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EEPW首頁 >> 主題列表 >> 半導(dǎo)體核芯

第三代半導(dǎo)體核芯氮化鎵,何時(shí)紅透半邊天?

  • 半導(dǎo)體研究隨著以空間技術(shù)、計(jì)算機(jī)為導(dǎo)向的第三次科技革命(1950年)拉開帷幕。半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)作為知識(shí)技術(shù)高度密集、資金密集、科研密集型產(chǎn)業(yè),由上游(半導(dǎo)體材料)、中游(光電子、分立器件、傳感器、集成電路)、下游(終端電子產(chǎn)品)組成。第一代半導(dǎo)體材料:硅、鍺元素。金屬-氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MOSFET)、絕緣柵雙極型晶體管(IGBT)已在各類電子器件、集成電路中廣泛應(yīng)用。第二代半導(dǎo)體材料:砷化鎵、磷化銦等化合物。禁帶寬度比第一代半導(dǎo)體材料大,但擊穿電壓不夠高,在高溫、高功率下應(yīng)用效果不理想,砷化鎵源材料有
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半導(dǎo)體核芯介紹

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