日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展歷程解讀

　　半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)是電子信息產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)，代表著當(dāng)今世界最先進(jìn)的主流技術(shù)發(fā)展。

　　半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)于上世紀(jì)五十年代起源于美國，之后共經(jīng)歷了三次大規(guī)模產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移。

　　第一次是在1970末期，從美國轉(zhuǎn)移到了日本，第一次轉(zhuǎn)移后日本成為世界半導(dǎo)體的中心。

　　第二次是上世紀(jì)八十年代末期至九十年代初，產(chǎn)業(yè)從日本轉(zhuǎn)移到了韓國、 中國臺灣和新加坡等地，形成了世界范圍內(nèi)美國、韓國、臺灣等國家和地區(qū)多頭并立的局面。

　　第三次是二十一世紀(jì)以來，我國由于具備勞動力成本等多方面的優(yōu)勢， 正在承接第三次大規(guī)模的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移。

　　日本半導(dǎo)體企業(yè)發(fā)展階段概述日本半導(dǎo)體企業(yè)的發(fā)展依次經(jīng)歷了崛起(1970s)、鼎盛(1980s)、衰落(1990s)、轉(zhuǎn)型(2000s)四個階段。

　　崛起：1970s，VLSI 研發(fā)聯(lián)合體帶動技術(shù)創(chuàng)新

　　上世紀(jì) 70 世紀(jì)初，日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)整體落后美國十年以上。

　　70 世紀(jì)中期，日本本土半導(dǎo)體企業(yè)受到兩件事的嚴(yán)重沖擊。

　　一件事是日本 1975、1976 年在美國壓力下被迫開放其國內(nèi)計算機(jī)和半導(dǎo)體市場;另一件事是 IBM 公司開發(fā)的被稱為未來系統(tǒng)(Future System，F(xiàn)/S)的新的高性能計算機(jī)中，采用了遠(yuǎn)超日本技術(shù)水平的一 兆的動態(tài)隨機(jī)存儲器。

　　1976-1979 年在政府引導(dǎo)下，日本開始實施具有里程碑意義的，超大規(guī)模集成 電路的共同組合技術(shù)創(chuàng)新行動項目(VLSI)。

　　該項目由日本通產(chǎn)省牽頭，以日立、 三菱、富士通、東芝、日本電氣五大公司為骨干，聯(lián)合了日本通產(chǎn)省的電氣技術(shù)實 驗室(EIL)、日本工業(yè)技術(shù)研究院電子綜合研究所和計算機(jī)綜合研究所，共投資了720 億日元，用于進(jìn)行半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)核心共性技術(shù)的突破。

　　VLSI 項目是日本“官產(chǎn)學(xué)”一體化的重要實踐，將五家平時互相競爭的計算 機(jī)公司以及通產(chǎn)省所屬的電子技術(shù)綜合研究所的研究人才組織到一塊進(jìn)行研究工 作，不僅集中了人才優(yōu)勢，而且促進(jìn)了平時在技術(shù)上互不通氣的計算機(jī)公司之間的 相互交流 、相互啟發(fā)，推動了全國的半導(dǎo)體、集成電路技術(shù)水平的提高，為日本 半導(dǎo)體企業(yè)的進(jìn)一步發(fā)展提供平臺，令日本在微電子領(lǐng)域上的技術(shù)水平與美國并駕 齊驅(qū)。

　　項目實施的四年內(nèi)共取得了約 1000 多項專利，大幅度提升了成員企業(yè)的 VLSI制作技術(shù)水平，日本公司借此搶占了 VLSI 芯片市場的先機(jī)。

　　同時政府在政策方面也給予了大力支持。

　　日本政府于 1957 年頒布《電子工業(yè) 振興臨時措施法》，支持日本企業(yè)積極學(xué)習(xí)美國先進(jìn)技術(shù)，發(fā)展本國的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。1971 年、1978 年分別頒布了《特定電子工業(yè)及特定機(jī)械工業(yè)振興臨時措施法》、《特定機(jī)械情報產(chǎn)業(yè)振興臨時措施法》，進(jìn)一步鞏固了以半導(dǎo)體為核心的日本信息產(chǎn)業(yè) 的發(fā)展。