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EEPW首頁 >> 主題列表 >> 20nm制程

應(yīng)用材料為20nm制程開發(fā)自主式缺陷檢測SEM

  • 　　應(yīng)用材料公司推出 Applied SEMVision G5 系統(tǒng)，進一步推升在缺陷檢測掃描電子顯微鏡 (Scanning Electronic Microscope，簡稱SEM) 技術(shù)的領(lǐng)導(dǎo)地位，這是首款可供芯片制造商用于無人生產(chǎn)環(huán)境的缺陷檢測工具，能拍攝并分析20納米影響良率的缺陷。 　　據(jù)應(yīng)材表示，SEMVision G5獨特的功能可識別并拍攝1納米畫素的缺陷，協(xié)助邏輯與內(nèi)存客戶改善制程，比過去更快且更正確地找出造成缺陷的根本原因。 　　SEMVision G5系統(tǒng)配備最先進的1納米畫素、無與
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臺積電20nm制程將支持雙重成像技術(shù)

  • 　　據(jù)臺積電公司設(shè)計技術(shù)高級主管Ed Wan表示，臺積電20nm制程自動化設(shè)計系統(tǒng)將可支持雙重成像技術(shù)(double patterning)。相關(guān)的電路自動化布置軟件廠商將在臺積電20nm制程芯片設(shè)計用軟件中加入對雙重成像技術(shù)的支持，這樣芯片設(shè)計者就不需要像過去 那樣專門針對雙重成像技術(shù)進行計算。而一旦芯片設(shè)計方確定芯片電路的布局準(zhǔn)則，那么臺積電的軟件便可將該設(shè)計拆分到兩個雙重成像用掩膜板上。　　
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20nm制程介紹

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