限制ASML對(duì)華設(shè)備和技術(shù)輸出的新規(guī)又來了

據(jù)彭博社報(bào)道，ASML 與中國大陸客戶合作正面臨更嚴(yán)格的限制。

知情人士稱，荷蘭出口管制規(guī)則將禁止 ASML 在未經(jīng)政府批準(zhǔn)的情況下為受控設(shè)備進(jìn)行維護(hù)、修理和提供備件。這些限制與該國政府 6 月份發(fā)布的新規(guī)定有關(guān)，該規(guī)定禁止 ASML 從 9 月份開始在沒有許可證的情況下向中國大陸運(yùn)送浸入式深紫外光刻機(jī)。

知情人士表示，除了荷蘭的管制外，美國預(yù)計(jì)還將禁止 ASML 在未經(jīng)華盛頓批準(zhǔn)的情況下向大約 6 家中國大陸晶圓廠出售更舊的 DUV 光刻設(shè)備，拜登政府瞄準(zhǔn)的中國晶圓廠之一是由中芯國際運(yùn)營的一家工廠。

這些雙重限制是在喬·拜登總統(tǒng)政府去年對(duì)中國大陸實(shí)施全面出口限制的基礎(chǔ)上實(shí)施的，并有可能隨著時(shí)間的推移削弱中國大陸半導(dǎo)體公司的能力。中國政府對(duì)技術(shù)限制做出了強(qiáng)烈反應(yīng)，向世界貿(mào)易組織提出申訴。

SemiAnalysis 研究小組創(chuàng)始人迪倫·帕特爾 (Dylan Patel) 表示：「荷蘭的規(guī)定是官方的立場(chǎng)，因?yàn)楹商m不希望中國大陸能夠生產(chǎn)最先進(jìn)的半導(dǎo)體產(chǎn)品。如果無法獲得這些機(jī)器，中國芯片公司將在全球先進(jìn)邏輯和存儲(chǔ)芯片市場(chǎng)處于劣勢(shì)?！?/p>

「我預(yù)計(jì)新的限制將嚴(yán)重影響中國大陸芯片公司的未來計(jì)劃，」帕特爾說。「他們可能會(huì)被迫推遲或取消某些未來尖端工藝技術(shù)的開發(fā)。」

ASML 從未能夠向中國大陸出售其最先進(jìn)的芯片制造機(jī)器，這些機(jī)器使用極紫外（EUV）光刻技術(shù)，這是因?yàn)槊绹捌涿擞褤?dān)心這些技術(shù)可能被用來提升中國的軍事能力。

知情人士稱，拜登政府將通過援引《外國直接產(chǎn)品規(guī)則》對(duì) ASML 實(shí)施新的限制，該規(guī)則允許 ASML 限制外國設(shè)備供應(yīng)商的銷售，只要這些供應(yīng)商的產(chǎn)品含有哪怕少量的美國零部件。

此前，唐納德·特朗普政府采取了 FDPR 措施，以防止使用任何美國科技公司的芯片制造商未經(jīng)批準(zhǔn)向華為技術(shù)有限公司提供制造服務(wù)。此舉基本上削弱了這家中國電信巨頭曾經(jīng)利潤豐厚的智能手機(jī)業(yè)務(wù)。

其中一位人士表示，美國還可能禁止 ASML 為 6 家目標(biāo)晶圓廠安裝的未經(jīng)許可的受限機(jī)器提供維護(hù)和維修服務(wù)以及提供備件。知情人士表示，目前尚不清楚美國何時(shí)會(huì)實(shí)施這些額外限制。

知情人士稱，雖然荷蘭早些時(shí)候抵制美國對(duì) ASML 實(shí)施域外控制，但拜登政府和荷蘭首相馬克·呂特 (Mark Rutte) 就額外限制的國家安全必要性達(dá)成了諒解。預(yù)計(jì)荷蘭新法規(guī)不會(huì)受到該國聯(lián)合政府最近垮臺(tái)的影響。

荷蘭政府、美國商務(wù)部和 ASML 的代表拒絕置評(píng)。另外，ASML 本周表示，由于芯片行業(yè)低迷以及 2022 年的大規(guī)模招聘活動(dòng)，該公司計(jì)劃今年放慢招聘速度。

除了阻止中國大陸升級(jí)其半導(dǎo)體技術(shù)之外，美國和荷蘭的新管制措施還可能會(huì)隨著時(shí)間的推移減少中國大陸企業(yè)相對(duì)先進(jìn)芯片的現(xiàn)有產(chǎn)能。該國用于修理或更換損壞的外國設(shè)備的國內(nèi)替代品有限。ASML 幾乎壟斷了全球制造先進(jìn)和傳統(tǒng)芯片所需的關(guān)鍵光刻設(shè)備。

拜登政府在 2022 年 10 月份對(duì)美國芯片制造的維護(hù)和維修實(shí)施了與原來的出口管制規(guī)則類似的控制，這些限制影響了 ASML 的美國同行，包括應(yīng)用材料公司。

支持 7nm 高端 DUV 光刻機(jī)仍可出口

6 月底，荷蘭政府宣布了限制某些先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備出口的新規(guī)定，這些規(guī)定將于 9 月 1 日生效。具體而言，荷蘭政府將要求先進(jìn)芯片制造設(shè)備的公司在出口之前須獲得許可證。

ASML 在其官網(wǎng)發(fā)表聲明稱，該公司未來出口其先進(jìn)的浸潤式 DUV 光刻系統(tǒng)（即 TWINSCAN NXT:2000i 及后續(xù)浸潤式系統(tǒng)）時(shí)，將需要向荷蘭政府申請(qǐng)出口許可證。

ASML 強(qiáng)調(diào)，該公司的 EUV 系統(tǒng)的銷售此前已經(jīng)受到限制。

據(jù) ASML 官網(wǎng)提供的信息，該公司目前在售的主流浸沒式 DUV 光刻機(jī)產(chǎn)品共有三款，分別是：TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。

ASML 3 月曾表示，預(yù)計(jì) 2000i 和 2050i 這兩款產(chǎn)品會(huì)受到荷蘭政府的出口限制。再對(duì)比阿斯麥今天的回應(yīng)來看，TWINSCAN NXT:1980Di 這款浸潤式 DUV 光刻機(jī)并不在限制范圍內(nèi)。

ASML 官網(wǎng)上關(guān)于這一臺(tái) TWINSCAN NXT:1980Di 的介紹，其中在分辨率方面，寫到是大于等于 38nm（可以支持到 7nm 左右），而這是指一次曝光的分辨率，事實(shí)上光刻機(jī)是可以進(jìn)行多次曝光的。

理論上 NXT:1980Di 依然可以達(dá)到 7nm，只是步驟更為復(fù)雜，成本更高，良率可能也會(huì)有損失，晶圓廠用這一臺(tái)光刻機(jī)，大多是生產(chǎn) 14nm 及以上工藝的芯片，很少去生產(chǎn) 14nm 以下的工藝，因?yàn)榱悸实?，成本高，沒什么競(jìng)爭(zhēng)力。