光學(xué)反射式分布測量技術(shù)淺析
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光學(xué)分布探測是一種適用于光纖等連續(xù)光學(xué)鏈路的特征參數(shù)測量的技術(shù)。反射式分布探測是基于測量光背向散射信號，由光傳輸特性的變化來探測、定位和測量光纖鏈路上因熔接、連接器、彎曲等造成的光學(xué)性能改變。光時域反射儀OTDR是這種技術(shù)的典型應(yīng)用。OTDR可以測量整個光纖鏈路的衰減并提供與長度有關(guān)的衰減細節(jié),測量具有非破壞性、測量過程快速方便、結(jié)果準(zhǔn)確直觀的特點。因此在生產(chǎn)、研究以及通信等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。為了提高測量性能，在OTDR的基礎(chǔ)上提出了時域相關(guān)測量，頻域測量和干涉測量等改進的測量技術(shù)。
二、OTDR的測量原理[1]
當(dāng)光束沿光纖傳播時，由于纖芯折射率的細微不均勻會不斷產(chǎn)生瑞利散射，部分散射光會反向回到輸入端。
測量中的反向散射光有兩種，一種是瑞利散射光，另一種是光纖斷面或光纖連接處產(chǎn)生的菲涅爾反射。假設(shè)入射光功率為P0，光纖中l(wèi)處反向散射光傳播到入射端的功率為Ps,光纖l處的衰減系數(shù)為α(l)，則可以得到下列公式：
(1)
(2)
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