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光罩介紹

　　光罩 　　目錄 　　1簡(jiǎn)介 　　2結(jié)構(gòu) 　　1簡(jiǎn)介 　　光罩（英文：Reticle, Mask）：在制作IC的過程中，利用光蝕刻技術(shù)，在半導(dǎo)體上形成圖型，為將圖型復(fù)制於晶圓上，必須透過光罩做用的原理。比如沖洗照片時(shí)，利用底片將影像復(fù)制至相片上。 　　2結(jié)構(gòu) 　　實(shí)體結(jié)構(gòu)：布滿積體電路圖像的鉻金屬薄膜的石英玻璃片上的圖像。 倍縮光罩（Reticle）：當(dāng)鉻膜玻璃僅能局部覆蓋晶圓稱為 [ 查看詳細(xì) ]

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