KLA-Tencor推出先進(jìn)RET/OPC功能的LithoWare產(chǎn)品
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“LithoWare 擁有無(wú)可比擬的預(yù)測(cè)精度以及在 Linux 計(jì)算機(jī)集群上運(yùn)行的特性,它為 RET 開發(fā)人員提供了雙項(xiàng)優(yōu)勢(shì)?!?a class="contentlabel" href="http://butianyuan.cn/news/listbylabel/label/KLA-Tencor">KLA-Tencor Corporation 工藝分析事業(yè)部總經(jīng)理 Edward Charrier 表示?!癛ET 工程師可利用 LithoWare 獨(dú)有的靈活性和預(yù)測(cè)能力,在探索光刻工藝條件(如:光源照明、最新光刻膠、PEB 和其他等)的同時(shí),優(yōu)化其 OPC。通過(guò) LithoWare,他們還可更快地創(chuàng)建 RET 菜單,并確保其在整個(gè)工藝窗口中都能正常工作,從而增強(qiáng)設(shè)計(jì)的穩(wěn)定性和可生產(chǎn)性?!?
目前大多數(shù) EDA 產(chǎn)品運(yùn)行于Linux/Unix 環(huán)境下,因此同樣基于 Linux 的 LithoWare 可全面兼容這些產(chǎn)品。用戶可通過(guò) LithoWare 裝載 GDSII 文件,選擇多個(gè)摸擬區(qū)域,互動(dòng)改變光照條件和 OPC 修正,并將 OPC 修正后的掩膜圖樣輸出為 GDSII 文件。
最近的估計(jì)表明,32 納米開發(fā)需數(shù)以億計(jì)的光刻摸擬計(jì)算。LithoWare 運(yùn)行在 Linux 環(huán)境下,可將大量模擬工作量分布到很多臺(tái)計(jì)算工作站上進(jìn)行,從而允許工程師執(zhí)行先進(jìn)的光刻計(jì)算,并探索擴(kuò)展的工藝參數(shù),而這些在 PC或其他工具上都是無(wú)法實(shí)現(xiàn)的,因?yàn)樗鼈儫o(wú)法承擔(dān)每次變化所帶來(lái)的大量重復(fù)校準(zhǔn)工作。LithoWare 基于 Linux 的架構(gòu)還可有效利用客戶現(xiàn)有的計(jì)算機(jī)投資,而無(wú)需配置額外的硬件。LithoWare 現(xiàn)已應(yīng)用于美國(guó)和日本的 IC 公司,幫助提升其 RET 開發(fā)效率。
Charrier先生介紹說(shuō):“用于全晶片 RET/OPC 的常規(guī)產(chǎn)品在不同光照情況下預(yù)測(cè)能力非常有限,而且不支持不斷的工藝變化,它們需要耗時(shí)、昂貴的工藝程序,包括掩膜加工、晶片印刷、測(cè)量和設(shè)備校準(zhǔn)等等,這往往需要幾天、幾周甚至幾個(gè)月的時(shí)間。LithoWare 提供獨(dú)有的‘假設(shè)分析’功能,可動(dòng)態(tài)地優(yōu)化大量工藝和 RET 變量,使得工程師一次就能獲得準(zhǔn)確結(jié)果。”
與許多傳統(tǒng)產(chǎn)品相比,LithoWare為RET/OPC 工程師和設(shè)計(jì)人員提供了更加方便易用的工具。由于它可幫助 RET/OPC 工程師或設(shè)計(jì)人員快速檢查設(shè)計(jì)或新創(chuàng)意是否違反光刻條件,因而能夠縮短開發(fā)周期。這些 RET/OPC 技術(shù)人員無(wú)需等待工藝工程師或代工廠合作伙伴提供專門的工藝信息和結(jié)果。
KLA-Tencor 計(jì)劃于6月4-9 日在圣地亞哥即將舉行的設(shè)計(jì)自動(dòng)化會(huì)議(Design Automation Conference 2007)上展示LithoWare。感興趣的用戶可以在 KLA-Tencor 網(wǎng)站上注冊(cè)來(lái)獲取產(chǎn)品演示,網(wǎng)址是:www.klatencor.com/Events/LithoWare Reception(http://www.kla-tencor.com/events/event/Prolith_SD_2007_regform.html)。
評(píng)論