2019年IPC APEX展會(huì)最佳技術(shù)論文評(píng)選結(jié)果揭曉

　　2019年IPC APEX展會(huì)的最佳技術(shù)論文，經(jīng)由IPC APEX展會(huì)技術(shù)項(xiàng)目委員會(huì)投票選出。論文作者表彰會(huì)將于2019年1月29日的開題演講會(huì)議上舉行。

　　諾基亞公司的Chen Xu和倫敦帝國(guó)學(xué)院的Jason Stafford合著的《優(yōu)化冷卻氣體模式減少電子設(shè)備上的粉塵沉積》榮獲最佳論文榜首，論文演講將于1月31日在表面處理可靠性/鍍金修復(fù)/裂隙腐蝕專題技術(shù)會(huì)議第36會(huì)場(chǎng)舉行。

　　榮獲今年最佳論文獎(jiǎng)的第二篇論文是《枕頭缺陷檢測(cè)—X-ray檢測(cè)的局限性》，作者是Ericsson AB公司的Lars Bruno和Benny Gustafson。此論文演講將于1月29日組裝/檢測(cè)—BTC/BGA專題技術(shù)會(huì)議第3會(huì)場(chǎng)舉行。

　　另一篇獲此殊榮的論文是《印制電路板的氧化殘留物分析》，由The Charles Stark Draper Laboratory公司的Wade Glodman、Andrew Dineen、Hailey Jordan、Curtis Leonard以及雷神公司太空系統(tǒng)部門的Edward Arthur合著而成。此論文內(nèi)容將于1月30日失效分析專題技術(shù)會(huì)議第25會(huì)場(chǎng)發(fā)布。

　　最佳論文的評(píng)選依據(jù)技術(shù)內(nèi)容、原創(chuàng)性、實(shí)驗(yàn)方法及支持結(jié)論的數(shù)據(jù)，圖片質(zhì)量，撰寫的專業(yè)度和簡(jiǎn)潔度等因素綜合得出。

　　注冊(cè)IPC APEX展會(huì)現(xiàn)場(chǎng)技術(shù)會(huì)議或標(biāo)準(zhǔn)開發(fā)委員會(huì)其他活動(dòng)、專業(yè)開發(fā)課程、展覽會(huì)議，請(qǐng)點(diǎn)擊www.IPCAPEXEXPO.org。