光刻機 文章 進入光刻機技術社區(qū)
日本首臺ASML EUV光刻機將運抵,用于Rapidus晶圓廠試產(chǎn)
- 據(jù)日媒報道,日本半導體代工企業(yè)Rapidus購入的第一臺ASML EUV光刻機將于2024年12月中旬抵達北海道新千歲機場,這也將成為日本全國首臺EUV光刻設備。據(jù)Rapidus高管此前透露,該光刻機是較早期的0.33 NA型號,而非目前全球總量不足10臺的0.55 NA(High NA)款。按Rapidus此前的規(guī)劃,該公司計劃于2025年4月啟動先進制程原型線,該產(chǎn)線將擁有包括EUV光刻機在內(nèi)的共計200余臺設備。根據(jù)千歲市當?shù)卣恼f法,Rapidus 的 IIM-1 晶圓廠截至上月底已完成63%的
- 關鍵字: 日本 Rapidus 光刻機 ASML
臺積電稱2025年如期量產(chǎn)2nm芯片
- 臺積電公開稱,高雄晶圓廠興建工程按照計劃進行,并且進展良好,2nm將如期于2025年量產(chǎn)。此前有消息稱,高雄廠第一座2納米廠將于11月26日舉行進機典禮,并自12月1日展開裝機。ASML也已經(jīng)向臺積電交付了NAEUV光刻機,該光刻機是生產(chǎn)制造2nm及以下工藝芯片的最佳設備。臺積電明年量產(chǎn)2nm芯片,還是在高雄工廠,這說明魏哲家說的沒錯,臺積電根留臺灣,最先進的技術,也留在了臺灣省。芯片規(guī)則修改后,美明確想要臺積電最先進的芯片技術,還要求更多芯片在本土制造。臺積電就加速在美建廠,連續(xù)投資超650億美元,建設
- 關鍵字: 臺積電 2nm芯片 ASML NAEUV 光刻機 封裝
圖說光刻機的4大核心技術
- 7nm LPP EUV實際產(chǎn)品中EUV和ArFi的對比1. 實際的光刻機簡要系統(tǒng)2. 7LPP是什么意思?臺積電的"7LPP"中"LPP"代表"Low Power Plus",即"低功耗增強版"。7LPP是臺積電7納米工藝的一個變種,主要特點是在保持高性能的同時,進一步優(yōu)化了功耗表現(xiàn)。7LPP工藝通過改進晶體管設計和制程技術,實現(xiàn)了比前代7納米工藝更低的功耗和更高的晶體管密度。具體來說,臺積電的7LPP工藝相較于10納米工藝,
- 關鍵字: 光刻機
業(yè)績暴雷!ASML股價繼續(xù)大跌:想賣先進光刻機給中國廠商 但不被允許
- 10月17日消息,由于業(yè)績暴雷,這導致光刻機龍頭ASML股價暴跌,而兩天時間股價已跌超20%。據(jù)官方公布的數(shù)據(jù)看,阿斯麥(ASML)今年第三季度接到的訂單大幅減少,總訂單金額約為26億歐元,不到上一季度近56億歐元的一半。消費者新聞與商業(yè)頻道當天在報道中表示,由于美國和荷蘭相關出口限制措施,阿斯麥在其中國市場的增長前景引發(fā)投資者擔憂。阿斯麥此前一個季度財報數(shù)據(jù)顯示,這家企業(yè)49%的銷售額來自中國市場。另外,投資人士分析報道,美國主導的對華出口限制導致阿斯麥來自中國的訂單有所減少。之前ASML曾表示,也希望
- 關鍵字: ASML 光刻機
俄羅斯計劃開發(fā)本土光刻機等芯片制造工具
- 據(jù)外媒報道,近日,俄羅斯政府已撥款超過2400億盧布(約合人民幣175億元)支持國產(chǎn)半導體制造所需設備、CAD工具及原材料研發(fā),目標是到2030年實現(xiàn)對于國外約70%的半導體設備和材料的國產(chǎn)替代。該計劃已經(jīng)啟動了41個研發(fā)項目,并計劃在未來幾年內(nèi)再啟動43個新項目,共計110個研發(fā)項目。這些項目將覆蓋從180nm到28nm的微電子、微波電子、光子學和電力電子等多個技術領域,為俄羅斯微電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展奠定堅實基礎。據(jù)悉,該計劃由俄羅斯工業(yè)部、貿(mào)易部、俄羅斯國際科學技術中心 (ISTC)MIET 電子工程部制定
- 關鍵字: 俄羅斯 光刻機
中國廠商貢獻50%銷售:光刻機廠商ASML被美國壓制 無法獨善其身
- 9月2日消息,據(jù)國外媒體報道稱,在美國要求下,ASML明年可能無法為中國廠商維修光刻機。報道中提到,在ASML某些在中國提供服務和備件的許可證于今年年底到期后,現(xiàn)在的荷蘭首相很可能不再為其續(xù)期,而相關決定是在美國施加一定壓力后做出的。目前的情況是,ASML的銷售額中,約有一半來自中國。荷蘭新任首相也公開表示,上述規(guī)則變動會非常謹慎,因為這會影響光刻機巨頭阿斯麥(ASML)的經(jīng)濟利益這位新的首相直言:“我們正進行良好的談判。我們也正特別關注阿斯麥的經(jīng)濟利益,這些利益需要與其他風險權衡,而經(jīng)濟利益是極其重要的
- 關鍵字: ASML 光刻機 維修
價值3.83億美元!Intel拿下全球第二臺High NA EUV光刻機
- 8月6日消息,在近日的財報電話會議上,Intel CEO宣布已成功接收全球第二臺價值3.83億美元的High NA EUV(極紫外光刻機)。High NA EUV光刻機是目前世界上最先進的芯片制造設備之一,其分辨率達到8納米,能夠顯著提升芯片的晶體管密度和性能,是實現(xiàn)2nm以下先進制程大規(guī)模量產(chǎn)的必備武器。帕特·基辛格表示,第二臺High NA設備即將進入Intel位于美國俄勒岡州的晶圓廠,預計將支持公司新一代更強大的計算機芯片的生產(chǎn)。此前,Intel已于去年12月接收了全球首臺High NA EUV光刻
- 關鍵字: Intel High NA EUV 光刻機 晶圓 8納米
中國大陸仍是ASML光刻機最大買家 占全球總銷售額49%
- 全球光刻機大廠ASML近日發(fā)布2024年第2季度財報,實現(xiàn)凈銷售額62.4億歐元,同比下滑約7.6%,同比增長約18%,居于官方預測中間值。雖然半導體設備出口限制規(guī)定生效造成影響,但中國大陸需求持續(xù)旺盛,依然是ASML的第一大銷售市場,市占比依然高達49%,主要項目仍在未受限的DUV設備。 ASML總裁兼首席執(zhí)行官傅恪禮(Christophe Fouquet)表示,正如此前幾個季度,半導體行業(yè)的整體庫存水平持續(xù)得到改善。無論是邏輯芯片還是存儲芯片客戶,對光刻設備的利用率都在進一步提高。宏觀環(huán)境為主的不確定
- 關鍵字: ASML 光刻機
國產(chǎn)廠商引入首臺光刻機設備!
- 據(jù)寧波前灣新區(qū)管理委員會7月15日消息,近日寧波冠石半導體有限公司迎來關鍵節(jié)點,引入首臺電子束掩模版光刻機。據(jù)悉,該設備是光掩模版40nm技術節(jié)點量產(chǎn)及28nm技術節(jié)點研發(fā)的重點設備。光掩模版是集成電路制造過程中光刻工藝所使用的關鍵部件,類似于相機“底片”,光線經(jīng)過掩膜版后,可在晶圓表面曝光形成電路圖形。目前,我國高精度半導體光掩模版產(chǎn)品主要仍依賴于進口,國產(chǎn)化率極低。據(jù)了解,冠石半導體主要從事45nm~28nm半導體光掩模版的規(guī)模化生產(chǎn)。當前,冠石半導體一期潔凈車間設計產(chǎn)能為月產(chǎn)5000片180nm~2
- 關鍵字: 光刻機 冠石半導體
為什么說佳能是「明智」的光刻機出貨商?
- 與從「器材之王」跌落的尼康有何區(qū)別?
- 關鍵字: 光刻機
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