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新一代功率器件將在2013年迎來技術(shù)大挑戰(zhàn)

作者: 時間:2013-01-29 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏
2013年1份月已過去大半,筆者想在此介紹一個2013年將受關(guān)注的領(lǐng)域。雖然這樣的領(lǐng)域很多,但筆者此次要說的是SiC及GaN等新一代功率半導(dǎo)體的動向。該領(lǐng)域之所以會受到關(guān)注,是因為在2013年,新一代功率半導(dǎo)體的使用范圍有望繼2012年之后繼續(xù)擴大。

  2012年,SiC二極管在鐵路領(lǐng)域及工業(yè)設(shè)備領(lǐng)域的采用趨于活躍。伴隨這一趨勢,SiC功率元件的開發(fā)也在加快。配備SiC二極管以及SiC MOSFET的“全SiC”功率模塊產(chǎn)品的亮相,成為2012年一大熱點新聞

  而GaN功率元件也一樣,在2012年取得了巨大進展。耐壓600V的GaN功率晶體管于2012年亮相,而以前產(chǎn)品的最大耐壓只有200V。

  因此,簡單地說,SiC及GaN功率元件與數(shù)年前相比,有種一下子來到身邊的感覺。這些元件與使用Si的功率元件相比,能夠高速開關(guān),因此可大幅減小開關(guān)損失。另外還能實現(xiàn)以更高頻率開關(guān)的“高頻工作”。這樣一來,電感器等周邊部件便可輕松實現(xiàn)小型化。而且這些新型功率元件還可“高溫工作”,可使冷卻器的體積更小。

  而實際上,要想利用高速開關(guān)、高頻工作及高溫工作這些優(yōu)點,還必須要解決諸多課題。比如,高速開關(guān)要求防止浪涌、瞬變及電磁噪聲的發(fā)生;高頻工作存在電抗損失增大的問題;而高溫工作則需要使用低價格的周邊部件,同時必須要在超過200℃的溫度下實現(xiàn)穩(wěn)定工作。要解決這些課題,就必須積累新技術(shù)。

  碳化硅、氮化鎵成為第三代半導(dǎo)體材料

  半導(dǎo)體是介于導(dǎo)體和絕緣體之間的材料,自1947年12月23日正式發(fā)明后,在家電、通信、網(wǎng)絡(luò)、航空、航天、國防等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用,給電子工業(yè)帶來革命性的影響。

  2010年,全球半導(dǎo)體市場達到2983億美元,拉動上萬億美元的電子產(chǎn)品市場。

  伴隨著半導(dǎo)體市場的壯大,半導(dǎo)體材料也不斷獲得突破。

  一般將鍺和硅稱為第一代半導(dǎo)體材料。

  將砷化鎵、磷化銦等稱為第二代半導(dǎo)體材料,而將寬禁帶的碳化硅、氮化鎵和金剛石等稱為第三代半導(dǎo)體材料。

  第一代材料中,12英寸單晶硅已經(jīng)大規(guī)模生產(chǎn),18英寸單晶硅已在實驗室研制成功,全球每年集成電路中的硅用量大約2萬噸。

  多晶硅方面,由于國內(nèi)產(chǎn)品純度不夠,我國集成電路所用硅片基本靠進口。

  2011年,我國多晶硅產(chǎn)量為5萬噸。

  硅基微電子技術(shù)方面,國際上8英寸已經(jīng)廣泛用于大規(guī)模集成電路,我國現(xiàn)有5~12英寸集成電路線約38條。

  在工藝水平上,國際上12英寸45納米工藝也投入工業(yè)生產(chǎn),預(yù)計2016年開發(fā)出16納米工藝。

  但我國還停留在0.18微米、90納米、65納米水平上,只有少數(shù)企業(yè)擁有45納米工藝。

  到2015年,我國將擁有多條45~90納米的8英寸、12英寸生產(chǎn)線。2022年進入國際前列。

  不過隨著集成度提高,硅晶片會遇到很多困難,例如芯片功耗急劇增加,極有可能將硅片融掉。

  國際上預(yù)計,2022年將達到“極限”尺寸——10納米。

  因此,硅基微電子技術(shù)最終將無法滿足人類對信息量不斷增長的需求。

  人們目前開始把希望放在發(fā)展新型半導(dǎo)體材料和開發(fā)新技術(shù)上。

  以砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP)等為代表的第二代半導(dǎo)體材料不斷向硅提出挑戰(zhàn)。

  它可以提高器件和電路的速度,以及解決由于集成度的提高帶來的功耗增加而出現(xiàn)的問題。

  GaAs、InP等材料被廣泛應(yīng)用于衛(wèi)星通訊、移動通訊、光通信、GPS導(dǎo)航等領(lǐng)域。直徑為2、4、6英寸的GaAs已經(jīng)得到商業(yè)化應(yīng)用,8英寸的也已經(jīng)在實驗室研制成功。

  氮化鎵、碳化硅、氧化鋅等為代表的第三代半導(dǎo)體材料也發(fā)展很快,這些材料都是寬帶隙半導(dǎo)體材料。它具有禁帶寬度大、擊穿電壓高、熱導(dǎo)率大、電子飽和漂移速度快、介電常數(shù)小等特征,能夠在很多領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。例如在半導(dǎo)體白光照明方面,到2015年,我國將開發(fā)出150lm/W的半導(dǎo)體照明燈,電壓只需要3~4伏,非常安全和節(jié)能。

  半導(dǎo)體材料發(fā)展的趨勢是由三維體材料向低維材料方向發(fā)展。目前,基于GaAs和InP基的低維材料已經(jīng)發(fā)展得很成熟,廣泛地應(yīng)用于光通信、移動通訊、微波通訊的領(lǐng)域。

  實際上,這些低維半導(dǎo)體材料亦即納米材料。半導(dǎo)體納米科學(xué)技術(shù)的應(yīng)用,將從原子、分子、納米尺度水平上,控制和制造功能強大、性能優(yōu)越的人工微結(jié)構(gòu)材料和基于它們的器件和電器、電路,極有可能觸發(fā)新的技術(shù)革命,使人類進入變幻莫測的量子世界。



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