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微美全息宣布獲得霧化粒徑為2-4微米全息實時成像系統(tǒng)專利

作者: 時間:2021-04-26 來源:美通社 收藏

軟件有限公司(納斯達克: WiMi)(以下簡稱為“”或“公司”),一家領先的全息AR應用技術提供商,獲得霧化粒徑為2-4微米的專利。本專利為公司自主研發(fā)的成果,有利于公司進一步完善知識產(chǎn)權保護體系,保持技術領先地位,提升公司的核心競爭力。

本文引用地址:http://www.butianyuan.cn/article/202104/424835.htm

本專利提供的系統(tǒng),其有益效果在于,利用空間光調(diào)制器取代傳統(tǒng)的全息干板,由計算機生成數(shù)字全息圖并實現(xiàn)了全息圖的實時光學再現(xiàn)功能,和傳統(tǒng)的光學全息技術相比,它具有計算機接口、操作方便、可實時顯示等優(yōu)點。本專利系統(tǒng),包括輸入模塊、載體模塊和屏幕模塊;所述輸入模塊為電腦制作的全息圖;所述載體模塊包括激光器、擴束準直鏡頭、起偏器、空間光調(diào)制器、檢偏器、傅里葉透鏡,所述激光器輸出的光束依次經(jīng)擴束準直鏡頭、起偏器、空間光調(diào)制器、檢偏器、傅里葉透鏡,在所述屏幕模塊上顯示載入的輸入單元全息圖的物體。

本專利依據(jù)全息圖像建立數(shù)據(jù)庫,存儲實驗全息數(shù)據(jù)和背景全息數(shù)據(jù)。刪除實驗全息數(shù)據(jù)中的原始背景,獲取液滴霧化全息數(shù)據(jù),對液滴霧化全息數(shù)據(jù)進行灰度化處理。中值濾波,全息數(shù)據(jù)二值化,進行填補,獲得圖形填補閉合全息數(shù)據(jù),并進行圖形標定。作為優(yōu)選,所述屏幕模塊包括全息靜電霧化器,所述全息靜電霧化器產(chǎn)生的霧化粒徑為2-4微米,霧化量為100-150ml/h,形成的霧幕厚度在3-20cm。作為優(yōu)選,所述空間光調(diào)制器為透射式電尋址空間光調(diào)制。

本專利全息靜電霧化破碎過程中,空間非均勻電場的復雜性以及電場和流場的耦合等因素使得破碎較為復雜,因此通過將壓力霧化和全息靜電霧化相結(jié)合,采用雙相流液體全息靜電霧化裝置,結(jié)合雙相流全息靜電霧化的霧化性能進行算法處理:1)對全息靜電霧化以及液體荷電方式進行算法處理;2)建立霧化液滴粒徑無量綱分布的數(shù)學算法模型;3)結(jié)合粒徑的無量綱分布,建立粒徑無量綱分布與電壓、氣體壓力的算法模型。

本專利全息靜電霧化是通過電場力、電荷庫侖力、液滴表面張力及黏性力之間相互作用使霧化分裂。全息靜電霧化與其他霧化方法相比,具有霧化粒徑小、粒徑尺寸單一、空間彌散程度廣等優(yōu)點。通過控制不同算法參數(shù)能得到不同粒徑的霧化,霧化粒徑為2-4微米全息靜電霧化未來會在醫(yī)學、工業(yè)、環(huán)境、交通、靜電成像、3D打印、電動車等方面應用廣泛。




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