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2008年上海NEPCON期待得可更多

• 　　團隊正計劃在今年4月8日至11日光大會展中心舉辦的中國上展示大量的尖端印刷平臺和生產(chǎn)力工具，以獨有風(fēng)格慶祝其作為批量印刷引領(lǐng)者的40 周年。到訪者可在得可1B30 展位現(xiàn)場了解其專家技術(shù)。 　　Nepcon上海展示的得可技術(shù)將反映公司就其期待更多的理念的承諾，特別推出一直以來提供更多價值、生產(chǎn)力和創(chuàng)新的技術(shù)突破。其中之一便是得可展臺上全新的Photon Vi平臺，可提供前所未有的大范圍精密印刷。易于為重至16.5磅（7.5公斤）和大至25.4” x 24”（610毫米 x 6
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