2015 全球IT公司專利實(shí)力排名

　　近日，由IEEE(電氣和電子工程師協(xié)會(huì))的年度報(bào)告——2015專利實(shí)力評(píng)鑒(Patent Power Scorecards)出爐，EMC、IBM、微軟、西部數(shù)據(jù)、VMware分別排前5位。

　　2015 IT公司專利實(shí)力排名

　　IEEE專利實(shí)力評(píng)鑒是一年一度的綜合分析，由《IEEE SPECTRUM》雜志發(fā)布。自2007年開始發(fā)布，到2015年11月30日共發(fā)布了9期榜單。

　　它 通過對(duì)全球范圍內(nèi)6000多家領(lǐng)先的商業(yè)企業(yè)、學(xué)術(shù)機(jī)構(gòu)、非營(yíng)利性組織和政府機(jī)構(gòu)專利組合的基準(zhǔn)測(cè)試，IEEE給出其實(shí)力指數(shù)，評(píng)估誰擁有最寶貴的專利組 合。專利實(shí)力評(píng)鑒完全按照組織所在的行業(yè)來進(jìn)行分類評(píng)比，每次發(fā)布17個(gè)榜單：航空航天和國(guó)防、汽車及零部件、生物醫(yī)藥、化學(xué)、通信/網(wǎng)絡(luò)設(shè)備、通信/網(wǎng) 絡(luò)服務(wù)、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)、計(jì)算機(jī)軟件、計(jì)算機(jī)系統(tǒng)、電子產(chǎn)品、醫(yī)療器械、科學(xué)儀器、半導(dǎo)體設(shè)備制造、半導(dǎo)體制造、綜合型企業(yè)、政府機(jī)構(gòu)、大學(xué)/教育/培 訓(xùn)。

　　這里我根據(jù)IEEE數(shù)據(jù)，總結(jié)出IT公司(涵蓋IEEE 17個(gè)分類中的三類：計(jì)算機(jī)系統(tǒng)、計(jì)算機(jī)軟件、計(jì)算機(jī)外圍設(shè)備與存儲(chǔ))前20名。如下表：

　　獨(dú)特的排名方式

　　需 要指出的是，IEEE的專利實(shí)力排名，跟我們通常想象的排名方式有很大不同。通常，我們會(huì)以專利數(shù)作為公司的專利實(shí)力排名。而IEEE專利實(shí)力評(píng)鑒榜單， 綜合考量了專利組合的數(shù)量和技術(shù)價(jià)值，由于采用了技術(shù)加權(quán)后的專利組合規(guī)模作為衡量依據(jù)，專利實(shí)力評(píng)鑒可以較全面準(zhǔn)確地評(píng)價(jià)某個(gè)組織的技術(shù)實(shí)力。

　　專 利綜合實(shí)力是對(duì)專利數(shù)量及專利成長(zhǎng)性、技術(shù)影響力、技術(shù)原創(chuàng)性和技術(shù)通用性進(jìn)行組合運(yùn)算后的綜合性指數(shù)，其計(jì)算公式為：專利綜合實(shí)力(Pipeline Power)=上一年度授權(quán)專利數(shù)量(Number of Last Year’s Patents)×專利增長(zhǎng)指數(shù)(Pipeline Growth Index)×校正后的技術(shù)影響指數(shù)(Adjusted Pipeline Impact)×技術(shù)原創(chuàng)指數(shù)(Pipeline Originality)×技術(shù)通用指數(shù)(Pipeline Generality)。

　　2015年排名前5位的公司各項(xiàng)數(shù)據(jù)如下：

　　更多信息，可以訪問：http://spectrum.ieee.org/static/interactive-patent-power-2015

　　排名指標(biāo)分析

　　從以上的數(shù)據(jù)可以看出IEEE對(duì)專利實(shí)力的幾個(gè)關(guān)注點(diǎn)：

　　1. 專利增長(zhǎng)指數(shù)。如果專利增長(zhǎng)指數(shù)大于1，則表明該組織的專利活動(dòng)量正在增長(zhǎng)中。如果專利數(shù)增長(zhǎng)很快，對(duì)排名的幫助很大。例如，EMC和VMware，專利 數(shù)量從絕對(duì)值來看并不算多，但是增長(zhǎng)指數(shù)都在1.5以上，所以排名比較高。這一點(diǎn)可以理解為，IEEE看重專利增長(zhǎng)反映出來的企業(yè)創(chuàng)新活力。

　　2. 技術(shù)影響力指數(shù)。校正后的技術(shù)影響力指數(shù)，用于衡量某組織的專利組合對(duì)后續(xù)技術(shù)發(fā)展的影響力。其計(jì)算方法為：首先計(jì)算技術(shù)影響力指數(shù)基礎(chǔ)值，再根據(jù)自引率 對(duì)技術(shù)影響指數(shù)基礎(chǔ)值進(jìn)行校正，以消除極端自引的影響。如果自引率超過行業(yè)平均值，則該企業(yè)的專利技術(shù)影響力要適當(dāng)調(diào)低。同樣是EMC和VMware，校 正后的技術(shù)影響力指數(shù)分別超過為1.7和2.5，對(duì)其排名貢獻(xiàn)很大。

　　3. 技術(shù)原創(chuàng)性指數(shù)。技術(shù)原創(chuàng)指數(shù)用于衡量某組織專利組合所引用的技術(shù)領(lǐng)域?qū)挿撼潭?。通常來說，改進(jìn)型發(fā)明傾向于參考來自單一領(lǐng)域的現(xiàn)有技術(shù)，而原創(chuàng)型發(fā)明則傾向于參考多個(gè)不同領(lǐng)域的技術(shù)，進(jìn)而形成新的發(fā)明創(chuàng)造。各家公司在這項(xiàng)指數(shù)的表示大于或小于1，浮動(dòng)不大。

　　4. 技術(shù)通用性指數(shù)。用于衡量引用某組織專利組合的專利技術(shù)的領(lǐng)域?qū)挿撼潭?。技術(shù)通用性指數(shù)越大，意味著某組織專利技術(shù)的通用性越好，對(duì)后續(xù)技術(shù)創(chuàng)新的影響范圍越大。VMware、西部數(shù)據(jù)和EMC的技術(shù)通用性指數(shù)都比較高，對(duì)排名貢獻(xiàn)很大。