Intel最新制程路線圖曝光：10nm+++得到證實、2029年上馬1.4nm

原文流傳年的幻燈片并非出自Intel官方，而是荷蘭光刻機巨頭ASML在Intel原有幻燈片基礎(chǔ)上自行修改的，5nm、3nm、2nm、1.4nm規(guī)劃均不是出自Intel官方，不代表Intel官方路線圖。

Intel官方原始幻燈片如下：

在IEDM（IEEE國際電子設(shè)備會議上），有合作伙伴披露了一張?zhí)柗Q是Intel 9月份展示的制造工藝路線圖，14nm之后的節(jié)點一覽無余，甚至推進到了1.4nm。

讓我們依照時間順序來看——

目前，10nm已經(jīng)投產(chǎn)，7nm處于開發(fā)階段，5nm處于技術(shù)指標定義階段，3nm處于探索、先導(dǎo)階段，2nm和1.4nm還在預(yù)研。節(jié)奏方面，從今年的10nm開始，Intel將以兩年的間隔來革新制程工藝，即2021年7nm EUV、2023年5nm、2025年3nm……所以理論上，1.4nm需要等到2029年，尺度上也就是12個硅原子大小。

10nm+++證實

從Intel的規(guī)劃不難看出，每一代工藝都至少要經(jīng)歷“+”和“++”兩次迭代改進，只有10nm是個例外，由于14nm的反復(fù)優(yōu)化，10nm被迫延期，所以當前的10nm其實已經(jīng)是10nm+，故明年會推出10nm++，2021年還有10nm+++。

向下移植

當前，Intel的芯片設(shè)計往往會考慮制程能力，也就是同步研發(fā)。但Intel將可能的延期問題考慮進來，引入“向下移植”特性，也就是說，初期以7nm為藍本設(shè)計的處理器方案，同樣可以使用10nm+++來制造。不過，Intel已經(jīng)表示，將盡快實現(xiàn)芯片設(shè)計和工藝節(jié)點的分離。

按照日前Intel CEO司睿博在瑞信大會上的說法，Intel 7nm首批產(chǎn)品確定會在2021年第四季度推出，相較于10nm，有著兩倍的晶體管密度。