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EEPW首頁 >> 主題列表 >> 刻蝕設(shè)備

美國再次放寬對華高技術(shù)產(chǎn)品出口 65nm以下刻蝕設(shè)備不再受限

  • 　　在SEMI及會員公司的共同努力下，經(jīng)過9個(gè)月的等待，美國聯(lián)邦政府正式實(shí)施放寬刻蝕設(shè)備的出口條件，原來180nm的技術(shù)審核指標(biāo)被正式放寬到了65nma。
  • 關(guān)鍵字： 刻蝕設(shè)備  65nm  
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刻蝕設(shè)備介紹

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