晶邊干法刻蝕 文章 進(jìn)入晶邊干法刻蝕技術(shù)社區(qū)

北方華創(chuàng)：12英寸CCP晶邊干法刻蝕設(shè)備已在客戶端實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)

• 9月17日，北方華創(chuàng)在投資者互動(dòng)平臺(tái)表示，公司前期已經(jīng)發(fā)布了首臺(tái)國(guó)產(chǎn)12英寸CCP晶邊干法刻蝕設(shè)備研發(fā)成功有關(guān)信息，目前已在客戶端實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，其優(yōu)秀的工藝均勻性、穩(wěn)定性贏得客戶高度評(píng)價(jià)。北方華創(chuàng)主營(yíng)半導(dǎo)體裝備、真空及鋰電裝備、精密元器件業(yè)務(wù)，為半導(dǎo)體、新能源、新材料等領(lǐng)域提供解決方案。公司現(xiàn)有六大研發(fā)生產(chǎn)基地，營(yíng)銷服務(wù)體系覆蓋歐、美、亞等全球主要國(guó)家和地區(qū)。其中，在半導(dǎo)體工藝裝備領(lǐng)域，北方華創(chuàng)的主要產(chǎn)品包括刻蝕、薄膜、清洗、熱處理、晶體生長(zhǎng)等核心工藝裝備，廣泛應(yīng)用于邏輯器件、存儲(chǔ)器件、先進(jìn)封裝、第三代半導(dǎo)體
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