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EEPW首頁(yè) >> 主題列表 >> 半導(dǎo)體用研磨液

日立化成將斥資20億日?qǐng)A在臺(tái)興建半導(dǎo)體用研磨液廠

  • 　　日立化成(Hitachi Chemical)20日發(fā)布新聞稿宣布，為了因應(yīng)臺(tái)灣等亞洲市場(chǎng)對(duì)半導(dǎo)體的需求增加、加上基于分散風(fēng)險(xiǎn)的考慮，故該公司將斥資約20億日?qǐng)A在臺(tái)灣臺(tái)南市興建使用于半導(dǎo)體制程的化學(xué)機(jī)械研磨液(CMP Slurry)廠。日立化成表示，將于2012年度上半年在臺(tái)南市設(shè)立制造/銷售子公司「臺(tái)灣日立化成電子材料股份所限公司」、并著手興建新廠，該座新廠預(yù)計(jì)將于2013年4月啟用量產(chǎn)。 　　日立化成表示，該公司目前主要透過(guò)日本山崎事業(yè)所生產(chǎn)淺溝槽隔離(STI;Shallow Trench Iso
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半導(dǎo)體用研磨液介紹

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