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臺(tái)積電、新思科技將英偉達(dá)計(jì)算光刻平臺(tái)投入生產(chǎn)

  • 當(dāng)?shù)貢r(shí)間3月18日,英偉達(dá)(NVIDIA)宣布臺(tái)積電(TSMC)、新思科技(Synopsys)已將其計(jì)算光刻平臺(tái)投入生產(chǎn),以加速下一代先進(jìn)半導(dǎo)體芯片的制造,突破物理極限。據(jù)悉,臺(tái)積電與新思科技已將英偉達(dá)cuLitho技術(shù)與其軟件、制造工業(yè)和系統(tǒng)集成,希望加快芯片制造速度,并幫助制造最新一代英偉達(dá)Blackwell架構(gòu)GPU。英偉達(dá)創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官黃仁勛表示,此次圍繞 cuLitho 展開(kāi)合作,通過(guò)加速計(jì)算和生成式AI為半導(dǎo)體微縮開(kāi)辟了新的方向。此外,英偉達(dá)還宣布推出可增強(qiáng)GPU加速計(jì)算光刻軟件庫(kù) cuL
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計(jì)算光刻平臺(tái)介紹

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