來自瑞典歌德堡(Gothenburg)的查默斯理工大學(Chalmers University of Technology)的研究人員發(fā)現,以碳納米管來填充采用硅穿孔技術(TSV)連結的 3D芯片堆棧,效果會比銅來得更好。
TSV是將芯片以3D堆棧方式形成一個系統,而非將它們平行排列在電路板上,以提高芯片之間通訊的速度;但遺憾的是,目前用以填充硅晶孔洞的銅,卻會導致熱膨脹(thermal expansion)的問題,因為銅遇熱會比周圍的硅材料膨脹更多。
「碳納米管的許多特性都優(yōu)于銅,包括熱