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30nm
30nm 文章 進(jìn)入30nm技術(shù)社區(qū)
爾必達(dá)全面量產(chǎn)30nmDRAM
- 日本爾必達(dá)存儲(chǔ)器(Elpida Memory)宣布,將從2011年5月開始全面量產(chǎn)采用30nm工藝的DRAM。生產(chǎn)基地是該公司的廣島工廠和臺(tái)灣瑞晶電子(Rexchip Electronics)的工廠。廣島工廠已經(jīng)開始生產(chǎn)30nmDRAM,2011年4~6月將把比例擴(kuò)大至20%、2011年7~9月擴(kuò)大至30%。而瑞晶工廠則計(jì)劃在2011年7~9月導(dǎo)入30nmDRAM技術(shù),2011年7~9月將比例提高至50%、2011年10~12月迅速提高至100%。 爾必達(dá)從2010年9月開始開發(fā)30nmDRAM
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爾必達(dá)推出全球最小尺寸30nm DDR3顆粒
- 最近,內(nèi)存顆粒的工藝進(jìn)步速度非??欤钕冗M(jìn)的30nm工藝甚至已經(jīng)超過了處理器。在功耗與散熱方面也有了長(zhǎng)足的進(jìn)步。 今天我們得到最新消息,繼三星之后,爾必達(dá)也成功開發(fā)出采用30nm工藝的2Gb容量DDR3 SDRAM內(nèi)存顆粒,并且核心面積和功耗都創(chuàng)下業(yè)界新紀(jì)錄。 據(jù)了解,爾必達(dá)這種顆粒最高支持DDR3-1866頻率,可以在1.35V低電壓下實(shí)現(xiàn)1600MHz頻率。同時(shí),其工作電流相比同廠40nm產(chǎn)品工作電流降低15%,待機(jī)電流下降10%。 爾必達(dá)聲稱該內(nèi)存顆粒是目前世界上體積最小的產(chǎn)品
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三星與東芝聯(lián)合 加快NAND Flash速度
- 三星和東芝公司已經(jīng)宣布了一個(gè)合作計(jì)劃,旨在制定新規(guī)范推動(dòng)NAND快閃記憶體的傳輸速率,具體來說,兩家公司致力于發(fā)展DDR 2.0 NAND型快閃記憶體和400MB/s的接口技術(shù),這比目前版本的NAND閃存接口技術(shù)快了十倍,這項(xiàng)技術(shù)將于英特爾、鎂光和SanDisk共同開發(fā)的ONFI接口進(jìn)行直接競(jìng)爭(zhēng),主要面向高性能產(chǎn)品例如SSD以及智能手機(jī)和消費(fèi)電子產(chǎn)品。 三星和東芝公司目前供應(yīng)NAND快閃記憶體市場(chǎng)70%的貨源,因此它們?cè)谛袠I(yè)內(nèi)具有相當(dāng)大的話語(yǔ)權(quán),這對(duì)他們的新規(guī)范計(jì)劃將非常有利。 三星上個(gè)月
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三星量產(chǎn)全球首款30nm級(jí)工藝2Gb DDR3內(nèi)存顆粒
- 三星電子今天宣布,已經(jīng)開始在全球范圍內(nèi)首家采用30nm級(jí)工藝(30-39nm)批量生產(chǎn)2Gb DDR3內(nèi)存顆粒。三星稱,這種新工藝DDR3內(nèi)存顆粒在云計(jì)算和虛擬化等服務(wù)器應(yīng)用中電壓1.35V,頻率最高可達(dá)1866MHz,而在PC應(yīng)用中電壓為1.5V,皮哦年率最高2133MHz,號(hào)稱比DDR2內(nèi)存快3.5倍,相比于50nm級(jí)工藝的DDR3也要快1.55倍。 該顆粒屬于三星的綠色內(nèi)存系列,在服務(wù)器應(yīng)用中能比50nm級(jí)工藝產(chǎn)品節(jié)約最多20%的功耗,在多核心PC系統(tǒng)中30nm級(jí)工藝4GB DDR3內(nèi)存條
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三星宣布開始量產(chǎn)30nm制程2Gb密度DDR3內(nèi)存芯片
- 今年早些時(shí)候,三星公司曾宣布完成了30nm制程2Gb密度 DDR3內(nèi)存芯片的開發(fā)工作,而最近他們則宣布這款芯片產(chǎn)品已經(jīng)進(jìn)入批量生產(chǎn)階段。這款 30nm制程DDR3芯片可以在1.35V電壓條件下工作在1866MHz數(shù)據(jù)傳輸率下,加壓到1.5V之后數(shù)據(jù)傳輸率則可提升至2133MHz,適用于 臺(tái)式機(jī),筆記本,服務(wù)器,上網(wǎng)本,移動(dòng)設(shè)備的各種應(yīng)用。 三星表示目前他們正在開發(fā)4Gb密度的30nm制程DDR3內(nèi)存芯片產(chǎn)品,預(yù)計(jì)這款產(chǎn)品今年才會(huì)投入使用。
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三星發(fā)布全球首顆30nm級(jí)工藝DDR3內(nèi)存芯片
- 三星電子宣布,全球第一顆采用30nm級(jí)別工藝的DDR3 DRAM內(nèi)存芯片已經(jīng)通過客戶認(rèn)證。注意這里說的是30nm級(jí)別工藝(30-nm class),而不是真正的30nm,也就是說有可能是38nm 之類的。三星此前投產(chǎn)的3-bit MLC NAND、異步DDR 32Gb MLC NAND閃存芯片同樣也是這種30nm級(jí)別的。 三星這種30nm工藝級(jí)DDR3 DRAM內(nèi)存芯片的容量為2Gb,支持1.5V標(biāo) 準(zhǔn)電壓和1.35V低電壓,相比50nm工藝級(jí)可節(jié)省最多30%的功耗,因此又稱為綠色內(nèi)存(Gree
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三星開始量產(chǎn)兩種新型30nm制程N(yùn)AND閃存芯片
- 三星近日宣布將開始量產(chǎn)兩款30nm制程N(yùn)AND閃存芯片產(chǎn)品。其中一種閃存產(chǎn)品采用類似DDR內(nèi)存的雙倍傳輸技術(shù),據(jù)三星公司宣稱,這種產(chǎn)品的讀取帶寬 是傳統(tǒng)閃存芯片的3倍左右,單顆這樣的DDR MLC閃存芯片數(shù)據(jù)傳輸峰值帶寬可達(dá)133Mbps,而舊款閃存芯片則只能達(dá)到40Mbps的水平。 即便將這種芯片應(yīng)用到閃存卡中,也能夠保持60Mbps的持續(xù)讀取速率,同樣比傳統(tǒng)閃存芯片的17Mbps快三倍左右。這種閃存芯片產(chǎn)品既適合智能手機(jī),便攜多媒體播放器等產(chǎn)品,也同樣適用于SSD硬盤等設(shè)備。 另外一款
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三星宣布開始量產(chǎn)兩種30nm制程N(yùn)AND閃存芯片
- 三星近日宣布將開始量產(chǎn)兩款30nm制程N(yùn)AND閃存芯片產(chǎn)品。其中一種閃存產(chǎn)品采用類似DDR內(nèi)存的雙倍傳輸技術(shù),據(jù)三星公司宣稱,這種產(chǎn)品的讀取帶寬是傳統(tǒng)閃存芯片的3倍左右,單顆這樣的DDR MLC閃存芯片數(shù)據(jù)傳輸峰值帶寬可達(dá)133Mbps,而舊款閃存芯片則只能達(dá)到40Mbps的水平。 即便將這種芯片應(yīng)用到閃存卡中,也能夠保持60Mbps的持續(xù)讀取速率,同樣比傳統(tǒng)閃存芯片的17Mbps快三倍左右。這種閃存芯片產(chǎn)品既適合智能手機(jī),便攜多媒體播放器等產(chǎn)品,也同樣適用于SSD硬盤等設(shè)備。 另外一款三
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