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盛美獲兩臺背面清洗機訂單

  • 盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司日前在 Semicon China上宣布了2013年第一季度一舉獲得兩臺單片背面清洗機訂單，分別來自上海華虹 NEC 電子有限公司以及中科院微電子所。這兩臺背面清洗機的訂單，反映了盛美在技術(shù)上不斷推陳出新，填補了國內(nèi)單片背面清洗機的空白。通過技術(shù)上的不斷創(chuàng)新，提高了公司的核心競爭力。
  • 關(guān)鍵字： 盛美  單片背面清洗機  晶圓  

我國研發(fā)出“零損傷”兆聲波半導(dǎo)體清洗設(shè)備

  • 　　盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司3月17日在上海舉行的中國半導(dǎo)體國際展上展出一臺12英寸單片兆聲波清洗設(shè)備。這是國內(nèi)首臺具有自主知識產(chǎn)權(quán)的“零損傷”兆聲波半導(dǎo)體清洗設(shè)備。
  • 關(guān)鍵字： 盛美  半導(dǎo)體  兆聲波  

盛美半導(dǎo)體開發(fā)出12英寸單片兆聲波清洗設(shè)備

  • 　　3月17日，新成立的盛美半導(dǎo)體(上海)有限公司在中國半導(dǎo)體國際展上展出了十二英寸單片兆聲波清洗設(shè)備，本設(shè)備用于65nm技術(shù)節(jié)點以下的十二英寸高端硅片清洗。盛美獨家具有自主知識產(chǎn)權(quán)技術(shù)可使兆聲波能量在12英寸硅片上非常均勻地分布(非均勻度的一個均方差小于2%)，本技術(shù)在不損傷硅片微結(jié)構(gòu)的條件下使顆粒去除效率達到99.2%。
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