美光將于2025年量產(chǎn)1-gamma制程DRAM

9月4日消息，據(jù)中國(guó)臺(tái)灣媒體報(bào)道，中國(guó)臺(tái)灣美光董事長(zhǎng)盧東暉近日接受采訪(fǎng)時(shí)表示，美光有多達(dá) 65% 的 DRAM 產(chǎn)品在中國(guó)臺(tái)灣生產(chǎn)，其中臺(tái)日?qǐng)F(tuán)隊(duì)一起研發(fā)新一代的 1-gamma 制程，是美光第 1 代采用極紫外光（EUV）的制程技術(shù)，將在 2025 年上半年先在臺(tái)中廠(chǎng)量產(chǎn)。

盧東暉表示，這一輪半導(dǎo)體景氣修正有很多“黑天鵝”事件一起發(fā)生，確實(shí)很?chē)?yán)重，包括疫情和俄烏沖突，但好的企業(yè)就是在碰到危境時(shí)能夠沉著應(yīng)對(duì)。美光這次領(lǐng)先示警半導(dǎo)體景氣要開(kāi)始修正，并提前預(yù)做準(zhǔn)備，如今終端客戶(hù)庫(kù)存不斷下降，市場(chǎng)將要探底，產(chǎn)能利用率見(jiàn)底回升；反觀(guān)韓國(guó)三星（Samsung）還要延長(zhǎng)減產(chǎn)行動(dòng)，他認(rèn)為美光比起其他競(jìng)爭(zhēng)者有更多優(yōu)勢(shì)。

盧東暉說(shuō)，雖然目前尚未看到整個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)景氣恢復(fù)，美光產(chǎn)能還未滿(mǎn)載，不過(guò)，DDR5需求越來(lái)越好，高帶寬內(nèi)存（HBM）需求也慢慢變好。美光領(lǐng)先的HBM3和DDR5產(chǎn)品，在電競(jìng)及生成式人工智能（AI）應(yīng)用市場(chǎng)頗受歡迎，年度營(yíng)運(yùn)計(jì)劃正往好的方向調(diào)整。

他強(qiáng)調(diào)，中國(guó)臺(tái)灣和日本是美光非常重要的制造中心，美光有多達(dá)65%的DRAM產(chǎn)品在臺(tái)灣生產(chǎn)；繼日本廠(chǎng)于去年10月開(kāi)始量產(chǎn)1-beta制程技術(shù)后，中國(guó)臺(tái)灣現(xiàn)在也將開(kāi)始量產(chǎn)1-beta制程。

相較上一代的1-alpha制程，美光最新的1-beta制程功耗降低約15%，位元密度提升超過(guò)35%，每顆晶粒容量可達(dá)16Gb，盧東暉看好1-beta制程與DDR5組合的產(chǎn)品性能。

盧東暉進(jìn)一步指出，中國(guó)臺(tái)灣與日本團(tuán)隊(duì)一起研發(fā)新一代的1-gamma制程，是美光第一代采用極紫外光（EUV）的制程技術(shù)，進(jìn)度還不錯(cuò)，計(jì)劃在2025年上半年量產(chǎn)。美光現(xiàn)在只有在臺(tái)中有EUV的制造工廠(chǎng)，1-gamma制程勢(shì)必會(huì)先在臺(tái)中廠(chǎng)量產(chǎn)，日本廠(chǎng)未來(lái)也會(huì)導(dǎo)入EUV設(shè)備。

不過(guò)，EUV設(shè)備不可能只用一代，盧東暉表示，1-gamma之后的1-delta等幾代制程技術(shù)還會(huì)延續(xù)採(cǎi)用EUV。至于DRAM制程會(huì)微縮到何時(shí)，他認(rèn)為目前沒(méi)有人會(huì)有答案。

盧東暉回想他在2000年加入英特爾（Intel）時(shí)，有人說(shuō)65nm之后邏輯電路就到盡頭，不解他為何加入“夕陽(yáng)工業(yè)”，如今臺(tái)積電已量產(chǎn)3nm制程。

盧東暉說(shuō)，“不能低估人類(lèi)的創(chuàng)新能力”，目前看得到還有一些空間，DRAM以后也可能轉(zhuǎn)到3D DRAM，美光還是可以繼續(xù)往前發(fā)展。

編輯：芯智訊-林子