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EEPW首頁 >> 主題列表 >> 掩膜
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掩膜介紹

　　MASK(掩膜)：單片機掩膜是指程序數(shù)據(jù)已經(jīng)做成光刻版，在單片機生產(chǎn)的過程中把程序做進去。優(yōu)點是：程序可靠、成本低。缺點：批量要求大，每次修改程序就需要重新做光刻板，不同程序不能同時生產(chǎn)，供貨周期長。 　　在半導體制造中，許多芯片工藝步驟采用光刻技術，用于這些步驟的圖形“底片”稱為掩膜（也稱作“掩模”），其作用是：在硅片上選定的區(qū)域中對一個不透明的圖形模板掩膜，繼而下面的腐蝕或擴散將只影響選 [ 查看詳細 ]

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