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如何用DFM方法提高LTCC設(shè)計效率

作者: 時間:2012-02-19 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏
FONT-SIZE: 14px; PADDING-BOTTOM: 0px; MARGIN: 0px 0px 20px; COLOR: rgb(0,0,0); TEXT-INDENT: 2em; LINE-HEIGHT: 24px; PADDING-TOP: 0px">在設(shè)計周期期間,制造過程和布線參數(shù)的這些變差可能不可避免。電路部件參數(shù)值甚至可能受這些變差的影響,通常用部件容忍度來表示。在設(shè)計周期中,部件參數(shù)值、制造過程變差以及跟布線參數(shù)變差有關(guān)的這些改變通常難以事后修正。因此,設(shè)計早期把它們考慮進來將有助于保證高產(chǎn)量一次設(shè)計成功。

在所有可能的過程和布線參數(shù)變差中,一些變差對輸出參數(shù)造成的影響比其它變差更為關(guān)鍵。要理解輸出參數(shù)對這些關(guān)鍵參數(shù)變差的敏感度并不難,但有效的首要步驟是。例如,插損可以受到布線寬度或基底厚度變差不同的影響。為了在設(shè)計中實現(xiàn)性能偏差更小,關(guān)鍵是首先理解和控制最為敏感的參數(shù)。仿真軟件里的靈敏度分析包括將性能響應(yīng)函數(shù)對有用設(shè)計變量取偏導(dǎo)數(shù),這就有助于準(zhǔn)確找到那些對性能變化有不同程度影響的變量。作為其基本統(tǒng)計包的一部分,ADS軟件提供了靈敏度分析功能。

定向耦合器的插損、方向性和耦合比作為基底厚度、線寬和對齊度三種不同參數(shù)的函數(shù)而發(fā)生變化。這三種情況代表標(biāo)稱、低端和高端極端情形。例如,W0代表線寬標(biāo)稱值而W0+代表上端極端情況。大量采用Momentum EM仿真收集變差數(shù)據(jù)來研究此問題。

如何用DFM方法實現(xiàn)LTCC設(shè)計一次成功

盡管設(shè)計人員可以從這些曲線對敏感度做出一些類推,但使用圖形表示結(jié)果就更容易和更有用。例如排列圖(Pareto)顯示了某個參數(shù)變差對性能影響的百分比。圖5給出了對定向耦合器性能變差造成影響的參數(shù)或因子的Pareto圖。該圖顯示基底厚度變差對插損的影響超過其它參數(shù)或它們的組合。例如,在性能上有60%的變差來自于基底厚度變差的作用。

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本文中低通濾波器實例采用一個三階橢圓濾波器設(shè)計,使用了一個電感來使插損最小。實際上,濾波器損耗的根本原因來自電感響應(yīng)或品質(zhì)因素(Q)。濾波器的全部元件實現(xiàn)為具有內(nèi)嵌式無源元件的層。

任何設(shè)計始于確定性能要求,接下來是可行性研究,這一時期可能設(shè)計出電路拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)。對于濾波器,設(shè)計人員常常依賴濾波器綜合工具來試驗不同的結(jié)構(gòu)。這個階段之后,要確定出基線電路模型及其合適的理想集總元件參數(shù)值。由于設(shè)計人員必須為制作一個內(nèi)嵌式無源部件來代替理想集總元件部件,這就需要進行EM仿真來準(zhǔn)確建模和仿真這些內(nèi)嵌的無源部件。

利用仿真產(chǎn)生的S參數(shù)可以抽取出包含寄生電路元件的寬帶集總無源模型。抽取過程使用數(shù)值優(yōu)化程序,用解析表達(dá)式計算電路模型的各初值。寬帶集總無源模型有助于進行統(tǒng)計分析,包括比直接用EM仿真器更為快速實的優(yōu)化實現(xiàn)。

提取的寬帶模型用來代替簡單的集總元件模型。然后,用電路仿真器通過對每個元件尋找給定一組性能條件下的最優(yōu)元件參數(shù)值使新的基線電路得到優(yōu)化。這個過程要反復(fù)進行直到所有先前的理想部件被內(nèi)嵌物理部件所代替。一旦設(shè)計滿足其性能要求,就該進行蒙特卡洛分析以了解性能作為制造過程的函數(shù)的統(tǒng)計特性。

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在抽取出寬帶模型,獲得內(nèi)嵌電容和電感后,低通濾波器例子的最終布局示于圖4。圖6針對濾波器插損將EM仿真跟提取的集總部件模型結(jié)果進行了比較,集總元件模型與EM模型之間一致性很好。圖7把EM仿真響應(yīng)與測量數(shù)據(jù)作了對比,結(jié)果又一次接近一致。



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