TDK發(fā)布低電阻高透射率的ITO導電薄膜

　　TDK在“CEATEC JAPAN 2010”(10月5～9日，幕張Messe會展中心)上，發(fā)布了利用濺射法替代原來的涂布法對ITO層進行成膜的ITO透明導電性薄膜。據(jù)TDK介紹，通過導入濺射法，實現(xiàn)了低電阻及高透射率。另外，由于底板采用PET薄膜而非玻璃，還實現(xiàn)了薄型輕量化。目前該公司正利用樣品開展受理訂單的活動。

　　利用濺射法可實現(xiàn)低電阻及高透射率是“因為ITO的結(jié)晶之間的接觸性增強”(該公司的解說員)。此次通過導入濺射方式，與原來的涂布方式相比，表面電阻從700Ω/sp降低到了150Ω/sq，同時全光線透射率從89%提高到了92%。TDK打算面向靜電容量式觸摸面板銷售此次開發(fā)的ITO透明導電性薄膜。另外，采用原來涂布方式的ITO透明導電性薄膜則定位于面向電阻膜式觸摸面板。

　　ITO透明導電性薄膜是通過在PET薄膜上形成ITO層而實現(xiàn)的。不過，此次采用濺射方式的薄膜在PET薄膜與ITO層之間形成了可調(diào)整色調(diào)及防反射的光學調(diào)整層。調(diào)整色調(diào)時可除去ITO特有的黃色將其調(diào)整為無色透明，或者調(diào)整為略帶有一點藍色的顏色。這些光學調(diào)整層利用涂布法形成。TDK在制造磁記錄媒體時積累的涂布技術(shù)方面具有優(yōu)勢。該公司打算通過利用該涂布技術(shù)形成光學調(diào)整層，并導入濺射技術(shù)形成ITO從而提高ITO膜的特性，來實現(xiàn)與其他公司的差異化。