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最新超導(dǎo)量子位研究 成功導(dǎo)入CMOS制程

—— 采用CMOS兼容制程 可望進(jìn)入12吋晶圓廠
作者:IMEC 時(shí)間:2022-10-24 來(lái)源:CTIMES 收藏

量子計(jì)算機(jī)可望在特定應(yīng)用領(lǐng)域帶來(lái)巨變,包含材料合成、藥物開(kāi)發(fā)、網(wǎng)絡(luò)安全等等。在量子電路的運(yùn)算模型中,量子邏輯閘(簡(jiǎn)稱量子閘)利用少數(shù)量子來(lái)進(jìn)行基本運(yùn)算,與傳統(tǒng)數(shù)字電路里的邏輯閘雷同。量子是量子電路的基本構(gòu)件。全球正在努力開(kāi)發(fā)具備不同類型量子位的量子運(yùn)算平臺(tái),期望能將應(yīng)用從實(shí)驗(yàn)室擴(kuò)展到全球。

其中一項(xiàng)前景看好的量子運(yùn)算技術(shù)透過(guò)超導(dǎo)電路運(yùn)行。Anton Potocnik是深耕量子運(yùn)算領(lǐng)域的資深研究員,他表示:「的能量狀態(tài)相對(duì)容易操控,經(jīng)過(guò)這幾年,研究人員已能將越來(lái)越多的量子進(jìn)行耦合,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)更進(jìn)階的量子糾纏—這是量子運(yùn)算發(fā)展的其中一大支柱。除此之外,全球各地的研究團(tuán)隊(duì)已經(jīng)公開(kāi)展示的優(yōu)異性能,包含維持量子態(tài)長(zhǎng)達(dá)數(shù)百微秒的相干時(shí)間,以及達(dá)到一定水平的閘保真度(gate fidelity),兩者都是量子運(yùn)算的重要指標(biāo)?!?br/>
相干時(shí)間提供我們有關(guān)維持量子態(tài)(亦即數(shù)據(jù)保存)的時(shí)間信息;閘保真度則量化了理想的邏輯閘與其在實(shí)體量子電路對(duì)應(yīng)的物理閘之間的運(yùn)算誤差。

大型量子計(jì)算機(jī)的發(fā)展阻礙:變異度問(wèn)題
目前為止,剛剛提到的量子運(yùn)算效能只能在實(shí)驗(yàn)室看到成果,利用雙角蒸鍍法(double-angle evaporation)與剝離成形(lift-off)技術(shù)來(lái)制出最關(guān)鍵的組件結(jié)構(gòu):約瑟夫森接面(Josephson junction)。

Anton Potocnik解釋:「基本上,是非線性LC諧振電路,內(nèi)含一個(gè)非線性電感(L)與一個(gè)電容(C)。約瑟夫森接面作為非線性且非散熱的電感組件,能讓我們操控量子位的能量狀態(tài),例如代表|0>與|1>的迭加態(tài)。為了把能耗降到最低,也就是盡可能地延長(zhǎng)相干時(shí)間,約瑟夫森接面與電容的結(jié)構(gòu)內(nèi)部必須避免各個(gè)接口產(chǎn)生瑕疵。在任一接口存在原子大小的瑕疵都有可能導(dǎo)致量子位損失能量。因此,雙角蒸鍍法與剝離成形是較為理想的制程方案,它們能制出接近無(wú)瑕的接口?!?br/>
盡管如此,這些制程技術(shù)有一大缺點(diǎn),那就是難以實(shí)現(xiàn)量子位數(shù)量的規(guī)?;?。蒸鍍接面在約瑟夫森效應(yīng)下產(chǎn)生的超導(dǎo)電流存在一定的變異度,這就阻礙了大規(guī)模量子運(yùn)算。此外,制程技術(shù)也會(huì)限制超導(dǎo)材料的選擇,進(jìn)而阻礙量子位進(jìn)一步改良。

替代方案:CMOS相容制程
博士研究員Jeroen Verjauw表示:「團(tuán)隊(duì)已經(jīng)探索了超導(dǎo)電路的替代制程方案,主力放在所謂的覆蓋式約瑟夫森接面(overlap Josephson junction),僅用與CMOS兼容的材料與技術(shù)制成,藉此發(fā)揮先進(jìn)所具備的可靠度與再現(xiàn)性(reproducibility)優(yōu)勢(shì),以控制量子位變異度并實(shí)現(xiàn)規(guī)模化?!?br/>
覆蓋式接面包含下層(BE)與上層(TE)兩個(gè)電極,中間以絕緣層薄膜分隔。這些電極經(jīng)過(guò)兩次圖形化處理,期間導(dǎo)入一次真空制程,真空時(shí)會(huì)自然生成金屬氧化物,后續(xù)進(jìn)行氬氣(Ar)蝕刻時(shí)必須移除。

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圖一 : 覆蓋式接面的截面示意圖:上下層電極之間的重迭區(qū)域會(huì)定義出約瑟夫森接面(以及寄生雜散接面)的圖形。側(cè)壁會(huì)因?yàn)槲g刻制程而出現(xiàn)殘留物。綠色那層標(biāo)示了經(jīng)過(guò)氬氣蝕刻制程后產(chǎn)生的受損多晶硅層。

Jeroen Verjauw指出:「不過(guò),氬氣蝕刻制程有一定的風(fēng)險(xiǎn),之前就傳出會(huì)造成能量耗損?!?br/>
量子運(yùn)算生力軍:登場(chǎng)
imec研究員Tsvetan Ivanov表示:「我們的實(shí)驗(yàn)室展示了超導(dǎo)量子位的優(yōu)異效能,相干時(shí)間長(zhǎng)達(dá)數(shù)百微秒,平均閘保真度達(dá)到99.94%,與其他先進(jìn)量子芯片效能相當(dāng)。不同的是,這是首次透過(guò)CMOS兼容技術(shù)來(lái)獲得進(jìn)展,像是濺鍍沉積與蝕刻制程。改良目前的覆蓋式接面制程就能取得這些突破性成果,具體作為包含簡(jiǎn)化制程步驟與減少接口數(shù)量—藉此降低能耗損失的風(fēng)險(xiǎn),還有優(yōu)化氬氣蝕刻制程,并且僅用鋁(Al)來(lái)制作電極?!?br/>
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圖二 : (左)量子位能量釋放的量測(cè)結(jié)果;(右)平均閘保真度(gate fidelity)與平均閘錯(cuò)誤率(error per gate)。

三大發(fā)展目標(biāo):進(jìn)入12吋晶圓廠、降低損耗、提升再現(xiàn)性
imec此次發(fā)表的研究成果目前僅在實(shí)驗(yàn)室的測(cè)試基板上獲得驗(yàn)證。Tsvetan Ivanov表示:「雖然如此,此次展示的制程方法仍是重要的里程碑,預(yù)告著未來(lái)超導(dǎo)量子電路有望進(jìn)入12吋晶圓。我們很快就能將這些超導(dǎo)電路的制程技術(shù)轉(zhuǎn)移至imec的12吋晶圓廠。我們亟欲驗(yàn)證上述的量子態(tài)維持時(shí)間能否在大尺寸晶圓上達(dá)到相同結(jié)果?!?br/>
Jeroen Verjauw接著說(shuō)道:「為了研究能耗來(lái)源,我們還設(shè)計(jì)了測(cè)試芯片。首批研究結(jié)果顯示,能量損失主要源于組件結(jié)構(gòu)的表面,而非接面的那層。這項(xiàng)發(fā)現(xiàn)令人振奮,因?yàn)橹灰i定應(yīng)用導(dǎo)入專用的表面處理技術(shù),就有可能改善問(wèn)題。最后,我們的制造方案提供了在大尺寸晶圓上大規(guī)模制造量子位的方法,減緩量子位頻率等變異度問(wèn)題?!?br/>
但在實(shí)際應(yīng)用超導(dǎo)量子計(jì)算機(jī)之前,仍有一些問(wèn)題需要解決。Anton Potocnik總結(jié):「超導(dǎo)量子位(毫米等級(jí))與像是半導(dǎo)體自旋量子位(奈米等級(jí))相比,仍舊相對(duì)較大。我們正在針對(duì)組件微縮進(jìn)行研究,也在努力研發(fā)算法。目前我們做出的量子位還不盡理想,所以要從理論出發(fā),持續(xù)開(kāi)發(fā)具備更能容許損耗與誤差的算法,同時(shí)發(fā)展量子錯(cuò)誤更正協(xié)議。此外,我們還會(huì)需要可規(guī)?;医?jīng)過(guò)精密校正的儀器來(lái)連接持續(xù)增加的超導(dǎo)量子位,進(jìn)而進(jìn)行操控與讀取有用數(shù)據(jù)?!?br/>
結(jié)語(yǔ)
imec量子運(yùn)算研究計(jì)劃主持人Kristiaan De Greve認(rèn)為,此次的研究成果是邁向超導(dǎo)量子位規(guī)?;闹匾锍瘫?,憑借業(yè)界標(biāo)準(zhǔn)制程所具備的操控與準(zhǔn)確度優(yōu)勢(shì),將能克服關(guān)鍵挑戰(zhàn)。他表示:「未來(lái)很可能需要成千上百萬(wàn)個(gè)量子位來(lái)構(gòu)成量子運(yùn)算處理器,所以突破變異性與產(chǎn)量的限制會(huì)是關(guān)鍵。也因此,imec投入大量資源來(lái)了解這些發(fā)展限制并訂定相關(guān)標(biāo)準(zhǔn),同時(shí)善用我們?cè)谙冗M(jìn)制程管制方面的經(jīng)驗(yàn),引進(jìn)創(chuàng)新的解決方案?!?br/>
imec量子運(yùn)算研究計(jì)劃組長(zhǎng)Danny Wan最后補(bǔ)充:「imec量子運(yùn)算研究計(jì)劃的成員全都希望能將量子運(yùn)算帶出實(shí)驗(yàn)室,擴(kuò)及全球,不論是采用超導(dǎo)體或半導(dǎo)體。此次刊載于《NPJ Quantum Information》的研究成果大大助長(zhǎng)了信心,證實(shí)我們走在正確的道路上?!?br/>
(本文由imec提供;編譯/吳雅婷)

本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/202210/439449.htm


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