首頁  資訊  商機   下載  拆解   高校  招聘   雜志  會展  EETV  百科   問答  電路圖  工程師手冊   Datasheet  100例   活動中心  E周刊閱讀   樣片申請
EEPW首頁 >> 主題列表 >> 缺陷檢查

對 IC 工藝缺陷的新見解

  • 流程邊際性和參數(shù)異常值曾經(jīng)在每個新節(jié)點上都會出現(xiàn)問題,但現(xiàn)在它們在多個節(jié)點和先進封裝中成為持續(xù)存在的問題,其中可能存在不同技術的混合。此外,每個節(jié)點都有更多的工藝,應大型芯片制造商的要求進行更多的定制,即使在同一節(jié)點,從一個代工廠到下一個代工廠也有更多的差異化。結果,一種解決方案不再能解決所有問題。使這些問題變得更加復雜的是,當新的缺陷機制尚未完全了解時,各種其他新工藝(例如混合鍵合)會在制造和裝配流程的早期產(chǎn)生隨機和系統(tǒng)性缺陷。為了解決這些問題,工程師依靠一系列檢查方法、智能缺陷分類和機器學習分析,在產(chǎn)
  • 關鍵字: 先進封裝  缺陷檢查  
共1條 1/1 1

缺陷檢查介紹

您好,目前還沒有人創(chuàng)建詞條缺陷檢查!
歡迎您創(chuàng)建該詞條,闡述對缺陷檢查的理解,并與今后在此搜索缺陷檢查的朋友們分享。    創(chuàng)建詞條

熱門主題

樹莓派    linux   
關于我們 - 廣告服務 - 企業(yè)會員服務 - 網(wǎng)站地圖 - 聯(lián)系我們 - 征稿 - 友情鏈接 - 手機EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權所有 北京東曉國際技術信息咨詢有限公司
備案 京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案:1101082052    京公網(wǎng)安備11010802012473