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EEPW首頁(yè) >> 主題列表 >> 微影圖形化

imec觀點(diǎn)：微影圖形化技術(shù)的創(chuàng)新與挑戰(zhàn)

  • 此篇訪談中，比利時(shí)微電子研究中心（imec）先進(jìn)圖形化制程與材料研究計(jì)劃的高級(jí)研發(fā)SVP Steven Scheer以近期及長(zhǎng)期發(fā)展的觀點(diǎn)，聚焦圖形化技術(shù)所面臨的研發(fā)挑戰(zhàn)與創(chuàng)新。本篇訪談內(nèi)容，主要講述這些技術(shù)成果的背后動(dòng)力，包含高數(shù)值孔徑（high NA）極紫外光（EUV）微影技術(shù)的進(jìn)展、新興內(nèi)存與邏輯組件的概念興起，以及減少芯片制造對(duì)環(huán)境影響的需求。怎么看待微影圖形化這塊領(lǐng)域在未來(lái)2年的發(fā)展？Steven Scheer表示：「2019年，極紫外光（EUV）微影技術(shù)在先進(jìn)邏輯晶圓廠進(jìn)入量產(chǎn)，如今動(dòng)態(tài)隨機(jī)存
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微影圖形化介紹

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