絕緣體不可替代的優(yōu)勢。最常見的半導(dǎo)體器件是二極管,其他所有的半導(dǎo)體器件都是建立在此基礎(chǔ)之上的。

本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/201604/290508.htm

  原子結(jié)構(gòu)和半導(dǎo)體器件

  導(dǎo)體之所以導(dǎo)電是因?yàn)槠鋬?nèi)部有容易活動的自由電子,自由電子在電場的作用下開始運(yùn)動,這個(gè)運(yùn)動就是電流。物質(zhì)都是由原子組成,每個(gè)原子都由原子核和繞在其外面的軌道的自由電子組成,一般從外向內(nèi)分為最多7個(gè)軌道,分為從K到Q,其中存在兩個(gè)規(guī)律:第一是越往外層軌道,電子能量越小,越容易脫離軌道成為自由電子。第二是當(dāng)最外層軌道的電子是1或者起最大電子數(shù)減1時(shí)就特別容易丟失電子或者獲得電子。

    

原子的電子殼層

 

  圖1:原子的電子殼層

  電子一般帶負(fù)電,把丟失電子的軌道位置叫做空穴,可以視為帶正電的粒子。把攜帶電流的物質(zhì)叫做載流子,一般就是空穴或者自由電子。電流流動時(shí),如果空穴比自由電子多,則視其為載流子,如果自由電子多,則視自由電子為載流子。

  對于半導(dǎo)體而言,它們的外層電子不那么容易失去,比如元素硅,其外層是四個(gè)電子,既不容易失去也不容易得到,但是卻可以對其進(jìn)行摻雜一些其他元素,使其出現(xiàn)自由電子或者空穴,一般如果摻雜元素后空穴為多數(shù)載流子則為P型半導(dǎo)體,摻雜后出現(xiàn)自由電子為多數(shù)載流子就是N型半導(dǎo)體。兩種半導(dǎo)體連在一起時(shí),就會呈現(xiàn)非常有趣的一個(gè)特性——電流單向流通性,即電流只能從P流向N,而不能反轉(zhuǎn)流動。而如果將兩個(gè)P型半導(dǎo)體和一個(gè)N型半導(dǎo)體(或者兩個(gè)N型半導(dǎo)體和一個(gè)P型半導(dǎo)體)結(jié)合起來還可以形成三極管,在二極管的性質(zhì)基礎(chǔ)上,三極管擁有以下特性:

  1、電流流向的可控性。平時(shí)三極管無法導(dǎo)電,但當(dāng)加入一個(gè)額外的電壓開關(guān)時(shí)則可以成為導(dǎo)體,且流動方向可控。

  2、可以起到電流的放大作用。在電壓開關(guān)的作用下,半導(dǎo)體內(nèi)載流子數(shù)量增多,電流隨之增大。

  在這兩個(gè)特性之下,如果給電壓開關(guān)施加一個(gè)周期電信號,其自然而然就會放大產(chǎn)生另外一個(gè)周期電信號,最終通過射頻組件釋放出去之后就成了電磁波,這就是雷達(dá)電磁波的基本原理。

  

  現(xiàn)代電子器件的大規(guī)模集成電路被植入在半導(dǎo)體之上,這些半導(dǎo)體被稱為襯底,通過不同的摻雜,可以有效的形成微型二極管、三極管、電容、電感等電路組件。一般的半導(dǎo)體襯底都有擊穿電壓,一旦電壓超過這個(gè)限度,二極管就要損壞。同時(shí)也對應(yīng)了一個(gè)電子漂移速率,這是其材料的自由電子脫離原電子軌道和結(jié)合新電子軌道的速率決定的,脫離的難易程度叫做禁帶寬度,禁帶越寬,相應(yīng)的擊穿電壓就越大,于是半導(dǎo)體器件的最大輸出功率就大一些,同時(shí)電路的開關(guān)相應(yīng)速率就越快,于是就可以做更高頻率的微波器件。

    

F-22戰(zhàn)機(jī)使用的AN/APG-73雷達(dá)采用了GaAs襯底的微波功率器件,使其功率和頻率可以達(dá)到很高

 

  圖2:F-22戰(zhàn)機(jī)使用的AN/APG-73雷達(dá)采用了GaAs襯底的微波功率器件,使其功率和頻率可以達(dá)到很高。

  電子產(chǎn)品最開始使用的半導(dǎo)體襯底大多是硅元素和硼元素、磷元素?fù)诫s,因技術(shù)難度低且便宜,商用和民用的很多電子產(chǎn)品仍然在采用。但在制作軍用高功率微波器件時(shí),這些顯然無法使用。后來采取了GaAs(砷化鎵)襯底,其電子漂移速率和擊穿電壓比硅元素器件高10倍以上,F(xiàn)-22上的便使用這種襯底的元器件。最新的襯底材料超越了GaAs一個(gè)數(shù)量級,這就是GaN(氮化鎵)和SiC,這方面美國和日本目前走在了前面,這兩種襯底已經(jīng)到了工程運(yùn)用階段,而我國目前只有中科院制造出來了單晶SiC,還無法進(jìn)行實(shí)際上的工程大規(guī)模生產(chǎn)運(yùn)用。

  可以說今后的電子系統(tǒng),誰在器件上占據(jù)上風(fēng),誰就能在電子戰(zhàn)中獲得勝利,因此我國必須對這一行業(yè)給予高度重視。



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