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PoE接口如何抵御差分模式瞬態(tài)電壓
- 在PoE應用增長的同時,以太網(wǎng)PHY的尺寸也在迅速縮小。目前,以太網(wǎng)PHY大多使用90nm技術(shù)制造,但芯片制造商即將推出采用65nm工藝技術(shù)制造的尺寸更小的產(chǎn)品。事實表明,采用這些先進的制造工藝時,在CMOS上實現(xiàn)有效的芯片級ESD保護是不切實際的,因為芯片面積太小無法提供系統(tǒng)級魯棒性,另外要實現(xiàn)有效的芯片級保護成本也過高。為滿足全球標準的要求、并保證系統(tǒng)的可靠性,時下基于以太網(wǎng)的系統(tǒng)設計越來越強烈地要求使用更好的片外電路保護。
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