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單晶圓濕式平臺 文章 進入單晶圓濕式平臺技術社區(qū)

SEZ部署了FEOL清洗產(chǎn)品特性全新的ESANTI 單晶圓濕式平臺

  •    Esanti 標志著SEZ面向FEOL戰(zhàn)略發(fā)展藍圖又邁出了至關重要的一步 SEZ（瑟思）集團 (瑞士股票交易市場SWX代碼：SEZN)于宣布了公司面向前段工藝過程（FEOL）中清洗和光阻剝離工藝的Esanti平臺。極其靈活的Esanti平臺充分利用了SEZ集團久經(jīng)考驗的專業(yè)技術單晶圓濕式處理技術，旨在滿足45納米及其更低尺寸的芯片制造中前段工藝過程的清洗衍變需求。它構筑于公司的核心旋轉處理器技術之上，增加了新的功
  • 關鍵字： ESANTI  FEOL  SEZ  單晶圓濕式平臺  工業(yè)控制  清洗產(chǎn)品  其他IC  制程  工業(yè)控制  
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單晶圓濕式平臺介紹

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