新聞中心

EEPW首頁 > 光電顯示 > 設(shè)計應用 > 微型雷射投影機技術(shù)與發(fā)展趨勢分析

微型雷射投影機技術(shù)與發(fā)展趨勢分析

作者: 時間:2012-04-21 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

  近年來,隨著多媒體手機、行動電視、數(shù)位相機與攝影機、電子游戲機、行動式多媒體播放器等行動式電子產(chǎn)品的普及,培養(yǎng)消費者在行動裝置上觀看多媒體資料的習慣與攝錄影,也刺激消費者對于多媒體資料的需求。然而,為攜帶方便,目前終端產(chǎn)品的螢幕尺寸對于消費者而言還是太小,無法長時間透過熒幕觀看多媒體資料,因此,催生微型機的商機及需求。

  目前微型雷射已被市場研究機構(gòu)視為下一世代的殺手級應用產(chǎn)品,且其整合的光機電技術(shù),被公認為最有商業(yè)價值的新技術(shù)開發(fā)領(lǐng)域,將對包括手機在內(nèi)的消費性行動電子產(chǎn)品生態(tài)產(chǎn)生重大變化,所以手機一旦內(nèi)建微型雷射,即可取代傳統(tǒng)笨重的投影機,對于生活的便利、商業(yè)的需求將會有極大的幫助。

  雷射光較具備更多優(yōu)勢

  表1為微型投影機相關(guān)的技術(shù)的整理比較。技術(shù)原理其實都很類似,皆是由光源出發(fā),經(jīng)過模組端諸如微型掃描反射鏡(MEM)、硅基液晶(LCoS)、液晶顯示器(LCD)或數(shù)位微鏡裝置(DMD)的處理(前者為新技術(shù)、后三者為現(xiàn)有技術(shù)),再經(jīng)過光學系統(tǒng)投影到熒幕上,呈現(xiàn)出色彩豐富的平面影像。以上的分類歸納到最頂層源頭,大致可由光源部分分為二大類--發(fā)光二極管與雷射Laser。

微型雷射投影機技術(shù)與發(fā)展趨勢分析
表1 微型投影機相關(guān)技術(shù)比較表


  微型投影機成本高、良率低,就DMD來說,需要百萬組微振鏡,一個鏡子只能顯示一個畫素,設(shè)計愈多才能顯示更多的畫素,造成制程難度與成本增加。且每一款LED投影機光機設(shè)計復雜,需要復雜的光學系統(tǒng)進行聚焦,造成體積大、耐摔性差,而不易置入行動電子產(chǎn)品中。微型雷射投影機只需要一片微型掃描鏡,即可掃描出很多畫素,而且設(shè)計的掃描鏡,若具更高頻與更大角度,就可具備高階顯像的成本優(yōu)勢。再者,其掃描方式的最大好處是沒有鏡頭與對焦問題,投影機任意擺設(shè)皆可,雷射光投影出去,在任何的平面上就形成影像,不須如LED投影機還要旋轉(zhuǎn)鏡頭調(diào)整焦距,所以光機架構(gòu)非常簡單,目前微型化于行動電子產(chǎn)品的可能性最高,而且,掃描鏡是經(jīng)由微機電制程批次量制造,可大幅降低成本。

  另外,在色彩表現(xiàn)與效能消耗方面,雷射光因具有高指向性同調(diào)光,在空氣中傳播時不易被干涉,所以能將光傳遞至遠處,其發(fā)光頻譜亦較LED窄。雷射的發(fā)光頻譜半高寬(FWHM)不到1納米(nm),而LED半高寬卻高達50納米,所以在色彩的表現(xiàn)上,雷射光色純度較佳,比LED銳利飽滿。又雷射的電光轉(zhuǎn)換效率高,與同樣的發(fā)光波長比較,雷射會將輸入的電幾乎全部轉(zhuǎn)換成光;LED會將輸入的電轉(zhuǎn)換成發(fā)光頻譜較寬的光,而且還須要靠光學系統(tǒng)收集漫散的光源,LED的光電轉(zhuǎn)換效率明顯較差。因此,與LED總體比較起來,雷射作為投影機的光源會比LED有較佳的效率與省電性,且產(chǎn)生的熱也比較少,隨著紅綠藍(RGB)光三原色到齊,全球?qū)⑾破鹄咨滹@示的熱潮,在未來光電產(chǎn)業(yè)中,半導體雷射將具有舉足輕重的地位。

  雷射光源于微型投影架構(gòu)中扮演重要角色

  微型雷射光機引擎各個元件設(shè)計與擺置如圖1所示,主要由RGB雷射源、分光鏡(Dichroic)、掃描鏡(Scanning Mirror)、基座(Base)四部分組合而成。微型雷射光機引擎運作時,由于分光鏡所鍍之鍍膜層對紅光不起反射作用,因此紅光會直接穿透兩片分光鏡;綠光會于到達前一片分光鏡時呈90度角反射,而于另一片時呈現(xiàn)穿透狀況;藍光會在到達分光鏡時,呈90度角反射,最后,三原色光源呈現(xiàn)溷光狀態(tài),到達掃描鏡片時,再呈90度角反射而投影到顯示屏幕。當掃描鏡片開始作動時,會有±10o~±15o的掃描角度(依各家廠商之規(guī)格而有所不同),此時,在屏幕上就會由混光的投射點掃描變成二維的混光投射面,達到全彩投影的效果。以下分別介紹微型雷射光機引擎各組成元件。

微型雷射投影機技術(shù)與發(fā)展趨勢分析

圖1 微型雷射投影的光機引擎架構(gòu)圖  雷射源

  半導體雷射具有體積小、電光轉(zhuǎn)換效率高、低消耗功率、壽命長及易控制其光輸出功率,且調(diào)制頻率可達10GHz以上等特性,使半導體雷射應用在微型投影機中將不可或缺。其中,各種雷射光中,紅光波長為638奈米、綠光波長為532奈米、藍光波長則為445奈米。

  分光鏡

  提供雷射源穿透或反射,使三色源能溷光。其中使用的兩片分光鏡,一片的規(guī)格為反射波長485~545奈米、穿透波長570~825奈米,目的是使綠光反射,紅光穿透;另一片的規(guī)格為反射波長327~488奈米、穿透波長515~850奈米,目的是使藍光反射,而紅光、綠光穿透,最后能達到三色原溷光效果。綠光反射鏡與藍光反射鏡的穿透率與波長關(guān)係如下圖2、3所示,圖中的分光鏡為Semrock標準規(guī)格產(chǎn)品。

微型雷射投影機技術(shù)與發(fā)展趨勢分析

圖2 綠光反射鏡穿透率與波長關(guān)系

微型雷射投影機技術(shù)與發(fā)展趨勢分析
圖3 藍光反射鏡穿透率與波長關(guān)系

  掃描鏡片

  掃描鏡片因具有大掃描角、高操作頻率、結(jié)構(gòu)簡單優(yōu)勢,在光機引擎中扮演重要角色,即為將投影點掃描成二維投影面。主要由一個提供水平方向高頻掃描的鏡面,其扭轉(zhuǎn)軸固定于一個提供垂直方向低頻掃描的框架,將雷射光源投射于鏡面上,此兩個不同軸向且正交的扭轉(zhuǎn)軸,即可掃描出一個二維的畫面,借由扭轉(zhuǎn)軸、鏡面與框架的設(shè)計即可達成高頻掃描需求。

  基座

  基座主要的功能除承載雷射源、掃描鏡、分光鏡三項元件外,最重要的作用是散熱。在如此微小的光機體積中,熱若無法有效散除,則必對雷射源的效率產(chǎn)生重大影響,亦即溫控對雷射源非常重要。在運作時,須為一接近常溫的定值,且考量光機引擎是裝置于密閉空間中,由于無法產(chǎn)生對流,因此鰭片將失去散熱效果,所以去除鰭片的設(shè)計,改由與之接觸的大底殼面積散熱,而且,以人手的觸感能接受的溫度為原則,上限為40℃。


  晶圓級微型雷射投影機為未來趨勢

  因應市場小型化、薄型化與低成本的需求,而衍生出來的核心技術(shù)為半導體綠光雷射與晶圓級光學封裝兩大類。微型光機引擎為雷射投影模組的核心組件,其規(guī)格重要性直接影響微投影模組的體積、品質(zhì)(投影亮度與尺寸)與組裝成本等,組裝不良時將產(chǎn)生雜散光而影響投射畫面,但太過精密的組裝則又將導致成本的增加,而為因應未來內(nèi)建于行動電子裝置的需求,微型化光機體積是最首要的規(guī)格要求。

  由RGB微型雷射光源、微型掃描鏡等各零件組合成微型光機引擎,再整合微機電系統(tǒng)(MEMS)微型光學平臺(Optical Bench)、微型準直鏡片、微型塊狀分光鏡的可攜式微型雷射投影模組,將是未來行動電子裝置的重要賣點。



關(guān)鍵詞: 鐳射 投影 LED

評論


相關(guān)推薦

技術(shù)專區(qū)

關(guān)閉