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英特爾:最新節(jié)點(diǎn)上的產(chǎn)品設(shè)計(jì)和工藝準(zhǔn)備進(jìn)展順利,已具備更早地過渡到Intel 18A的能力

作者: 時(shí)間:2024-09-06 來源: 收藏

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本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/202409/462721.htm

英特爾即將實(shí)現(xiàn)“四年五個(gè)制程節(jié)點(diǎn)”計(jì)劃,將提前把工程資源從Intel 20A投入到Intel 18A,按計(jì)劃于2025年推出Intel 18A。

Intel 18A在晶圓廠里的生產(chǎn)良好,良率表現(xiàn)優(yōu)秀,基于Intel 18A的產(chǎn)品已上電運(yùn)行并順利啟動(dòng)操作系統(tǒng)。目前,Intel 18A的缺陷密度已經(jīng)達(dá)到D0級別,小于0.40。

今年7月,英特爾發(fā)布了Intel 18A 制程節(jié)點(diǎn)上的設(shè)計(jì)套件(PDK 1.0版本),得到了生態(tài)系統(tǒng)的積極響應(yīng)。

通過Intel 20A,英特爾首次成功地集成了RibbonFET全環(huán)繞柵極晶體管架構(gòu)和PowerVia背面供電技術(shù),這兩項(xiàng)技術(shù)都將用于Intel 18A。這展示了半導(dǎo)體創(chuàng)新的迭代特性,英特爾將把這些進(jìn)步帶給英特爾代工服務(wù)的客戶。

Intel 18A的開發(fā)建立在Intel 20A所奠定的基礎(chǔ)之上,體現(xiàn)了英特爾不斷探索和完善對推進(jìn)摩爾定律至關(guān)重要的新技術(shù)、材料和晶體管架構(gòu)的實(shí)踐。




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