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掩膜介紹

  MASK(掩膜):?jiǎn)纹瑱C(jī)掩膜是指程序數(shù)據(jù)已經(jīng)做成光刻版,在單片機(jī)生產(chǎn)的過程中把程序做進(jìn)去。優(yōu)點(diǎn)是:程序可靠、成本低。缺點(diǎn):批量要求大,每次修改程序就需要重新做光刻板,不同程序不能同時(shí)生產(chǎn),供貨周期長(zhǎng)。   在半導(dǎo)體制造中,許多芯片工藝步驟采用光刻技術(shù),用于這些步驟的圖形“底片”稱為掩膜(也稱作“掩?!保渥饔檬牵涸诠杵线x定的區(qū)域中對(duì)一個(gè)不透明的圖形模板掩膜,繼而下面的腐蝕或擴(kuò)散將只影響選 [ 查看詳細(xì) ]

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