傳導輻射測試中分離共模和差模輻射的實用方法
作者簡介:Ling Jiang,電氣工程博士。在ADI公司電源產(chǎn)品部,工作地點位于美國加利福尼亞州圣克拉拉。Ling是一名應用工程師,負責為汽車、數(shù)據(jù)中心、工業(yè)和其他應用的控制器和μModule器件提供支持。E-mail:ling.jiang@analog.com。
本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/202107/427064.htmFrank Wang,電氣工程碩士。任ADI公司EMI工程師,在標準測試、時間表安排、工程調(diào)試、測試儀器校準和煙室維護方面擁有豐富的經(jīng)驗。E-mail:frank.wang@analog.com。
Keith Szolusha,碩士,是ADI公司應用總監(jiān),工作地點位于美國加利福尼亞州圣克拉拉。Keith在BBI電源產(chǎn)品部工作,重點關注升壓、降壓-升壓和LED驅(qū)動器產(chǎn)品,同時還管理電源產(chǎn)品部的EMI室。E-mail:keith.szolusha@analog.com。
Kurk Mathews是ADI公司電源產(chǎn)品部高級應用經(jīng)理,工作地點位于美國加利福尼亞。Kurk于1994年加入凌力爾特(現(xiàn)為ADI公司一部分)擔任應用工程師,為隔離轉(zhuǎn)換器和高功率產(chǎn)品提供支持。其所在部門支持電源應用和新型控制器、單芯片轉(zhuǎn)換器、柵極驅(qū)動器的開發(fā)。他喜歡使用各種新舊測試設備進行模擬電路設計和故障排除。E-mail:kurk.mathews@analog.com。
0 引言
開關穩(wěn)壓器的EMI 分為電磁輻射和傳導輻射(CE)。本文重點討論傳導輻射,其可進一步分為兩類:共模(CM)噪聲和差模(DM)噪聲。為什么要區(qū)分CM-DM ?對CM 噪聲有效的EMI 抑制技術不一定對DM 噪聲有效,反之亦然,因此,確定傳導輻射的來源可以節(jié)省花在抑制噪聲上的時間和金錢。本文介紹一種將CM 輻射和DM 輻射從LTC7818 控制的開關穩(wěn)壓器中分離出來的實用方法。知道CM 噪聲和DM 噪聲在CE 頻譜中出現(xiàn)的位置,電源設計人員便可有效應用EMI 抑制技術,從長遠來看可以節(jié)省設計時間和BOM 成本。
圖1 顯示了典型降壓轉(zhuǎn)換器的CM 噪聲和DM 噪聲路徑。DM 噪聲在電源線和返回線之間產(chǎn)生,而CM噪聲是通過雜散電容CSTRAY 在電源線和接地層(例如銅測試臺)之間產(chǎn)生。用于CE 測量的LISN 位于電源和降壓轉(zhuǎn)換器之間。LISN 本身不能用于直接測量CM 和DM 噪聲,但它確實能測量電源和返回電源線噪聲——分別為圖1 中的V1 和V2。這些電壓是在50 Ω 電阻上測得的。根據(jù)CM 和DM 噪聲的定義,如圖1 所示,V1 和V2 可以分別表示為CM 電壓(VCM)和DM 電壓(VDM)的和與差。因此,V1 和V2 的平均值就是VCM,而V1 和V2 之差的一半就是VDM。
1 測量CM噪聲和DM噪聲
T 型功率合成器是一種無源器件,可將兩個輸入信號合成為一個端口輸出。0° 合成器在輸出端口產(chǎn)生輸入信號的矢量和,而180° 合成器產(chǎn)生輸入信號的矢量差[1]。因此, 0° 合成器可用于產(chǎn)生VCM, 180° 合成器產(chǎn)生VDM。
圖2 所示的2 個合成器ZFSC-2-1W+( 0° )和ZFSCJ-2-1+( 180° )來自Mini-Circuits,用于測量(1~108)MHz 的VCM 和VDM。對于這些器件,頻率低于1 MHz 時測量誤差會增大。對于較低頻率的測量,應使用其他合成器, 例如ZMSC-2-1+( 0° ) 和ZMSCJ-2-2( 180° )。
圖2 0°和180°合成器
圖3 用于測量(a)VCM和(b)VDM的實驗裝置
圖4 用于測量CM噪聲和DM噪聲的測試設置
測試設置如圖3 所示。功率合成器已添加到標準CE 測試設置中。LISN 針對電源線和返回線的輸出分別連接到合成器的輸入端口1 和輸入端口2。0° 合成器的輸出電壓為VS_CM = V1+V2; 180° 合成器的輸出電壓為V S_DM = V1–V2。合成器的輸出信號VS_CM 和VS_DM 必須在測試接收器中處理,以產(chǎn)生VCM 和VDM。首先,功率合成器已指定接收器中補償?shù)牟迦霌p耗。其次,由于VCM = 0.5VS_CM 且VDM = 0.5 VS_DM,因此測試接收器從接收到的信號中再減去6 dBμV。補償這兩個因素之后,在測試接收器中讀出測得的CM 噪聲和DM 噪聲。
2 CM噪聲和DM噪聲測量的實驗驗證
使用一個裝有雙降壓轉(zhuǎn)換器的標準演示板來驗證此方法。演示板的開關頻率為2.2 MHz,VIN = 12 V,VOUT1 = 3.3 V,IOUT1 = 10 A,VOUT2 = 5 V,IOUT2 = 10A。圖4 顯示了EMI 室中的測試設置。
圖5 和圖6顯示了測試結果。在圖5 中,較高EMI 曲線表示使用標準CISPR 25 設置測得的總電壓法CE,而較低輻射曲線表示添加0° 合成器后測得的分離CM 噪聲。在圖6 中, 較高輻射曲線表示總CE,而較低EMI 曲線表示添加180° 合成器后測得的分離DM 噪聲。這些測試結果符合理論分析,表明DM 噪聲在較低頻率范圍內(nèi)占主導地位,而CM 噪聲在較高頻率范圍內(nèi)占主導地位。
圖5 測得的CM噪聲與總噪聲的關系
圖6 測得的DM噪聲與總噪聲的關系
3 調(diào)整后的演示板符合CISPR 25 Class 5標準
根據(jù)測量結果,在(30~108)MHz 范圍,總輻射噪聲超過了CISPR 25 Class 5 的限值。通過分離CM和DM 噪聲測量,發(fā)現(xiàn)此范圍內(nèi)的高傳導輻射似乎是由CM 噪聲引起的。添加或增強DM EMI 濾波器或以其他方式降低輸入紋波幾乎沒有意義,因為這些抑制技術不會降低該范圍內(nèi)引發(fā)問題的CM 噪聲。
因此,該演示板展示了專門解決CM 噪聲的辦法。CM 噪聲的來源之一是開關電路中的高dV/dt 信號。通過增加柵極電阻來降低dV/dt,可以降低該噪聲電平。如前所述,CM 噪聲通過雜散電容CSTRAY 穿過LISN。CSTRAY 越小,在LISN 中檢測到的CM 噪聲就越低。為了減小CSTRAY,應減少此演示板上開關節(jié)點的覆銅面積。
此外,轉(zhuǎn)換器輸入端添加了一個CM EMI 濾波器,以獲得高CM 阻抗,從而降低進入LISN 的CM 噪聲。通過實施這些辦法,(30~108)MHz 范圍的噪聲得以充分降低,從而符合CISPR 25 Class 5 標準,如圖7 所示。
圖7 總噪聲得到改善
4 結論
本文介紹了一種用于測量和分離總傳導輻射中的CM 噪聲和DM 噪聲的實用方法,并通過測試結果進行了驗證。如果設計人員能夠分離CM 和DM 噪聲,便可實施專門針對CM 或DM 的減輕解決方案來有效抑制噪聲??傊@種方法有助于快速找到EMI 故障的根本原因,節(jié)省EMI 設計的時間。
參考文獻:
[1] AN-10-006:了解功率分路器[Z].Mini-Circuits,2015.
(本文來源于《電子產(chǎn)品世界》雜志2021年7月期)
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