混合鍵合在3D芯片中扮演主角

芯片制造商正在繼續(xù)爭奪每一寸空閑的納米空間，以繼續(xù)縮小電路尺寸，但未來五年，一項涉及尺寸大得多（數(shù)百或數(shù)千納米）的技術(shù)可能同樣重要。

該技術(shù)稱為混合鍵合，將兩個或多個芯片堆疊在同一封裝中。這使得芯片制造商能夠增加其處理器和存儲器中晶體管的數(shù)量，盡管晶體管的尺寸縮小正在普遍放緩，這曾經(jīng)推動了摩爾定律。今年 5 月在丹佛舉行的 IEEE 電子元件和技術(shù)會議（ECTC）上，來自世界各地的研究小組公布了該技術(shù)的多項改進，其中一些結(jié)果可能導(dǎo)致 3D 堆疊芯片之間的連接密度達到創(chuàng)紀(jì)錄的水平：每平方毫米硅約有 700 萬個連接。

英特爾公司的 Yi Shi 在 ECTC 會議上對工程師們說，由于半導(dǎo)體進步的新特性，所有這些聯(lián)系都是必要的。摩爾定律現(xiàn)在受制于一種稱為系統(tǒng)技術(shù)協(xié)同優(yōu)化（STCO）的概念，根據(jù)這一概念，芯片的功能（如高速緩沖存儲器、輸入/輸出和邏輯）將使用最適合每種功能的制造技術(shù)分別制造。然后再利用混合鍵合技術(shù)和其他先進的封裝技術(shù)將這些子系統(tǒng)組裝起來，使它們能像單個硅片一樣正常工作。但是，這只有在高密度連接的情況下才能實現(xiàn)。

在所有先進封裝技術(shù)中，混合鍵合技術(shù)提供的垂直連接密度最高。因此，它是先進封裝行業(yè)中增長最快的領(lǐng)域，Yole 集團技術(shù)和市場分析師 Gabriella Pereira 說。根據(jù) Yole 集團的預(yù)測，到 2029 年，整個市場規(guī)模將增長兩倍多，達到 380 億美元，屆時混合鍵合技術(shù)將占整個市場的一半左右，盡管目前還只是一小部分。

在混合鍵合中，每個芯片的頂面上都有銅墊。銅的周圍是絕緣層，通常是氧化硅，而焊盤本身則從絕緣層表面略微凹入。在對氧化物進行化學(xué)改性后，將兩個芯片面對面壓在一起，使每個芯片上的凹墊對齊。然后緩慢加熱夾層，使銅在間隙中膨脹并熔化，從而將兩個芯片連接起來。

1、混合鍵合從兩個晶圓或一個芯片和一個晶圓相對開始。配合面覆蓋有氧化物絕緣層和略微凹陷的銅墊，與芯片的互連層相連。

2、將硅片壓在一起以在氧化物之間形成初始鍵。

3、然后緩慢加熱堆疊的硅片，牢固地連接氧化物并擴展銅以形成電連接。

為了形成更牢固的鍵合，工程師們正在壓平氧化物的最后幾納米。即使是輕微的凸起或彎曲也會破壞緊密的連接。銅必須從氧化物表面凹陷到恰到好處的程度。凹陷太多則無法形成連接。凹陷太少則會將晶圓推開。研究人員正在研究如何將銅的水平控制到單個原子層。晶圓之間的初始連接是弱氫鍵。退火后，連接變成強共價鍵。研究人員預(yù)計，使用不同類型的表面（如碳氮化硅，它有更多位置可以形成化學(xué)鍵）將使晶圓之間的連接更牢固。混合鍵合的最后一步可能需要幾個小時，而且需要高溫。研究人員希望降低溫度，縮短工藝時間。盡管兩片晶圓上的銅擠壓在一起形成電連接，但金屬晶粒邊界通常不會從一側(cè)跨越到另一側(cè)。研究人員正試圖使大的單晶銅晶?？缭竭吔?，以提高導(dǎo)電性和穩(wěn)定性。

混合鍵合工藝既可以將單個尺寸的芯片連接到裝滿較大尺寸芯片的晶圓上，也可以將兩個裝滿相同尺寸芯片的晶圓連接起來。Pereira 說，后一種工藝比前一種工藝更為成熟，部分原因是它在相機芯片中的應(yīng)用。例如，歐洲微電子研究機構(gòu) Imec 的工程師已經(jīng)創(chuàng)造了一些有史以來最密集的晶圓對晶圓鍵合，鍵合距離（或間距）僅為 400 納米。但 Imec 的芯片對晶圓鍵合間距僅為 2 微米。

與目前生產(chǎn)的先進 3D 芯片相比，后者有了巨大進步，因為后者的連接間距約為 9 微米。與前代技術(shù)相比，這是一個更大的飛躍：焊料 "微凸點 "的間距只有幾十微米。

"就現(xiàn)有設(shè)備而言，晶圓與晶圓之間的對準(zhǔn)比芯片與芯片之間的對準(zhǔn)更容易。法國研究機構(gòu) CEA Leti 的集成與封裝科學(xué)負(fù)責(zé)人 Jean-Charles Souriau 說："大多數(shù)微電子工藝都是為完整晶圓制造的。但在 AMD 等公司的高端處理器中，片上晶圓（或晶粒到晶圓）技術(shù)大放異彩，該技術(shù)被用于在其先進的 CPU 和人工智能加速器中組裝計算核心和高速緩沖存儲器。

為了使這兩種方案的間距越來越小，研究人員正致力于使表面更平整，使綁定的晶圓更好地粘在一起，并縮短整個過程的時間，降低其復(fù)雜性。如果能做到這一點，就能徹底改變芯片的設(shè)計方式。

不同方法的研究進展

最近進行的晶圓級（WoW）研究實現(xiàn)了從 360 納米到 500 納米的最緊湊間距，其中在平面度方面投入了大量精力。要以 100 納米級的精度將兩個晶圓粘合在一起，整個晶圓必須幾乎完全平整。如果有絲毫的彎曲或翹曲，整塊晶圓就無法連接。

壓平晶圓是一種稱為化學(xué)機械平坦化（CMP）的工藝。它對芯片制造至關(guān)重要，尤其是在生產(chǎn)晶體管上方的互連層時。

"Souriau 說："CMP 是我們必須控制的混合鍵合關(guān)鍵參數(shù)。在 ECTC 上展示的結(jié)果表明，CMP 又上了一個臺階，它不僅能使整個晶圓平整，還能減少銅墊之間絕緣層上僅有的納米級圓度，以確保更好的連接。

其他研究人員則專注于確保這些部件足夠牢固地粘在一起。為此，他們嘗試使用不同的表面材料，如碳化硅代替氧化硅，并采用不同的方案對表面進行化學(xué)激活。最初，晶圓或芯片被壓在一起時，它們是通過相對較弱的氫鍵固定在一起的，人們關(guān)心的是在進一步的加工步驟中，所有部件是否都能保持在原位。連接后，晶圓和芯片會在一個稱為退火的過程中緩慢加熱，以形成更強的化學(xué)鍵。這些化學(xué)鍵到底有多強--甚至如何找出這些化學(xué)鍵--是 ECTC 會議上的大部分研究課題。

最終的鍵合強度部分來自銅連接。退火步驟使銅在間隙中膨脹，形成導(dǎo)電橋。三星的 Seung Ho Hahn 解釋說，控制間隙的大小是關(guān)鍵。膨脹太小，銅就不會熔合。膨脹太大，晶圓就會被推開。這是一個納米級的問題，Hahn 報告了他對一種新化學(xué)工藝的研究，他希望通過每次蝕刻掉一個原子層來獲得恰到好處的銅。

連接的質(zhì)量也很重要。芯片互連中的金屬不是單晶，而是由許多晶粒組成，這些晶粒朝向不同的方向。即使銅膨脹后，金屬的晶粒邊界通常也不會從一側(cè)跨越到另一側(cè)。這種跨越應(yīng)該會降低連接的電阻并提高其可靠性。日本東北大學(xué)的研究人員報告了一種新的冶金方案，該方案最終可以生成跨越邊界的大型單晶銅。「這是一個巨大的變化，」東北大學(xué)的副教授 Takafumi Fukushima 說?！肝覀儸F(xiàn)在正在分析其背后的原因。」

在 ECTC 上討論的其他實驗主要集中在簡化鍵合過程上。有幾項實驗試圖降低形成鍵合所需的退火溫度--通常約為 300 攝氏度，以最大限度地降低芯片因長時間加熱而受損的風(fēng)險。來自應(yīng)用材料公司的研究人員介紹了一種從根本上縮短退火所需時間（從數(shù)小時縮短到僅 5 分鐘）的方法的研究進展。

目前，晶圓上芯片（CoW）混合鍵合對高級 CPU 和 GPU 制造商更有用：它允許芯片制造商將不同尺寸的芯片堆疊在一起，并在將每個芯片與另一個芯片綁定之前對其進行測試，從而確保不會因為一個有缺陷的部件而導(dǎo)致昂貴的 CPU 毀于一旦。

但是，CoW 具有 WoW 的所有困難，但卻少有緩解困難的選擇。例如，CMP 的設(shè)計目的是壓平晶圓，而不是單個晶粒。一旦芯片從源晶圓上切割下來并經(jīng)過測試，就很難再提高它們的接合準(zhǔn)備程度了。

不過，英特爾公司的研究人員報告了間距為 3 微米的 CoW 混合鍵合技術(shù)，如前所述，Imec 公司的一個研究小組也成功地實現(xiàn)了 2 微米的間距，這主要是通過在轉(zhuǎn)移的裸片仍附著在晶圓上時使其非常平整，并在整個過程中保持特別清潔。這兩個小組都使用等離子體蝕刻技術(shù)來切割芯片，而不是使用專用刀片的常規(guī)方法。與刀片不同，等離子刻蝕不會導(dǎo)致邊緣崩裂，從而產(chǎn)生可能影響連接的碎屑。它還允許 Imec 小組塑造模具形狀，制作倒角，從而減輕可能破壞連接的機械應(yīng)力。

ECTC 的幾位研究人員表示，CoW 混合鍵合對未來的高帶寬內(nèi)存（HBM）至關(guān)重要。HBM 是在控制邏輯芯片上堆疊的 DRAM 芯片，目前有 8 到 12 個芯片。HBM 通常與高端 GPU 放在同一個封裝內(nèi)，對于處理運行大型語言模型（如 ChatGPT）所需的海嘯式數(shù)據(jù)量至關(guān)重要。如今，HBM 芯片采用微凸塊技術(shù)堆疊，因此每層之間都有由有機填充物包圍的微小焊球。

但隨著人工智能對內(nèi)存的需求越來越高，DRAM 制造商希望在 HBM 芯片中堆疊 20 層或更多層。微凸塊所占的體積意味著這些堆疊層很快就會過高，無法與 GPU 正常封裝在一起?；旌湘I合技術(shù)可以縮小 HBM 的高度，還能更容易地從封裝中帶走多余的熱量，因為層與層之間的熱阻更小。

在 ECTC 上，三星工程師展示了混合鍵合技術(shù)可以產(chǎn)生 16 層 HBM 堆棧。"三星公司的高級工程師 Hyeonmin Lee 說："我認(rèn)為使用這種技術(shù)可以制造出超過 20 層的堆棧。其他新的 CoW 技術(shù)也有助于將混合鍵合技術(shù)引入高帶寬內(nèi)存。CEA Leti 的研究人員正在探索所謂的自對準(zhǔn)技術(shù)，Souriau 說。這將有助于確保僅使用化學(xué)工藝就能實現(xiàn)良好的 CoW 連接。每個表面的某些部分將被制成疏水的，而某些部分將被制成親水的，從而使表面能夠自動滑入到位。

在 ECTC 會議上，來自東北大學(xué)和雅馬哈機器人公司的研究人員報告了類似方案的研究成果，他們利用水的表面張力對 DRAM 實驗芯片上 5μm 的焊盤進行對齊，精度超過 50nm。

混合鍵合的界限

研究人員幾乎肯定會繼續(xù)縮小混合鍵合連接的間距。臺積電尋路系統(tǒng)項目經(jīng)理 Han-Jong Chia 告訴 ECTC 的工程師，200 納米的 WoW 間距不僅是可能的，而且是理想的。臺積電計劃在兩年內(nèi)推出一種稱為背面功率傳輸?shù)募夹g(shù)。(這種技術(shù)將芯片上龐大的功率傳輸互連線置于硅表面之下，而不是之上。根據(jù)臺積電研究人員的計算，由于沒有了這些電源導(dǎo)管，最上層可以更好地連接到更小的混合鍵合焊盤上。使用 200 納米鍵合焊盤的背面功率傳輸將大大減少三維連接的電容，從而使能效和信號速度比使用 400 納米鍵合焊盤時提高八倍之多。

Chia 認(rèn)為，在未來的某個時刻，如果鍵合間距進一步縮小，那么 "折疊 "電路塊，使其橫跨兩個晶片來構(gòu)建，可能會變得切實可行。這樣，現(xiàn)在電路塊內(nèi)的一些長連接就可以采用垂直捷徑，從而有可能加快計算速度并降低功耗。

混合鍵合可能并不局限于硅。"CEA Leti 的 Souriau 說："如今，硅-硅晶圓的發(fā)展十分迅速，但我們也在尋求氮化鎵與硅晶圓、玻璃晶圓...... 所有材料之間的混合鍵合。他所在的組織甚至展示了量子計算芯片的混合鍵合研究，其中涉及超導(dǎo)鈮而不是銅的排列和鍵合。

Souriau 說：「很難說極限會是多少。事情發(fā)展得非?？臁！?/span>