零漂移運算放大器使用斬波、自穩(wěn)零或這兩種技術的結合來消除不需要的低頻誤差源，例如失調和1/f噪聲。傳統(tǒng)上，此類放大器僅用于低帶寬應用中，因為這些技術在較高頻率時會產(chǎn)生偽像。只要系統(tǒng)設計時考慮了高頻誤差，例如紋波、毛刺和交調失真(IMD)等，較寬帶寬的解決方案也可以受益于零漂移運算放大器的出色直流性能。

零漂移技術

1、斬波背景

第一種零漂移技術是斬波，它將誤差調制到較高頻率，從而將失調和低頻噪聲與信號內容分離。

圖1顯示了(b)斬波如何將輸入信號（藍色波形）調制到方波，在放大器中處理該信號，然后(c)將輸出端信號解調回直流。與此同時，放大器中的低頻誤差（紅色波形）在(c)輸出端被調制到方波，然后(d)通過低通濾波器(LPF)濾波。

圖1.在(a)輸入、(b) V1、(c) V2和(d) V_OUT端的信號（藍色）和誤差（紅色）的時域波形

同樣，在頻域中，輸入信號（圖2中的藍色信號）被(b)調制到斬波頻率，在f_CHOP由增益級處理，(c)在輸出端解調回直流，最后(d)通過LPF。放大器的失調和噪聲源（圖2中的紅色信號）在DC頻率通過增益級處理，(c)由輸出斬波開關調制到f_CHOP，最后(d)由LPF濾波。由于采用方波調制，因此調制發(fā)生在調制頻率的奇數(shù)倍附近。

圖2.在(a)輸入、(b) V1、(c) V2和(d) V_OUT端的信號（藍色）和誤差（紅色）的頻域頻譜

從頻域和時域圖中均可看出，由于LPF不是理想的磚墻濾波器，因此調制噪聲和失調會造成一定的殘留誤差。

2、自穩(wěn)零背景

第二種零漂移技術——自穩(wěn)零——也是一種動態(tài)校正技術，其工作原理是采樣并消除放大器中的低頻誤差源。

圖3顯示了基本自穩(wěn)零放大器的例子。它由具有失調和噪聲的放大器、重新配置輸入和輸出的開關以及自穩(wěn)零采樣電容組成。

圖3.基本自穩(wěn)零放大器

在自穩(wěn)零階段(?₁)，電路的輸入短接到一個公共電壓，自穩(wěn)零電容對輸入失調電壓和噪聲進行采樣。請注意，在此階段，放大器無法用于信號放大。為使自穩(wěn)零放大器以連續(xù)方式運行，必須讓兩個相同通道交錯。這稱為乒乓式自穩(wěn)零。

在放大階段(?₂)，輸入連接回信號路徑，放大器又可用于放大信號。低頻噪聲、失調和漂移通過自穩(wěn)零來消除，剩余的誤差為誤差的當前值與前一樣本之差。由于低頻誤差源從?₁到?₂變化不大，因此這種減法效果很好。另一方面，高頻噪聲混疊到基帶，導致本底白噪聲提高，如圖4所示。

圖4.噪聲PSD：斬波或自穩(wěn)零之前，自穩(wěn)零之后，斬波之后，斬波和自穩(wěn)零之后

由于噪聲折疊以及需要額外通道以支持連續(xù)工作，因此對于獨立的運算放大器，斬波可能是更有效的零漂移技術²。

3、斬波偽像

盡管斬波可以很好地消除不需要的失調、漂移和1/f噪聲，但它會產(chǎn)生不必要的交流偽像，例如輸出紋波和毛刺。ADI最近的零漂移產(chǎn)品已采取措施來減小這些偽像，并使其位于較高頻率，使得系統(tǒng)級濾波更容易。

4、紋波偽像

斬波調制技術將低頻誤差移至斬波頻率的奇數(shù)次諧波，因此紋波是這種技術的后果。放大器設計人員采用許多方法來降低紋波的影響，包括：

l  生產(chǎn)失調微調：通過執(zhí)行一次性初始微調，可以顯著降低標稱失調，但失調漂移和1/f噪聲仍然存在。

l  斬波和自穩(wěn)零結合：放大器先自穩(wěn)零，然后執(zhí)行斬波，以將提高的噪聲譜密度(NSD)上調制到更高頻率。圖4顯示了斬波和自穩(wěn)零后得到的噪聲頻譜。

l  自動校正反饋(ACFB)：可以使用本地反饋環(huán)路來檢測輸出端的調制紋波，并在其來源處消除低頻誤差。

5、毛刺偽像

毛刺是由斬波開關的電荷注入不匹配引起的瞬態(tài)尖峰。此類毛刺的幅度取決于許多因素，包括源阻抗和電荷不匹配量。毛刺尖峰不僅會在斬波頻率的偶數(shù)次諧波處引起偽像，而且會產(chǎn)生與斬波頻率成比例的殘余直流失調。圖5（左）顯示了這些尖峰在圖1中的V1（斬波開關內部）和V2（輸出斬波開關之后）處的外觀。在斬波頻率的偶數(shù)次諧波處的額外毛刺偽像是由有限放大器帶寬引起的，如圖5（右）所示。

圖5.（左）圖1中的V1（斬波開關內部）和V2（斬波開關外部）處的電荷注入導致的毛刺電壓；（右）圖1中V1和V2處的有限放大器帶寬引起的毛刺

與紋波一樣，放大器設計人員也有降低零漂移放大器中的毛刺影響的技術：

l  電荷注入微調：可以將可調整電荷注入斬波放大器的輸入端，以補償電荷不匹配，從而減少運算放大器輸入端的輸入電流量。

l  多通道斬波：這不僅減小了毛刺幅度，而且還將其移至更高頻率，使濾波更加容易。與簡單地在更高頻率執(zhí)行斬波相比，該技術導致毛刺更頻繁，但幅度較小。圖6將典型的零漂移放大器與ADA4522進行了比較，后者使用該技術顯著降低了毛刺的影響。

圖6.ADA4522中的電壓尖峰降低到本底噪聲

總結一下，圖7顯示了斬波放大器的輸出電壓，其中包含：

?      紋波，由斬波頻率奇數(shù)倍處的上調制失調和1/f噪聲引起

?      毛刺，由斬波開關的電荷注入不匹配和有限放大器帶寬在斬波頻率的偶數(shù)倍處引起

圖7.斬波器放大器偽像，包括上調制紋波和電荷注入毛刺

系統(tǒng)級考慮因素

在數(shù)據(jù)采集解決方案中使用零漂移放大器時，務必了解頻率偽像的位置并作出相應的規(guī)劃。

1、在數(shù)據(jù)手冊中查找斬波頻率

數(shù)據(jù)手冊通常會明確說明斬波頻率，但通過查看噪聲頻譜圖也可以確定斬波頻率。ADI最新的幾款零漂移放大器的數(shù)據(jù)手冊顯示了偽像在頻譜中發(fā)生的位置。

ADA4528數(shù)據(jù)手冊不僅在“應用信息”部分明確說明了200kHz的斬波頻率，而且這也可以在圖8所示噪聲密度曲線中清楚地看出。

圖8.ADA4528的噪聲密度曲線

在ADA4522數(shù)據(jù)手冊的“工作原理”部分中，斬波頻率為4.8MHz，失調和紋波校正環(huán)路工作在800kHz。圖9顯示了ADA4522的噪聲密度，其中可以看到這些噪聲峰值。在單位增益時，由于環(huán)路的相位裕量較低，在6MHz處也有一個噪聲凸起，這不是零漂移放大器所獨有的。

圖9.ADA4522的噪聲密度曲線

務必記住，數(shù)據(jù)手冊中描述的頻率是一個典型數(shù)值，可能因器件而異。因此，如果系統(tǒng)需要兩個斬波放大器進行差分信號調理，請使用雙通道放大器，因為兩個單通道放大器在斬波頻率方面可能略有不同，因而可能相互作用并引起額外的IMD。

2、匹配輸入源阻抗

與輸入源阻抗相互作用的瞬態(tài)電流毛刺可能會導致差分電壓誤差，從而可能在斬波頻率的倍數(shù)處產(chǎn)生額外的偽像。圖10顯示了ADA4522在源電阻不匹配情況下的噪聲密度曲線（底部）。為了解決這一潛在的誤差源，系統(tǒng)設計人員應確保斬波放大器的每個輸入看到的阻抗相同（頂部）。

圖10.ADA4522中的噪聲：輸入源電阻匹配（頂部）和不匹配（底部）

3、IMD和混疊偽像

使用斬波放大器時，輸入信號可能與斬波頻率f_CHOP混頻，從而在f_IN ± f_CHOP、f_IN± 2f_CHOP、2f_IN ± f_CHOP…處產(chǎn)生IMD。這些IMD產(chǎn)物可能出現(xiàn)在目標頻段中，尤其是當f_IN接近斬波頻率時。為了消除此問題，請選擇斬波頻率遠大于輸入信號帶寬的零漂移放大器，并確保在此放大器級之前濾除頻率接近f_CHOP的干擾信號。

使用ADC對放大器輸出進行采樣時，斬波偽像也可能發(fā)生混疊。圖11顯示了ADC采樣時毛刺頻率混疊產(chǎn)生的IMD產(chǎn)物示例。這些IMD產(chǎn)物依賴于毛刺和紋波幅度，并且可能因器件而異。設計信號鏈時，有必要在ADC之前使用抗混疊濾波器以減少此IMD。

圖11.IMD的一個示例，其中ADC對毛刺采樣，并在f_SAMPLE–2f_CHOP處引起混疊。

4、斬波偽像濾波

在系統(tǒng)層次上，處理這些高頻偽像的最有效辦法是濾波。零漂移放大器和ADC之間的LPF減少了斬波偽像，并避免了混疊。因此，具有更高斬波頻率的放大器可放寬對LPF的要求，并支持更寬的信號帶寬。

例如，圖13顯示了ADA4522使用圖12所示不同技術來減輕斬波偽像的效果：提高閉環(huán)增益，后置濾波，以及并聯(lián)使用電容和反饋電阻。

圖12.濾除偽像的放大器配置

圖13.ADA4522 NSD，使用頂部顯示的一階濾波器方法：（左）提高增益會降低放大器帶寬，濾波器濾除噪聲尖峰；（右）使用RC濾波器。

根據(jù)系統(tǒng)對頻帶抑制的需求，可能需要一個更高階有源濾波器。ADI有許多資源可幫助設計濾波器，包括多重反饋濾波器教程和在線濾波器設計工具。

了解斬波偽像發(fā)生的頻率可以幫助創(chuàng)建所需的濾波器。表1列出了零漂移放大器引起的交流偽像的位置。

表1.交流斬波偽像位置小結

結論

通過了解零漂移放大器中的高頻偽像，系統(tǒng)設計人員可以更有信心地將零漂移放大器用于更寬帶寬的應用。系統(tǒng)設計考量因素包括：

?      零漂移放大器輸入端的源輸入阻抗應匹配

?      使用雙通道放大器進行差分信號調理

?      在數(shù)據(jù)手冊噪聲頻譜中找到偽像的頻率

?      設計濾波器以降低動態(tài)降失調技術所引起的高頻偽像的影響

?      了解頻域中的高頻偽像并作出合理規(guī)劃 

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關于作者

Simon Basilico是精密信號鏈部門（位于加利福尼亞州圣克拉拉）的設計工程師。Simon的工作側重于精密信號鏈，包括集成混合信號設計和系統(tǒng)級封裝解決方案。他畢業(yè)于斯坦福大學，在獲得電氣工程學士學位和碩士學位后，于2015年加入ADI公司。