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全球Fab廠設備支出有望在2021年創(chuàng)歷史新高

作者: 時間:2020-03-09 來源:SEMI大半導體產業(yè)網 收藏

日前,SEMI在其最新更新的《World Fab Forecast report》報告中指出,全球有望從2019年的低迷中反彈,并在今年出現溫和復蘇,然后在2021年大幅增長,從而創(chuàng)下投資紀錄。

本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/202003/410688.htm

報告顯示,2020年復蘇緩慢,同比增長3%至578億美元,很大程度上是由于自2019年下半年開始到2020年上半年下跌的18%。 隨著經濟開始復蘇,今年下半年前景應該會變得光明。

新型冠狀病毒(COVID-19)的爆發(fā)已經侵蝕了2020年中國的,促使我們對2019年11月發(fā)布的《世界晶圓廠預測》報告進行了向下修訂。盡管該病毒持續(xù)不利影響,但中國的仍將同比增長5%左右,今年將超過120億美元,并預期在2021年同比增長22%,達到150億美元。三星,SK海力士,中芯國際和YMTC的投資將推動這一增長。

在臺積電和美光投資的推動下,中國臺灣將在2020年成為最大的支出地區(qū),設備投資將近140億美元,但到2021年將跌至第三位,支出超過130億美元,下降5%。東南亞(主要是新加坡)也將在2020年和2021年實現強勁增長,2020年同比增長33%至22億美元,2021年同比增長26%。

在所有地區(qū)中,歐洲/中東地區(qū)將顯示最強勁的設備支出,到2020年將增長50%以上,達到37億美元,在英特爾、意法半導體和英飛凌的投資支持下,2021年的增長將與此相當。 在日本,隨著Kioxia / Western Digital、索尼和美光的投資,設備支出的增長在2020年幾乎可以忽略不計,而到2021年將增長到近4%。

緊隨其后的是,美洲在2020年的支出將比2019年減少,Fab廠設備的投資將下降24%至62億美元,2021年將繼續(xù)下滑4%。



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