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Lam Research 33億美元收購Novellus
- 全球半導(dǎo)體業(yè)最新一次重大并購近期觸發(fā)。據(jù)國外媒體報道,芯片制造設(shè)備商Lam Research已經(jīng)同意以33億美元的價格收購Novellus Systems,它打算將兩家公司的芯片制造設(shè)備業(yè)務(wù)整合在一起,挑戰(zhàn)市場領(lǐng)袖應(yīng)用材料(Applied Materials)。這項(xiàng)聲明的發(fā)布日期與市調(diào)機(jī)構(gòu)Gartner發(fā)布的2012年半導(dǎo)體設(shè)備成長將衰退20%的預(yù)估報告恰巧為同一天。不過對于這次半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)內(nèi)的最新一次重大并購案,業(yè)界還是持關(guān)注態(tài)度。 Lam Research今日發(fā)表聲明稱,這項(xiàng)收購交易給予N
- 關(guān)鍵字: Novellus 晶圓 芯片制造設(shè)備
Novellus業(yè)績報喜 第二季營收3.21億美元
- 半導(dǎo)體設(shè)備大廠Novellus Systems于12日公布第2季(4-6月)財報:營收年增169.6%(季增16.3%)至3.214億美元;每股稀釋盈余達(dá)0.66美元,優(yōu)于1-3月的0.43美元。根據(jù)Thomson Reuters的調(diào)查,分析師原先預(yù)期Novellus 4-6月營收、本業(yè)每股稀釋盈余各為3.12億美元、0.60美元。 Novellus 4-6月接單金額季增19.8%至3.849億美元;出貨金額季增17.4%至3.321億美元。Novellus執(zhí)行長Richard S. Hill指
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Novellus第二季虧損5000萬美元 高于預(yù)估
- 半導(dǎo)體設(shè)備制造商N(yùn)ovellus Systems日前公布了較預(yù)期嚴(yán)重的虧損,在截至6月27日止的第二季凈虧5000萬美元或稀釋後每股虧損0.52美元;該公司2008年第二季虧損240萬美元或每股0.02美元。 但扣除特殊項(xiàng)目后,Novellus虧損為3,930萬美元或每股0.41美元。特殊項(xiàng)目包括1,590萬美元裁員費(fèi)用和縮減部分業(yè)務(wù)的支出等。 根據(jù)Reuters Estimates,分析師原平均預(yù)估該公司每股虧損0.38美元。 Novellus營收較上年同期銳減54%至1.192億
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32nm節(jié)點(diǎn)的PVD設(shè)備暗戰(zhàn)?
- 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的低谷擋不住技術(shù)前進(jìn)的腳步。近期兩大設(shè)備廠商Applied Materials和Novellus相繼推出了新型PVD機(jī)臺,目標(biāo)均鎖定為32nm及更小的技術(shù)節(jié)點(diǎn)。 5月28日,設(shè)備巨頭Novellus宣布開發(fā)出HCM(中空陰極磁電管)PVD技術(shù),稱為IONX XL。該機(jī)臺可滿足3Xnm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的薄阻擋層淀積,主要的服務(wù)對象為存儲器制造廠商。由于在3Xnm節(jié)點(diǎn),存儲器的CD相比邏輯器件要小30%,存儲器的銅互連中將更多的采用高深寬比的結(jié)構(gòu),這為阻擋層和晶籽層的臺階覆蓋性帶來了挑戰(zhàn)。
- 關(guān)鍵字: Novellus 半導(dǎo)體 PVD 32nm
諾發(fā)在臺積電供應(yīng)鏈管理論壇上獲得優(yōu)秀供應(yīng)商獎
- 諾發(fā)公司的VECTOR系統(tǒng)憑借其技術(shù)創(chuàng)新和高效生產(chǎn)力被評為最佳CVD產(chǎn)品 諾發(fā)系統(tǒng)有限公司(Novellus Systems, Inc., Nasdaq股票代碼:NVLS)宣布,該公司的VECTOR®系統(tǒng)在臺積電2006供應(yīng)鏈管理論壇上獲得TSMC頒發(fā)的“2006年度優(yōu)秀CVD供應(yīng)商獎”。350多家TSMC供應(yīng)商參加了這次活動,諾發(fā)公司是獲得“2006年度優(yōu)秀供應(yīng)商獎”殊榮的十一家公司之一。諾發(fā)公司的VECTOR 300mm等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積
- 關(guān)鍵字: NOVELLUS 單片機(jī) 供應(yīng)鏈管理論壇 諾發(fā) 嵌入式系統(tǒng) 臺積電 優(yōu)秀供應(yīng)商獎
NOVELLUS力推用于65-NM以及更小規(guī)格技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)的先進(jìn)平面化系統(tǒng)
- Novellus Systems公司(Nasdaq NM代碼:NVLS)于發(fā)布了用于300-mm晶圓生產(chǎn)的化學(xué)機(jī)械研磨(CMP)平臺,滿足并超越了65nm及其以下規(guī)格標(biāo)準(zhǔn)的技術(shù)和經(jīng)濟(jì)需求。Xceda 完全是為了應(yīng)對新一代多層銅/低k結(jié)構(gòu)中的平面化挑戰(zhàn)而設(shè)計(jì)的,通過將溶劑利用率提高到40%,極大地減小了總擁有成本(CoO)。 Novellus Systems總裁 Sass Somekh博士表示:“我們深信Xceda所提供的核心技術(shù)將引領(lǐng)我們擴(kuò)展到32-nm技術(shù)標(biāo)準(zhǔn),而無需對平臺進(jìn)行分裂性的改進(jìn)。事實(shí)上,近期
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