傳Intel Xe獨(dú)顯已亮機(jī)測(cè)試:14nm工藝 可戰(zhàn)GTX 1050
在周五的財(cái)報(bào)會(huì)議上,Intel首次了透露了旗下高性能Xe獨(dú)顯的進(jìn)度, CEO司睿博宣布DG1 GPU達(dá)成了一個(gè)重要里程碑。
本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/201910/406463.htm與此同時(shí),從AMD跳槽到Intel的圖形及視覺(jué)技術(shù)市場(chǎng)總監(jiān)Chris Hook也發(fā)了一條推——It's alive,直譯起來(lái)意思是“它還活著”,但是這條推文實(shí)際上應(yīng)該是暗示Intel的Xe GPU已經(jīng)點(diǎn)亮測(cè)試了。
此前Intel高級(jí)副總Raja Koduri暗示明年6月份的臺(tái)北電腦展上會(huì)發(fā)布Xe獨(dú)顯,但后面又有消息說(shuō)還是2020年下半年發(fā)布,只不過(guò)明年何時(shí)發(fā)布,現(xiàn)在這個(gè)時(shí)間點(diǎn)都應(yīng)該是流片驗(yàn)證了,因?yàn)榇笮托酒髌?yàn)證到發(fā)布通常需要一年左右的時(shí)間,Chris Hook的alive暗示DG1獨(dú)顯已經(jīng)進(jìn)入測(cè)試階段了。
根據(jù)之前的爆料,Intel的DG1獨(dú)顯將基于Xe架構(gòu),不過(guò)這是一款LP低功耗方向的顯卡,搭配GDDR6顯存,定位在GTX 1050級(jí)別的,后者是NVIDIA Pascal架構(gòu)的中低端顯卡,浮點(diǎn)性能1.9TFLOPS左右。
考慮到Intel目前的Gen11核顯的浮點(diǎn)性能已經(jīng)達(dá)到了1TFLOPS以上,Xe架構(gòu)會(huì)更先進(jìn)一代,之前說(shuō)是核顯級(jí)的Gen12(也是Xe架構(gòu))性能再次翻倍,所以DG1達(dá)到2TFLOPS級(jí)別的性能應(yīng)該沒(méi)壓力。
不過(guò)DG1獨(dú)顯的工藝可能有點(diǎn)特殊,爆料顯示是14nm工藝,而Intel之前的暗示都是說(shuō)Xe獨(dú)顯使用10nm工藝的。
話(huà)說(shuō)回來(lái),DG1如果是定位在入門(mén)級(jí)獨(dú)顯市場(chǎng),那么使用成熟、低成本而且高性能的14nm工藝實(shí)際上更合適,所以不排除Intel在Xe獨(dú)顯上使用14nm工藝作為中低端GPU的生產(chǎn)工藝。
當(dāng)然,2021年的時(shí)候Intel還會(huì)生產(chǎn)7nm工藝的Xe顯卡,不過(guò)這是給數(shù)據(jù)中心準(zhǔn)備的高性能GPU,這樣一來(lái)Intel的Xe顯卡就集齊14mm、10nm、7nm三種工藝了。
評(píng)論