新聞中心

EEPW首頁 > 業(yè)界動(dòng)態(tài) > 首爾半導(dǎo)體與日亞官司糾紛和解 簽訂交叉共享協(xié)議

首爾半導(dǎo)體與日亞官司糾紛和解 簽訂交叉共享協(xié)議

作者: 時(shí)間:2009-02-03 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

  正式宣布停止在美國、德國、日本、英國、韓國所進(jìn)行的所有專利官司案件。雙方簽訂包含所有 LED 和 LD(Laser Diode)技術(shù)的交叉共享協(xié)議,從此雙方將彼此無限制地使用對(duì)方的專利。

本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/90984.htm

  按照協(xié)議條款,除在德國進(jìn)行的 DE 691-07-630 T2(EP 0-437-385 B1)專利案件外,雙方將會(huì)停止所有專利案件,上述的德國專利案件將會(huì)在 2009 年 2 月進(jìn)行裁定結(jié)束。



關(guān)鍵詞: 首爾半導(dǎo)體 日亞

評(píng)論


相關(guān)推薦

技術(shù)專區(qū)

關(guān)閉