三星首次將EUV技術(shù)應(yīng)用于DRAM生產(chǎn)
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時(shí)間：2020-03-26
來(lái)源：SEMI大半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)
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據(jù)ZDnet報(bào)道，三星宣布，已成功將EUV技術(shù)應(yīng)用于DRAM的生產(chǎn)中。
本文引用地址：http://butianyuan.cn/article/202003/411363.htm三星已經(jīng)出貨了100萬(wàn)個(gè)使用EUV工藝制造的10nm級(jí)DDR4 DRAM模塊，并得到了客戶(hù)的評(píng)估。三星表示，評(píng)估工作完成后，將為明年大規(guī)模生產(chǎn)新的DRAM鋪平道路。
三星在平澤工廠的EUV專(zhuān)用V2生產(chǎn)線將于下半年開(kāi)始生產(chǎn)DRAM模塊。該生產(chǎn)線預(yù)計(jì)將生產(chǎn)4代10nm級(jí)DDR5和LPDDR5。
這是平澤工廠除7nm邏輯芯片外又一使用EUV技術(shù)生產(chǎn)的芯片，三星稱(chēng)，EUV技術(shù)將使其單個(gè)12英寸晶圓的生產(chǎn)效率提升一倍。
三星、英特爾和臺(tái)積電等全球半導(dǎo)體制造商預(yù)計(jì)都將擴(kuò)大EUV技術(shù)在芯片生產(chǎn)中的應(yīng)用。三星此前曾表示，計(jì)劃利用EUV技術(shù)生產(chǎn)3nm芯片。
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