張忠謀：芯片產(chǎn)業(yè)已成熟 年輕工程師可向軟件方面謀發(fā)展

　　在日前于美國硅谷舉行的美國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)(SIA)年度晚宴上，來自半導(dǎo)體大廠的資深高層們表示，芯片產(chǎn)業(yè)還有很長一段路要走，卻面臨了吸引頂尖工程師的真正挑戰(zhàn);此外一位微影技術(shù)專家展示了可望在下一個(gè)十年繼續(xù)推動(dòng)摩爾定律(Moore’s Law)前進(jìn)的一套新系統(tǒng)。

　　晶圓代工大廠臺(tái)積電(TSMC)董事長張忠謀在SIA年度晚宴的一場與其他產(chǎn)業(yè)界高層同臺(tái)的座談會(huì)上，對半導(dǎo)體制程節(jié)點(diǎn)繼續(xù)微縮表示樂觀;不過他也建議，芯片產(chǎn)業(yè)逐漸邁向成熟，年輕一代的電子工程師可以朝向軟件、電腦科學(xué)以及網(wǎng)際網(wǎng)路等相關(guān)領(lǐng)域?qū)で笪磥戆l(fā)展。

　　“對晶圓廠工程師的人力需求會(huì)維持相當(dāng)穩(wěn)定好一段時(shí)間，”張忠謀表示：“我們對更高密度制程的努力還會(huì)至少持續(xù)另一個(gè)十年，一直到2020年代中期、3nm節(jié)點(diǎn)─ ─我認(rèn)為我們至少將走到那么遠(yuǎn)。”

　　另一位參與座談會(huì)的產(chǎn)業(yè)高層，ADI共同創(chuàng)辦人Ray Stata則表示，電子工程領(lǐng)域正籠罩危機(jī)，但在芯片制程微縮之外仍有科技進(jìn)展的希望：“EE部門正在萎縮，但我們還是需要受過訓(xùn)練的人員;而我們面臨的挑戰(zhàn)之一，就是無法獲得像以前那么多的EE工程師人才。因此產(chǎn)業(yè)界可能需要承擔(dān)更多教育的責(zé)任，并且直接與各大專院校面對面，讓他們了解產(chǎn)業(yè)界需求。”

　　Stata指出，在美國麻省理工學(xué)院(MIT)有一個(gè)育成中心，就是協(xié)助支持對半導(dǎo)體新創(chuàng)公司的投資;這位已經(jīng)轉(zhuǎn)任投資人的前任半導(dǎo)體業(yè)高層表示，現(xiàn)有技術(shù)在系統(tǒng)層級的結(jié)合，將有助于讓以往聚焦于零組件的電子產(chǎn)業(yè)界更進(jìn)步：“智能手機(jī)已經(jīng)存在了…但模擬領(lǐng)域還在過渡時(shí)期的中途。”

　　英特爾(Intel)前任CEOCraig Barrett則是與會(huì)者中對未來最樂觀的。“電子與光子的結(jié)合才剛剛開始，而且那里有非常大的商機(jī);”他指出：“電子與生物的結(jié)合甚至還沒有開始──到處都有無限的商機(jī)。”

　　“當(dāng)我加入Intel的時(shí)候，人們就說摩爾定律已經(jīng)快走到尾聲，我們一直都只有3~4代的技術(shù)進(jìn)展空間;”Barrett表示：“總有人將會(huì)搞清楚如何做出下一代的電子開關(guān)，而且將改變世界;因此就像是Robert Noyce (Intel共同創(chuàng)辦人)說的，忘掉歷史、走出去，做一些美妙的事。”

　　而獲得SIA年度Noyce獎(jiǎng)項(xiàng)的半導(dǎo)體設(shè)備大廠ASML技術(shù)長Martin van den Brink則在會(huì)后透露，該公司承諾在2024年推出具備0.45 penta-pixels/second性能的極紫外光(EUV)微影系統(tǒng); ASML最近宣布將推出的高數(shù)值孔徑系統(tǒng)，一小時(shí)可生產(chǎn)200片晶圓。

　　相較之下，在1958年制造出來的第一顆IC，所采用的微影技術(shù)只能印制50 pixels的圖案;van den Brink表示，那時(shí)候ASML已經(jīng)成立，而他在1984年加入該公司時(shí)，微影技術(shù)的性能已經(jīng)達(dá)到61 MPixels/second：“摩爾定律不會(huì)停止，因?yàn)槲覀冇新斆鞯墓こ處熣趪L試?yán)^續(xù)推動(dòng)產(chǎn)業(yè)界向前邁進(jìn)。”

　　IBM的感知系統(tǒng)部門資深副總裁暨研究員JohnKelly III在授予van den Brink先進(jìn)微影技術(shù)獎(jiǎng)項(xiàng)時(shí)表示：“沒有他，我們恐怕無法讓摩爾定律走得這么遠(yuǎn)，也無法對邁進(jìn)7nm或以下節(jié)點(diǎn)抱著希望;Martin以及他的公司現(xiàn)在面臨的最大風(fēng)險(xiǎn)與最重要工作是EUV，而該技術(shù)在過去幾年的進(jìn)展令人驚嘆。”